「C ACID」に関連した英語例文の一覧と使い方(67ページ目) - Weblio英語例文検索

The composition comprises an epoxy (meth)acrylate obtained by reacting (A) a (meth)acrylate containing a hydroxy group, (B) an acid anhydride and (C) a di-or higher functional epoxy resin with one another, and optionally (D) a compound containing a (meth)acryloyl group.例文帳に追加

ヒドロキシ基含有（メタ）アクリレート（Ａ）と酸無水物（Ｂ）と二官能以上のエポキシ樹脂（Ｃ）とを反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート、及び必要に応じて加えられる（メタ）アクリロイル基含有化合物（Ｄ）を含有する。 - 特許庁

(A) An oily component, (B) at least one anionic surfactant selected from sulfate type anionic surfactants and sulfonic acid type anionic surfactants, (C) a nonionic surfactant, (D) a layered clay mineral, and (E) water.例文帳に追加

（Ａ）油性成分（Ｂ）硫酸エステル型アニオン性界面活性剤およびスルホン酸型アニオン性界面活性剤から選ばれた少なくとも１種のアニオン性界面活性剤（Ｃ）非イオン性界面活性剤（Ｄ）層状粘土鉱物（Ｅ）水 - 特許庁

The condensed neutral liquid detergent composition for hard surfaces comprises (A) 0.1-14 mass% of an alkanesulfonic acid salt, (B) 12-40 mass% of a polyoxyalkylene alkyl ether, (C) 10-40 mass% of an alkyl polyglucoside, and (D) water.例文帳に追加

（Ａ）アルカンスルホン酸塩 ０．１〜１４質量％、（Ｂ）ポリオキシアルキレンアルキルエーテル １２〜４０質量％、（Ｃ）アルキルポリグルコシド １０〜４０質量％、及び（Ｄ）水を含有することを特徴とする硬表面用濃縮中性洗浄剤組成物。 - 特許庁

The polishing composition is composed of (A) benzotriazole, (B) tartaric acid, (C) hydrogen peroxide, (D) polyvinyl alcohol, (E) quinolinol, and (F) water, where the concentration of (A) benzotriazole in the composite for polishing is 0.01-3 wt.%.例文帳に追加

（Ａ）ベンゾトリアゾール、（Ｂ）酒石酸、（Ｃ）過酸化水素、（Ｄ）ポリビニルアルコール、（Ｅ）キノリノールおよび（Ｆ）水よりなる研磨用組成物であり、（Ａ）ベンゾトリアゾールの研磨用組成物中の濃度が０．０１〜３重量％である研磨用組成物である。 - 特許庁

This method comprises finishing the previous and main washing of the rubber-fitted mat with electrolyzed alkali water having a pH of at least 12 and heated to 40 to 50°C, neutralizing and rinsing it in electrolyzed acid water, and lastly rinsing it with cold water.例文帳に追加

４０〜５０℃に加温した少くともｐＨ１２以上の電解アルカリ水を用いて、ラバー付きマットの予備洗浄と本洗浄を済ませた後、電解酸性水で中和すすぎ洗浄を行い、最後に冷水ですすぎ洗浄を行う。 - 特許庁

In the cleaning agent used after a chemical mechanical polishing process in the semiconductor device manufacturing process, (A) polycarboxylic acid, (B) anionic surfactant, and (C) a tetrazole derivative are contained, and the pH is in a range of 1 to 5.例文帳に追加

半導体デバイス製造工程における化学的機械的研磨工程の後に用いられる洗浄剤であって、（Ａ）ポリカルボン酸、（Ｂ）アニオン性界面活性剤、及び、（Ｃ）テトラゾール誘導体を含み、ｐＨが１〜５であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing [2-amino-1,4-dihydro-6-methyl-4-(3-nitrophenyl)-3,5-pyridinedicarboxylic acid 3-(1-diphenylmethylazetidin-3-yl)ester 5-isopropyl ester] having a melting point of 120-124°C useful as a hypotensive drug.例文帳に追加

降圧薬として有用な融点１２０〜１２４℃を有する[２−アミノ−１，４−ジヒドロ−６−メチル−４−（３−ニトロフェニル）—３，５−ピリジンジカルボン酸 ３−（１−ジフェニルメチルアゼチジン−３−イル）エステル ５−イソプロピルエステル]の製造法を提供する。 - 特許庁

