「雰囲気温度」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

金属クロム粉または窒化クロム粉を、常圧下、窒素雰囲気下で加熱処理する際に、加熱温度を１０５０℃未満、または１０５０℃以上〜１５００℃以下に制御し、また加熱処理後の冷却雰囲気を窒素雰囲気または非窒素雰囲気に調整することによって、窒素含有量の異なる窒化クロム粉を製造する。例文帳に追加

The chromium nitride powder having a difference in nitrogen contents is manufactured by controlling the heating temperature to <1050°C or ≥1050°C to ≤1500°C at the time of heating metal chromium powder or chromium nitride powder under a normal pressure and a nitrogen atmosphere and adjusting the cooling atmosphere after heating to a nitrogen atmosphere or a non-nitrogen atmosphere. - 特許庁

パルス幅補正部１０２は、画像データに応じたパルス信号を構成する各パルスのレンズ温度算出部１０５により算出されたコリメータレンズ５の周囲の温度と雰囲気温度算出部１０４により算出された雰囲気温度とに従って補正する。例文帳に追加

Based on the ambient temperature of the collimator lens 5 calculated by the lens temperature calculating section 105 and the atmosphere temperature calculated by the atmosphere temperature calculating section 104, a pulse width correcting section 102 corrects each pulse composing a pulse signal corresponding to image data. - 特許庁

その内容は、保熱炉内の雰囲気温度を常時測定し、その測定値が予め定めた前記一定温度より高温になるように、一般鋼材鋳片で該一定温度以上の状態にあるものを保熱炉へ装入し、該保熱炉の雰囲気温度を上昇させることにある。例文帳に追加

Atmospheric temperature in the heat retention furnace is always measured and the measured temperature is raised so as to be higher than the predetermined designated temperature by charging other general steel slabs having a higher temperature than the designated temperature into the heat retention furnace. - 特許庁

熱風乾燥炉３内における熱風による塗工液の乾燥を、逆転温度よりも低温の雰囲気温度の下で行い、熱処理炉５内における過熱蒸気による塗工液の乾燥および硬化を、逆転温度よりも高温の雰囲気温度の下で行うこと。例文帳に追加

Drying of the coating liquid by hot air in a hot air drying furnace 3 is performed under an atmospheric temperature lower than an inversion temperature, and drying and hardening of the coating liquid by superheated steam in a heat treatment furnace 5 is performed under an atmospheric temperature higher than the inversion temperature. - 特許庁

雰囲気圧を加熱開始時点から１３３３〜６６６５Ｐａの範囲の減圧下で成形し、積層体５の温度がプリプレグ２のガラス転移温度より２０℃低い温度以上１０℃高い温度以下に達したときに、上記雰囲気圧の減圧を解除する。例文帳に追加

The method further comprises the steps of molding the laminates in an atmospheric pressure of a reduced pressure of a range of 1333 to 6665 Pa from a heating starting time point, and releasing the pressure reduction of the atmospheric pressure when a temperature of the laminate 5 becomes a temperature or lower by 20 to 10°C than a glass transition temperature of the prepreg 2. - 特許庁

堆積後に、半導体基板１６を少なくとも真空中、不活性雰囲気又は水素を含む不活性雰囲気で１０００〜１５００℃の温度でアニ−ル処理することが好ましい。例文帳に追加

It is preferable that the semiconductor substrate 16 is annealed at 1000-1500°C at least in vacuum, inert atmosphere or the inert atmosphere containing hydrogen. - 特許庁

ポリイミド樹脂を含酸素雰囲気中、一般には空気雰囲気中で500〜650℃の温度で熱分解させて得られたポリイミド樹脂の粉砕物よりなる吸着材。例文帳に追加

The adsorbent is made of crushed material of polyimide resin obtained by thermally decomposing the polyimide resin at 500-650°C in an atmosphere containing oxygen, generally in an atmosphere containing air. - 特許庁

上記シリコンウェーハを１００％酸素雰囲気下又は酸素と窒素の混合雰囲気下、１１３０〜１２００℃の温度で１分〜６時間熱処理する。例文帳に追加

The silicon wafer is heat- treated for one minute to 6 hours at a temperature of 1130 to 1200°C under an atmosphere of 100% of oxygen of under an atmosphere mixed oxygen with nitrogen. - 特許庁

