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FUMEDを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 137



例文

In the heat insulating material that surrounds the reformer, the heat insulating material for the reformer comprises a molded article containing a fumed silica and an inorganic fiber.例文帳に追加

改質器を包囲する断熱材において、フュームドシリカと無機繊維とを含む成形体からなることを特徴とする改質器用断熱材。 - 特許庁

A composition for chemical mechanical polishing composition comprises fumed abrasive grains and about 0.01 to about 5.0 wt.% of at least one Cs+ basic salt.例文帳に追加

フュ−ムド砥粒ならびに約0.01〜約5.0wt%の少なくとも1つのCs+塩基性塩からなる化学的機械研摩用組成物。 - 特許庁

To provide a polishing composite whose cohesion is suppressed and which is decreased in number of coarse particles even when fumed silica is used.例文帳に追加

ヒュームドシリカを用いた場合であっても、凝集を抑制し、粗大粒子数が低減された研磨組成物を提供する。 - 特許庁

This thermosetting resin composition includes a thermosetting resin, a setting agent, a hydrophilic fumed silica, and a polycarboxylic acid amide, wherein the hydrophilic fumed silica and the polycarboxylic acid amide are separated during storage.例文帳に追加

熱硬化性樹脂、硬化剤、親水性ヒュームドシリカ及びポリカルボン酸アミドを含む熱硬化性樹脂組成物であって、前記親水性ヒュームドシリカとポリカルボン酸アミドを分離して保存することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物。 - 特許庁

例文

However, the hydrophobic silica is not AEROSIL(R)RY200 hydrophobic fumed silica, and excludes a formulation containing the following components of polyoxyalkylene-modified polysiloxane SH3775E, an alkyl glyceryl ether-modified polysiloxane, or a hydrophobic fumed silica AEROSIL(R)R812.例文帳に追加

ただし、前記疎水性シリカは、AEROSIL(登録商標)RY200疎水性ヒュームドシリカではなく、かつ、次の成分、すなわち、ポリオキシアルキレン変性ポリシロキサンSH3775Eと、アルキルグリセリルエーテル変性ポリシロキサンと、疎水性ヒュームドシリカAEROSIL(登録商標)R812とを含む配合物は除外される。 - 特許庁


例文

The polishing composition comprises (A) a polishing material, (B) 2-hydroxybenzotriazole, (C) hydrogen peroxide and (D) water, where the polishing material is at least one selected among fumed silica, colloidal silica, fumed alumina and colloidal alumina.例文帳に追加

(A)研磨材、(B)2—ヒドロキシベンゾトリアゾール、(C)過酸化水素および(D)水からなる研磨用組成物であり、研磨材が、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナの中から選ばれる少なくとも1種類である。 - 特許庁

The polishing composition comprises (A) a polishing material, (B) 2-hydroxybenzotriazole, (C) malic acid, (D) hydrogen peroxide, and (E) water, the polishing material being at least one selected from among fumed silica, colloidal silica, fumed alumina, and colloidal alumina.例文帳に追加

(A)研磨材、(B)2—ヒドロキシベンゾトリアゾール、(C)リンゴ酸、(D)過酸化水素および(E)水からなる研磨用組成物であり、研磨材が、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナおよびコロイダルアルミナの中から選ばれる少なくとも1種類である。 - 特許庁

Molded products are produced by melt-molding a resin composition comprising a polyvinyl acetal resin (A) and fumed silica (B), wherein, the resin composition contains 4-60 pts.wt. fumed silica (B) based on 100 pts.wt. polyvinyl acetal resin (A).例文帳に追加

ポリビニルアセタール樹脂(A)とフュームドシリカ(B)を含有する樹脂組成物であって、ポリビニルアセタール樹脂(A)100重量部に対してフュームドシリカ(B)4〜60重量部を含有することを特徴とする樹脂組成物を溶融成形して成形品を製造する。 - 特許庁

In the composition comprising (A) a polishing material, (B) quinolinecarboxylic acid, (C) organic acid, (D) hydrogen peroxide and (D) water in which the polishing material comprises at least one kind of fumed silica, colloidal silica, fumed alumina and colloidal alumina, primary particles of the polishing material are 0.01-0.2 μm.例文帳に追加