The waxy emulsified hair-dressing agent contains (A) a wax exhibiting solid state at room temperature and/or a hydrocarbon exhibiting solid state at room temperature, (B) a nonionic surfactant, and (C) a benzophenone derivative and/or a p-methoxycinnamic acid derivative.例文帳に追加

（Ａ）室温で固形のロウ類および／又は室温で固形の炭化水素類、（Ｂ）非イオン性界面活性剤、並びに（Ｃ）ベンゾフェノン誘導体および／又はパラメトキシ桂皮酸誘導体を含有してなるワックス状乳化型整髪剤とする。 - 特許庁

The low odor oxygen absorbent resin composition comprises (a) a resin component with a carbon-carbon unsaturated bond and a hydroxy group and (b) an acid catalyst, and has an oxygen absorption of 5 ml/g (22°C, 0% RH) or more.例文帳に追加

炭素−炭素不飽和結合及び水酸基を有する樹脂成分（ａ）、及び酸触媒（ｂ）から成り、酸素吸収量が５ｍｌ／ｇ（２２℃、０％ＲＨ）以上であることを特徴とする低臭性酸素吸収性樹脂組成物。 - 特許庁

This polycarbonate-based resin composition for thin molded articles having improved bending resistance comprises a polycarbonate-based resin (A), a rubber-modified styrenic resin (B) modified with a dienic rubber component, an acid-modified olefin compound (C), and carbon fibers (D).例文帳に追加

ポリカーボネート系樹脂（Ａ）と、ジエン系ゴム成分で変性されたゴム変性スチレン系樹脂（Ｂ）と、酸変性オレフィン化合物（Ｃ）と、炭素繊維（Ｄ）とで、耐屈曲性が改善された薄肉成形用ポリカーボネート系樹脂組成物を構成する。 - 特許庁

This neutral detergent composition for hard surface is characterized by containing (A) 5-20 mass% of a linear alkylbenzene sulfonate, (B) 2-10 mass% of a polyoxyalkylene alkyl ether, (C) 0.5-5 mass% of a fatty acid alkanol amide, and (D) water.例文帳に追加

（Ａ）直鎖アルキルベンゼンスルホン酸塩 ５〜２０質量％、（Ｂ）ポリオキシアルキレンアルキルエーテル ２〜１０質量％、（Ｃ）脂肪酸アルカノールアミド ０．５〜５質量％、及び（Ｄ）水を含有してなる硬表面用中性洗浄剤組成物。 - 特許庁

A gramineous plant resistant to diseases is prepared by introducing a chitinase C gene derived from actinomycete of the family 19 containing a conserved region of an amino acid sequence close to a vegetable into a gramineous plant and expressing the gene.例文帳に追加

植物に近いアミノ酸配列の保存領域を有するファミリー１９に属している放線菌由来のキチナーゼＣ遺伝子をイネ科植物に導入、発現させることにより、病害抵抗性イネ科植物を作製する。 - 特許庁

This antimicrobial apatite is produced by firing a calcium-excess type hydroxyapatite obtained by reacting hydroxy calcium with phosphoric acid regulated so that the molar ratio of the Ca/P may be within the range of 1.8-5.0, at 700-1,200°C.例文帳に追加

この抗菌性アパタイトは、水酸化カルシウムとリン酸とをＣａ／Ｐのモル比が１．８〜５．０の範囲内となるように反応させて得られるカルシウム過剰型ハイドロキシアパタイトを７００℃〜１２００℃の範囲内で焼成して製造できる。 - 特許庁

This adhesion-treating agent for the fiber and rubber is obtained by blending a polyepoxide compound, a blocked polyisocyanate compound, a silicate compound, and rubber latex of an ethylenically unsaturated acid-modified styrene-butadiene which has a glass transition point (Tg) of 0-35°C.例文帳に追加

ポリエポキシド化合物、ブロックドポリイソシアネート化合物、ケイ酸塩化合物、およびガラス転位温度（Ｔｇ）が０℃〜３５℃であるエチレン系不飽和酸変成スチレン・ブタジエンゴムラテックスを配合してなることを特徴とするゴム・繊維用接着処理剤。 - 特許庁

This aqueous resin composition for the wood-based materials contains an aqueous resin-curing accelerator consisting mainly of (A) a cobalt metal soap, (B) an aminoalcohol, and (C) a surfactant, and an aqueous resin having unsaturated fatty acid groups in the molecule as essential components.例文帳に追加