混合粉砕した硫化物蛍光体材料の粉末は、不活性ガス雰囲気中又は真空中で乾燥させた後、不活性ガス雰囲気中において９５０〜１０５０℃の温度で焼成して硫化物蛍光体とする。例文帳に追加

Powders obtained by mixing and grinding the sulfide phosphor material are dried under inert gas atmosphere or in vacuum, and then sintered at 950-1,050°C under inert gas atmosphere to give sulfide phosphor. - 特許庁

触媒金属前駆体を非酸化性雰囲気下、好ましくは不活性ガスまたは炭化水素ガス雰囲気下で２００〜１０００℃の温度範囲に加熱して賦活化して触媒を得る。例文帳に追加

A catalytic metal precursor is heated in the temperature range of 200 to 1,000°C to be activated under a non-oxidizing atmosphere and preferably, under an inert gas or hydrocarbon gas to obtain a catalyst. - 特許庁

触媒に酸化性雰囲気中でエネルギービームを照射することで触媒が急激に加熱されて急激な温度上昇を生じ雰囲気中の酸素と結合し、冷却されて微細構造化した触媒２ｂとなる。例文帳に追加

The catalyst is radically heated up causing a drastic rise in temperature by irradiating the catalyst with the energy beam in the oxidizing atmosphere, bonded with oxygen in the atmosphere, and cooled to be a catalyst 2b with a fine-structure. - 特許庁

一般式１で表されるホウ素化合物をビニル系モノマーの重合開始剤として用い、２０±５％の酸素を含む雰囲気下、例えば、空気雰囲気下、温度３０℃〜１２０℃においてビニル系モノマーをリビング重合する方法。例文帳に追加

The subject method comprises performing the living polymerization of a vinyl monomer in the presence of a polymerization initiator being a boron compound represented by formula 1 in an atmosphere (e.g., air) containing 20±5% oxygen at 30 to 120°C. - 特許庁

不快感を与えるような雰囲気が滞留せず、乳幼児の成育及び健康に適した雰囲気、温度、湿度に換気することができる乳母車用カバーを提供する。例文帳に追加

To provide a baby carriage cover, capable of ventilating to an atmosphere, the temperature and humidity suitable for growth and health of a baby, without stagnating an atmosphere such as imparting an unpleasant feeling. - 特許庁

次いで乾燥した粉末混合物を溶融温度以上（５７５℃）に加熱し、さらに窒素雰囲気下で数時間５７５℃で加熱を続ける（この溶融プロセスは減圧雰囲気で行ってもよい）。例文帳に追加

The dried powder mixture is heated at the melting temperature (575°C) or higher and further continued to be heated at 575°C for several hours under nitrogen atmosphere(this melting process may be carried out under reduced pressure atmosphere). - 特許庁

溶射雰囲気の高温度下で発揮性の高い酸化物を形成する合金元素を原料に添加し、溶射中にこれらの元素が雰囲気中の酸素と優先的に反応して蒸発することによって達成される。例文帳に追加

According to the invention, alloy elements forming oxides having high demonstration ability at high temperature in a spraying atmosphere are added to raw materials, and these elements are allowed to preferentially react with oxygen in the atmosphere during spraying, so as to be evaporated. - 特許庁

窒化アルミニウムからなる物体の体積比抵抗を、アルゴンからなる雰囲気のような、窒素が不足している雰囲気中で少なくとも約１０００℃の浸漬温度にその物体を曝すことにより低減される。例文帳に追加

The volume resistivity of the body consisting essentially of aluminum nitride is reduced by exposing the body to a soak temperature of at least about 1,000°C in an atmosphere deficient in nitrogen, such as an atmosphere consisting essentially of argon. - 特許庁

上記酸化雰囲気帯は、鋼板温度が300〜850℃となる帯域に設けるのがよく、また、酸化雰囲気帯は外気吸引ブロワー及び吸引ブロワーを設けることによって構成するのがよい。例文帳に追加

The oxidative atmosphere zone is preferably established within a zone wherein the steel sheet temperature reaches 300-850°C and equipped with an outside-air suction blower and an exhaust blower. - 特許庁

ガラス管１，２の内側３と外側４の少なくとも一方の雰囲気を、ガラス管１，２が加熱軟化する温度において化学的に不活性なガス７を主成分とする雰囲気とする。例文帳に追加

Chemically inert gas 7 at the temperature of heating and softening the glass pipe 1, 2 is a main component of an atmosphere in at least one of the inside 3 and the outside 4 of the glass pipe 1, 2. - 特許庁

ポリシラザンの塗布膜が形成されたウエハＷに対して、水蒸気雰囲気、減圧雰囲気の下、２００℃の温度で熱処理を行って（予備処理）塗布膜に含まれる溶媒成分を除去する。例文帳に追加

A wafer W wherein a polysilazane coating film is formed is heated at 200°C in a steam atmosphere and a pressure-reduced atmosphere (preliminary treatment) so as to remove a solvent element containing in the coating film. - 特許庁

本発明は、製紙工程で発生する製紙汚泥廃棄物を貧酸素雰囲気で炭化する工程３と、炭化物中の炭素成分を雰囲気ガス温度が６５０℃以上で燃焼させる脱炭素工程４とを備える。例文帳に追加

The method comprises a step 3 of carbonizing a papermaking sludge waste produced in a papermaking process in an oxygen-poor atmosphere, and a decarbonizing step 4 of burning a carbon component of the carbonized product at a surrounding gas temperature of not lower than 650°C. - 特許庁

酸化マグネシウム薄膜を、還元性ガス雰囲気下にて、あるいは圧力１０Ｐａ以下の減圧下もしくは減圧プラズマ雰囲気下にて１００〜１２００℃の温度に加熱することからなる酸化マグネシウム薄膜の改質方法。例文帳に追加

In this reforming method for the magnesium oxide thin film, the magnesium oxide thin film is heated at 100-1,200 °C under a reducing gas atmosphere or under a reduced pressure at 10 Pa or less or under a reduced pressure plasma atmosphere. - 特許庁

具体的には、静電場雰囲気が、１００〜３００００Ｖの直流又は交流のいずれかの電圧が印加されて静電場雰囲気が形成され、温度が−２０〜０℃のいずれかである食品商品供給用保管庫とする。例文帳に追加

As an embodiment, the storage for food commodity supply is formed with the electrostatic field atmosphere by applying either DC or AC voltage of 100-30000 V and has a temperature of -20-0°C. - 特許庁

したがって、基板が所定の温度以上に加熱される際には、基板の周囲の雰囲気を常に低酸素濃度雰囲気にしているので、誘電率の低い所定の膜を形成することができる。例文帳に追加

Accordingly, when the substrate is heated to the specified temperature or over, the atmosphere around the substrate is always put in low-oxygen concentration atmosphere, so a specified film low in dielectric constant can be made. - 特許庁

次に水蒸気雰囲気、減圧雰囲気の下、６００℃以上８００℃以下の温度でウエハに対して第２の熱処理を行って、ポリシラザン膜に含まれるＯＨ基に由来する成分を除去する。例文帳に追加

Then, the wafer W is secondly heated at ≥600°C and ≤800°C in a steam atmosphere and a pressure-reduced atmosphere so as to remove an element originating from an OH group containing in the polysilazane film. - 特許庁

次いで水蒸気雰囲気、減圧雰囲気の下、３９０℃以上４１０℃以下の温度でウエハに対して第１の熱処理を行って、ポリシラザン膜の骨格を形成する。例文帳に追加

Next, the wafer W is firstly heated at ≥390°C and ≤410°C in a steam atmosphere and a pressure-reduced atmosphere so as to from the frame of a polysilazane film. - 特許庁

非晶質半導体膜を形成したガラス基板を、結晶化に必要な温度以上の処理雰囲気内に導入することにより、処理雰囲気からの熱伝導による急速加熱を行って、非晶質半導体膜を結晶化させる。例文帳に追加

The noncrystalline semiconductor film is rapidly heated by heat conduction from the process atmosphere and crystallized. - 特許庁

一台の摩耗試験装置で種々の異なるガス雰囲気下での摩耗試験を行うことができ、しかもある燃料を使用した場合の雰囲気及び温度を所定状態に設定できる摩耗試験装置を提供することである。例文帳に追加

To provide an abrasion tester capable of performing abrasion tests under various different atmospheres by one abrasion tester and capable of setting an atmosphere and a temperature to a predetermined state in a case using a certain fuel. - 特許庁