コバルト金属石鹸（Ａ）、アミノアルコール（Ｂ）、界面活性剤（Ｃ）を必須成分とする水系樹脂用硬化促進剤と、分子内に不飽和脂肪酸基を有する水系樹脂を必須成分とする木質材料用水系樹脂組成物。 - 特許庁

This composition for the optical semiconductor encapsulation contains (A) an alicyclic epoxy compound, (B) a carboxylic acid anhydride-based curing agent, (C) a curing promotor and (D) an inorganic oxide particle with a primary average particle size of ≤100 nm.例文帳に追加

（Ａ）脂環式エポキシ化合物、（Ｂ）カルボン酸無水物系硬化剤、（Ｃ）硬化促進剤および（Ｄ）一次平均粒径が１００ｎｍ以下の無機酸化物粒子を含有することを特徴とする光半導体封止用組成物。 - 特許庁

The composition for abrasive comprises (A) a grinding agent comprising an organic polymer with 5-500 nm of average particle size, (B) benzotriazole or its derivative, (C) an organic acid, (D) hydrogen peroxide, (E) polyvinyl alcohol and (F) water.例文帳に追加

（Ａ）研磨材、（Ｂ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素、（Ｅ）ポリビニルアルコール及び（Ｆ）水からなり、研磨材が、平均粒径５〜５００ｎｍの範囲にある有機高分子化合物からなる研磨用組成物である。 - 特許庁

The rubber composition comprising acrylonitrile-butadiene rubber (preferably an amount of combined acrylonitrile is 30-50%) and inorganic acid salt of copper (II) (preferably copper sulfate anhydride) is heated preferably at 150-200°C for 10-60 minutes.例文帳に追加

アクリロニトリル−ブタジエンゴム（好ましくは、結合アクリロニトリル量が、３０〜５０％であるもの。）と、銅（II）の無機酸塩（好ましくは、硫酸銅無水物など。）と、を含有するゴム組成物を、好ましくは、１５０〜２００℃で、１０〜６０分間加熱する。 - 特許庁

The aqueous suspension preparation for direct scattering on the paddy field under flooding comprises the weeding active ingredient, a fatty acid ester of sucrose, an anionic surfactant and water, and has ≤35 mN/m surface tension at 20°C.例文帳に追加

除草活性成分、ショ糖脂肪酸エステル、陰イオン界面活性剤および水よりなり、２０℃における表面張力が３５ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする、湛水下水田の直接散布用水性懸濁製剤。 - 特許庁

In the manufacturing method for the novolak resin, 2,7-dihydroxynaphthalene and formaldehyde are reacted in the presence of p-toluenesulfonic acid in a range of 50-100°C in a ratio of 0.5-1.3 mol of formaldehyde relative to 1 mol of 2,7-dihydroxynaphthalene.例文帳に追加

２，７−ジヒドロキシナフタレンとホルムアルデヒドとを、ｐ−トルエンスルホン酸の存在下、２，７−ジヒドロキシナフタレン１モルに対しホルムアルデヒドを０．５〜１．３モルの割合で、５０〜１００℃の範囲で反応させることを特徴とするノボラック樹脂の製造方法。 - 特許庁

This method for detecting nucleic acid derived from Cryptosporidium parvum comprises the steps of amplifying DNA having a base sequence specifically found in C. parvum, and hybridizing the obtained amplification product with a probe.例文帳に追加

クリプトスポリジウム・パルバムに特異的に見出される塩基配列を含むＤＮＡを増幅する工程、及び、得られた増幅生成物とプローブとをハイブリダイゼーションさせる工程を有するクリプトスポリジウム・パルバムに由来する核酸の検出方法。 - 特許庁

This composition for molding the sweeping mold consists of an aggregate (A), an alkali resol type phenol resin (B) and a water soluble macromolecule (C) of one or more kinds selected from cellulose derivative series, protein series, polysaccaride series, polyvinyl series, polyacrilic acid series and polyurethane series.例文帳に追加

骨材（Ａ）、アルカリレゾール型フェノール樹脂（Ｂ）、繊維素誘導体系、タンパク質系、多糖類系、ポリビニル系、ポリアクリル酸系及びポリウレタン系から選ばれる１種以上の水溶性高分子（Ｃ）を含有するかき型造型用組成物。 - 特許庁

In the method, (A) is m-xylylenediamine or p-xylylenediamine, (B) is a polyfunctional compound having an acyl group which reacts with a polyamine to form an amide group part and an oligomer, and (C) is a divalent or multivalent metal salt of (meth)acrylic acid.例文帳に追加

（Ａ）メタキシリレンジアミン又はパラキシリレンジアミン（Ｂ）ポリアミンとの反応によりアミド基部位を形成し、且つオリゴマーを形成し得る、１つのアシル基を有する多官能性化合物（Ｃ）二価以上の金属から形成される（メタ）アクリル酸金属塩 - 特許庁

The liquid pharmaceutical composition comprises (a) the HIV protease inhibitor, (b) an organic solvent comprising a mixture of a long chain fatty acid and an alcohol, (c) a surfactant, wherein the liquid preparation is encapsulated in either hard gelatin capsules or soft elastic capsules (SEC).例文帳に追加

（ａ）ＨＩＶプロテアーゼ阻害薬、（ｂ）長鎖脂肪酸とアルコールの混合物を有する有機溶媒、（ｃ）界面活性剤、を含有する液剤を、硬ゼラチンカプセルまたは軟カプセル（ＳＥＣ）のいずれかに封入した医薬組成物。 - 特許庁

The polishing solution not containing solid abrasive grain and being used for chemical-mechanical polishing in a process for planalizing a semiconductor integrated circuit contains (A) a benzotriazol derivative represented by general formula (1), (B) acid, and (C) a water soluble polymer.例文帳に追加

半導体集積回路の平坦化工程において化学的機械的研磨に用いる固体砥粒を含まない研磨液であって、（Ａ）一般式（１）で示されるベンゾトリアゾール誘導体、（Ｂ）酸、（Ｃ）水溶性高分子を含む研磨液。 - 特許庁

The polyimide film, obtained from a polyamic acid using 3,4'-oxydianiline as the diamine component, has a number of times of folding endurance (MIT) of ≥20,000 and a coefficient of linear expansion (CTE) of 13-22 ppm/°C.例文帳に追加

ジアミン成分に３，４’−オキシジアニリンを用いたポアリミド酸から得られるポリイミドフィルムにおいて、耐折回数（ＭＩＴ）が２００００以上であり、かつ線膨張係数（ＣＴＥ）が１３ｐｐｍ／℃〜２２ｐｐｍ／℃であることを特徴とするポリイミドフィルム。 - 特許庁

A nitric acid solution of platinum and zirconium is applied on the conductive metal base body so that a platinum catalyst amount, containing platinum and zirconium, is 2 to 10 g/m^2 and thermally decomposed at 300 to 550°C after being dried.例文帳に追加

導電性金属基体上に白金及びジルコニウムを含み、白金触媒量が２〜１０ｇ／ｍ^2となるように白金及びジルコニウムの硝酸酸性水溶液を塗布し、乾燥後、３００〜５５０℃の温度で熱分解する。 - 特許庁

Mono specific monoclonal antibody is used as an essential component, wherein the antibody includes the C-terminal part of a u-PAR molecule and connects a part of the u-PAR molecule starting from an amino acid residue of 88-position.例文帳に追加

ｕ−ＰＡＲ分子のＣ末端部を含んでおり、そして、完全ｕ−ＰＡＲ分子の第８８位アミノ酸残基で始まるｕ−ＰＡＲ分子の部分に結合する、モノ特異性モノクローナル抗体を必須成分として使用する。 - 特許庁

In this rhodium recovery method, the easily pulverizable rhodium sponge can be obtained by adding formic acid to an aqueous solution of ammonium hexachlorinated rhodiumate to reduce and recover rhodium in the form of rhodium black and then the rhodium black is fired in a reducing atmosphere at 700 to 900°C.例文帳に追加

ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム水溶液にギ酸を添加して、ロジウムをロジウムブラックとして還元回収した後、ロジウムブラックを還元雰囲気中において700〜900℃で焼成し、粉砕容易なロジウムスポンジを得るロジウムの回収方法。 - 特許庁

This skin preparation for external use is compounded (a) one or more retinoid compounds selected from retinoid compounds, (b) one or more compounds selected from catechin compounds and tannin compounds, (c) an acrylic acid-alkyl methacrylate, and (d) a basic substance.例文帳に追加