前記第１の脱脂工程において、雰囲気中のオゾン濃度は、５０〜１００００ｐｐｍであるのが好ましく、雰囲気の温度は、５０〜１８０℃であるのが好ましい。例文帳に追加

In the first degreasing stage, the concentration of the ozone in the atmosphere is preferably 50 to 10,000 ppm, and the temperature of the atmosphere is preferably 50 to 180°C. - 特許庁

前記第１の脱脂工程において、雰囲気中のオゾン濃度は、５０〜１００００ｐｐｍであるのが好ましく、雰囲気の温度は、２０〜１８０℃であるのが好ましい。例文帳に追加

In the first degreasing stage, the concentration of the ozone in the atmosphere is preferably 50 to 10,000 ppm, and the temperature of the atmosphere is preferably 20 to 180°C. - 特許庁

そして、ＮＯｘトラップ触媒１２が脱離浄化特性を示す温度以上であることを条件として、脱離浄化時期と判定し、リーン雰囲気からストイキないしリッチ雰囲気に切換える。例文帳に追加

Elimination and purification timing is determined on condition that temperature of the NOx trapping catalyst 12 is temperature demonstrating elimination and purification characteristics or higher, lean atmosphere is changed over to stoichiometric or rich atmosphere. - 特許庁

塗布膜を酸性雰囲気下で加熱した後、昇温用ヒータ１２により、反応管２内を所定の温度に昇温するとともに、半導体ウエハ１０の塗布膜を酸性雰囲気下で加熱する。例文帳に追加

After the coating film is heated under acid atmosphere, temperature in the reaction tube 2 is raised to a specified level by means of the temperature rising heater 12 and the coating film of the semiconductor wafer 10 is heated under acid atmosphere. - 特許庁

次に、この大気雰囲気の温度からの差異が５℃以下に制御された雰囲気の別の室内に成形体２４を搬送し、そこで焼結工程を実行する。例文帳に追加

Next, the molding 24 is carried into another chamber having the atmosphere in which difference in temperature from the atmosphere is controlled to ≤5°C, and the sintering step is performed therein. - 特許庁

静電場雰囲気での保存温度は、−２０〜４０℃であり、静電場雰囲気でなければ微生物やヒトを含む動物由来物が凍結しうる−１２〜−１℃でも凍結させることなく保存することができる。例文帳に追加

The temperature for storage in the atmosphere of electrostatic field ranges from -20 to 40°C, and storage without freezing can be performed even at -12 to -1°C at which materials derived from microbes and animals including human are frozen without the atmosphere of electrostatic field. - 特許庁

高温雰囲気側と低温熱雰囲気側との境界の壁（界壁）に温度差による変形生じたとしても高い発電出力を得ることができる熱電変換発電装置を提供する。例文帳に追加

To provide a thermoelectric conversion power generator capable of generating a high power generation output even if a wall (boundary wall) of a border between a high-temperature atmosphere side and a low-temperature atmosphere side deforms owing to a temperature difference. - 特許庁

低圧側は吸入雰囲気温度であるため、オイルの高温雰囲気での劣化と、高温のオイルが吸入冷媒と混じり冷媒を加熱することによって生ずる冷媒流量の低下を防ぐことができる。例文帳に追加

Since the low pressure side is the suction atmospheric temperature, the deterioration in oil in a high temperature atmosphere and reduction in a refrigerant flow rate caused by heating the refrigerant by mixing the high temperature oil with the suction refrigerant, can be prevented. - 特許庁

また、製造方法は、少なくともシリコーンゴム１０重量％含む組成物を所定形状に成形後、該成形物を酸化雰囲気下及び／又は非酸化雰囲気下で温度３００〜１４００℃で焼成することを特徴とする。例文帳に追加

In its production method, a composition at least containing 10 wt.% silicone rubber is molded so as to be made into a prescribed shape, and after that, the molding is fired at 300 to 1,400°C in an oxidizing atmosphere and/or a nonoxidizing atmosphere. - 特許庁

上下一対の金型内でガラス素材をプレス成形することにより光学素子を製造する方法において、成形雰囲気全体を閉空間にするとともに、成形雰囲気の温度変動を±５℃以内に制御する。例文帳に追加

In the method for manufacturing the optical element by performing press-molding of a glass material in a pair of upper and lower dies, the entire molding atmosphere is prepared as a closed space, and the temperature variation in the molding atmosphere is controlled to ±5°C. - 特許庁

窒化処理温度への昇温過程で、かつ、硫化水素を含む窒素ガス雰囲気中で不動態被膜を有する鋼材を加熱して硫化処理した後、窒化雰囲気中で所定時間加熱保持して窒化処理する。例文帳に追加

In a temp. rising stage to a nitriding treating temp. and also in a gaseous nitrogen atmosphere contg. hydrogen sulfide, steel having a passive film is heated, is subjected to sulfurizing treatment, is thereafter held under heating for a prescribed time in a nitriding atmosphere and is subjected to nitriding treatment. - 特許庁

次いで、O_2≧0.1%を含有する雰囲気中で酸化処理した後、還元性雰囲気中で、700〜900℃の温度で還元処理し、次いで、冷却し、溶融亜鉛めっき処理、場合によっては合金化処理を施す。例文帳に追加

The steel sheet is next subjected to oxidation treatment in an atmosphere containing ≥0.1% O_2, is thereafter subjected to reduction treatment at 700 to 900°C in a reducing atmosphere, is then subjected to cooling and hot dip galvanizing treatment, and, if required, is subjected to alloying treatment. - 特許庁

次に、この大気雰囲気の温度からの差異が５℃以下に制御された雰囲気の別の室内に成形体２４を搬送し、そこで焼結工程を実行する。例文帳に追加

Next, the molding 24 is carried into another chamber of the atmosphere controlled so that the difference in temperature form the temperature in this atmospheric condition is controlled to be not greater than 5°C, and the sintering process is carried out in the chamber. - 特許庁

鋼板を通板しながら連続的に熱処理し、冷却するに際し、冷却中の鋼板温度が７００℃以上の範囲における雰囲気を酸素含有雰囲気とする鋼板の連続焼鈍方法。例文帳に追加

The method for continuously annealing the steel sheet is characterized by making an atmosphere in which temperatures of the steel sheet while being cooled are 700°C or higher, to be an oxygen-containing atmosphere, when continuously heat-treating the steel sheet and cooling it while passing it. - 特許庁

槽２内の所望雰囲気中の試料９に対して、特定の光を照射して、該試料の耐光性試験を行うときに、槽２から出た雰囲気を循環させるときに、冷凍手段や加熱手段にて温度調整する。例文帳に追加

When a light fastness test of a sample is performed by irradiating a sample 9 in a desired atmosphere in a tank 2 with specific light, the temperature of the atmosphere issued from the tank 2 is adjusted by a freezing or heating means to circulate the atmosphere. - 特許庁

感光体回転時間、感光体停止時間、雰囲気環境の温度、雰囲気環境の絶対湿度、感光体の回転速度に応じて、画像形成条件を制御し、適切な画像形成制御を行う画像形成装置。例文帳に追加

The image forming apparatus performs appropriate image formation control by controlling image forming conditions based on a photosensitive member rotation time, a photosensitive member stop time, a temperature of the environment, an absolute humidity of the environment, and the rotation speed of the photosensitive member. - 特許庁

面配向度（Ｐ）が０．１２〜０．２０の範囲にあるフィルム状前駆体を、不活性気体雰囲気中、昇温速度０．１〜５０℃／分にて８００〜３５００℃の雰囲気温度まで昇温加熱処理する。例文帳に追加

A film-like precursor having a plane orientation degree (P) in the range of 0.12-0.20 is heated to an atmosphere temperature of 800-3,500°C with a temperature raising speed of 0.1-50°C/min in an inert gas atmosphere. - 特許庁

活性炭担体上への貴金属化合物の固定化工程で貴金属化合物担持活性炭を好ましくは不活性ガス雰囲気下、例えば窒素雰囲気下で、好ましくは温度１００〜４５０℃で、好ましくは１〜３時間以上熱処理する。例文帳に追加

In the process for fixing the noble metal compd. on the activated carbon carrier, the noble metal compd. supported activated carbon is heat-treated pref. at 100-450°C for 1-3 hr or more in an inert gas atmosphere, for example, in a nitrogen atmosphere. - 特許庁