水中油型乳化系皮膚外用剤に、（ａ）レチノイド類から選ばれる一種以上、（ｂ）カテキン類およびタンニン類から選ばれる一種以上、（ｃ）アクリル酸とメタクリル酸アルキルとの共重合体および（ｄ）塩基性物質を配合する。 - 特許庁

The emulsion ink for stencil printing composed of an oil phase and a water phase contains an alkyd resin having an average molecular weight of <5,000, and a fatty acid amide or silica, wherein the oil phase contains no solvent having a boiling point of <240°C.例文帳に追加

油相および水相からなる孔版印刷用エマルションインクにおいて、油相に沸点が２４０℃未満の溶剤を含まず、平均分子量が５，０００未満のアルキド樹脂と、脂肪酸アミドまたはシリカとを含むものとする。 - 特許庁

This sheet-formed cosmetic for skin cleaning is obtained by impregnating a composition containing (A) ethylene glycol monoether and/or diethylene glycol ether, (B) an α-hydroxy acid and/or its salt, (C) polysaccharides and (D) water in a sheet-formed substrate.例文帳に追加

（Ａ）エチレングリコールモノエーテルおよび／又はジエチレングリコールエーテル、（Ｂ）α−ヒドロキシ酸および／又はその塩、（Ｃ）糖類、および（Ｄ）水を含有する組成物をシート状基材に含浸させてなる皮膚洗浄用シート状化粧料とする。 - 特許庁

The flame-retardant injection-molded body has a composition comprising a resin composition (A) mainly composed of a lactic acid-based resin, a metal hydroxide (B) having its surface treated with a silane coupling agent and an aromatic carbodiimide (C).例文帳に追加

乳酸系樹脂を主成分とする樹脂組成物（Ａ）と、シランカップリング剤によって表面処理を施された金属水酸化物（Ｂ）と、芳香族カルボジイミド（Ｃ）とを配合してなる組成を備えた難燃性射出成形体を提案する。 - 特許庁

Dried powder of chlorophyll and/or pheophytin-containing plant or ground material of a koji is mixed with (1) citric acid and a surfactant or (2) a water-soluble calcium salt, vitamin C and a surface active solvent and water and adjusted to pH 7-9.例文帳に追加

クロロフィル及び／又はフェオフィチン含有植物乾燥粉末あるいは麹類粉砕物と、（１）クエン酸及び界面活性剤を、又は（２）水溶性カルシウム塩、ビタミンＣ及び界面活性性溶媒を、水と練合し、液性をpH7-9 とする。 - 特許庁

The photocurable resin composition can be developed with a dilute alkali solution and comprises: (A) a carboxylic acid-containing resin; (B) a photopolymerization initiator; (C) a compound having two or more ethylenically unsaturated groups per molecule; and (D) a red colorant.例文帳に追加

（Ａ）カルボン酸含有樹脂、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）分子中に２個以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、および（Ｄ）赤色着色剤を含有する希アルカリ溶液により現像可能な光硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

This oily solid cosmetic includes (a) 3-30 mass% of a wax, (b) 10-85 mass% of a polar oil, (c) 0.01-1 mass% of dextrin fatty acid ester and (d) 5-85 mass% of powder.例文帳に追加

成分（ａ）ワックス ３〜３０質量％、成分（ｂ）極性油 １０〜８５質量％、成分（ｃ）デキストリン脂肪酸エステル ０．０１〜１質量％、成分（ｄ）粉体 ５〜８５質量％を含有することを特徴とする油性固形化粧料。 - 特許庁

This foamed-in-place molded product is obtained from a polyethylene-based resin pre-expanded bead containing 0.3-3 wt.% of a fatty acid glyceryl ester having ≥3 and <4 HLB (hydrophilic-lipophilic balance) value and 35-75°C melting point.例文帳に追加

ＨＬＢ値が３以上４未満かつ融点が３５℃以上７５℃以下の脂肪酸グリセリンエステルを０．３重量％以上３重量％以下含有するポリエチレン系樹脂予備発泡粒子より型内発泡成形体を得る。 - 特許庁

In the laminate, the substrate layer (A) made of the organic substance, the anchor coat layer (B) produced by the cationic polymerization of a compound with the use of an acid generating agent featured by being an onium salt, and an inorganic substance layer (C) are laminated in turn.例文帳に追加

有機物からなる基材層（Ａ）、オニウム塩であることを特徴とする酸発生剤でカチオン重合性化合物を重合させてなるアンカーコート層（Ｂ）、および無機物層（Ｃ）をこの順に積層させてなる積層体。 - 特許庁

The water system dispersing element for chemical mechanical polishing includes (A) grain, (B) an organic acid, (C) benzotriazole or its derivatives, (D) poly(meta)acrylate, (E) an oxidizer, and (F) water, and the blended quantity of (A) grain is 2-10 wt.%.例文帳に追加

化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）砥粒、（Ｂ）有機酸、（Ｃ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｄ）ポリ（メタ）アクリル酸塩、（Ｅ）酸化剤、および（Ｆ）水を含み、前記（Ａ）砥粒の配合量が２〜１０質量％である。 - 特許庁

The method for producing the soap composition involves solidifying a molten soap containing (A) a fatty acid soap, (B) a monovalent inorganic salt, (C) a polyvalent inorganic salt and (D) polyols regulated so that the total of the components (A) and (D) may be 30-75 wt.%.例文帳に追加

（Ａ）脂肪酸石鹸、（Ｂ）一価の無機塩、（Ｃ）多価の無機塩、（Ｄ）ポリオール類を含有し、成分（Ａ）と成分（Ｄ）の合計が３０〜７５重量％である溶融石鹸を固化させる石鹸組成物の製造方法を開示する。 - 特許庁

The self-adhesive composition for electronic apparatuses contains a vinyl resin (A), an esterified product (B) of disproportionated rosin acid, and an aqueous medium (C).例文帳に追加

ビニル樹脂（Ａ）、不均化ロジン酸のエステル化物（Ｂ）、及び、水系媒体（Ｃ）を含有し、前記不均化ロジン酸のエステル化物（Ｂ）が、下記一般式（１）で示される構造を有するものであることを特徴とする電子機器用粘着剤組成物。 - 特許庁

There is provided an external preparation for skin, comprising (A) a carboxyvinyl polymer, (B) an acrylic acid-alkyl methacrylate copolymer, and (C) a water-soluble polysaccharide derivative having a hydrophobic group and a hydrophilic group, and, especially, an external preparation for skin, usable by impregnated in a sheet, is provided.例文帳に追加

（Ａ）カルボキシビニルポリマー、（Ｂ）アクリル酸・メタクリル酸アルキル共重合体、及び（Ｃ）疎水基と親水基とを有する水溶性多糖誘導体を含有する皮膚外用剤、特に、シートに含浸させて用いる皮膚外用剤に関する。 - 特許庁

In a polishing composition for polishing a semiconductor device, and a polishing method using the same, the semiconductor device is composed of at least a tungsten film and an insulating film which contain (a) silicon dioxide, (b) periodic acid, and (c) a pH adjuster.例文帳に追加

（ａ）二酸化ケイ素、（ｂ）過ヨウ素酸、（ｃ）ｐＨ調整剤、および（ｄ）水を含んでなる、少なくともタングステン膜と絶縁膜とを具備してなる半導体デバイスを研磨するための研磨用組成物、およびそれを用いた研磨方法。 - 特許庁

This polyamide resin for irradiation processing has ≥2.2 ηr relative viscosity measured at 25°C by using 1.0 wt.% concentration sample solution in 98% sulfuric acid and 2×10-5 to 6×10-5 mol/g theoretical terminal amino group amount.例文帳に追加

９８％硫酸の１．０重量％濃度試料溶液を用いて２５℃で測定した相対粘度ηｒが２．２以上であり、かつ、理論末端アミノ基量が２×１０^-5〜６×１０^-5ｍｏｌ／ｇの照射加工用ポリアミド樹脂。 - 特許庁

Preferably, (C) 2-50 pts.wt. titanium oxide, (D) 0.05-2 pts.wt. partially saponified product of a fatty acid ester, and (E) 0.05-2 pts.wt. carbon black based on 100 pts.wt. polyester resin of the component A are compounded with the composition.例文帳に追加

上記ポリエステル樹脂（Ａ）１００質量部に対しては、さらに酸化チタン（Ｃ）２〜５０質量部、脂肪酸エステルの部分ケン化物（Ｄ）０．０５〜２質量部、カーボンブラック（Ｅ）０．０５〜２質量部が配合されていることが好ましい。 - 特許庁