(A)研磨材、(B)キノリンカルボン酸、(C)有機酸、(D)過酸化水素、および(D)水からなり、研磨材がフュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも1種類からなる組成物であって研磨材の一次粒子が0.01〜0.2μmである研磨用組成物である。 - 特許庁

例文

A pressure indicating device 6 is mounted to detect the pressure in the range between the pumping device 7 and the spray gun 4, and thus the supply of the solvent mist to the fumed gas is increased to raise the fumed gas pressure when the pressure of the coating liquid gets higher than a specified pressure.例文帳に追加

また、液送装置7からスプレーガン4までの間の圧力を検出する圧力計測装置6を備え、塗布液の圧力が所定圧力よりも増加した時に、霧化ガスに霧状に添加する溶媒量を増やし、霧化ガスの圧力を増大する。 - 特許庁

例文

The polishing suspension contains at least one kind of abrasives dispersed in alkali water solution, selected among fumed silica, fumed alumina and high purity cerium oxide, and at least one kind of moisture holding agent selected among ethylene glycol, polyethylene glycol, glycerol, propylene glycol, polygycerol, ethylene oxide additive of glycerol and ethylene-propylene block copolymer.例文帳に追加

研磨用懸濁液は、ヒュームドシリカ、ヒュームドアルミナ、高純度酸化セリウムから選ばれる少なくとも一種類の研磨材がアルカリ水溶液に分散し、エチレングリコール、ポリエチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコール、ポリグリセリン、グリセリンのエチレンオキサイド付加物、エチレン−プロピレンブロック共重合物から選ばれる少なくとも一種類の保湿剤を含有している。 - 特許庁

The ink-jet recording material has a support and at least one ink receiving layer, wherein the ink receiving layer contains a cationized fumed silica produced by copolymerizing at least one cationic monomer and at least one non-cationic monomer in the presence of a fumed silica and at least one kind of a binder.例文帳に追加

支持体と少なくとも1層のインク受け入れ層を有するインクジェット記録材料であって、前記インク受け入れ層は、少なくとも1種のカチオン性単量体と少なくとも1種の非カチオン性単量体をフュームドシリカの存在下で共重合させることで生じさせたカチオン化フュームドシリカと少なくとも1種の結合剤を含んで成る。 - 特許庁

The method of manufacturing the silica glass comprises using fumed silica particulates made by oxidizing and hydrolyzing SiCl_4 with a flame of 1,100 to 1,400°C formed by burning a gaseous mixture composed of H_2 and O_2 as raw materials and impressing pressure to the aggregate of such particulates thereby integrating the fumed silica particulates to each other.例文帳に追加

SiCl_4ガスをH_2とO_2との混合ガスを燃焼させた1100〜1400℃の炎で酸化、加水分解させることにより作製されたヒュームドシリカ微粒子を原料として用い、その微粒子の集合体に圧力を印加することで前記ヒュームドシリカ微粒子同士を一体化させることを特徴とするシリカガラスの製造方法である。 - 特許庁

This polishing element is formed by arranging a polishing layer including an abrasive 3 and a binder 4 for fixing this abrasive on a support 2, includes fumed silica having the primary particle size of 1 to 50 nm as the abrasive, and is characterized in that the fumed silica is included in the polishing layer as a secondary particle agglomerate having the secondary particle size of 3 to 40 times the primary particle size.例文帳に追加

支持体2上に、研磨材3とこれを固定する結合4とを含んでなる研磨層を設けた研磨体において、前記研磨材として、一次粒子径が1〜50nmのヒュームドシリカを含み、該ヒュームドシリカが一次粒子径の3〜40倍の二次粒子径を有する二次粒子集塊物として研磨層に含まれることを特徴とする。 - 特許庁

The polishing composition is one comprising (A) an abrasive, (B) an organic acid, (C) an oxidizing agent, (D) an antioxidant, (E) a polishing rate modifier, and (F) water, wherein the abrasive comprises particles prepared by coating inorganic particles comprising at least one member selected from among fumed silica, colloidal silica, fumed alumina, and colloidal alumina with an organic resin.例文帳に追加

(A)研磨材、(B)有機酸、(C)酸化剤、(D)酸化防止剤(E)研磨速度調節剤および(F)水からなり、研磨材が、フュームドシリカ、コロイダルシリカ、フュームドアルミナ、およびコロイダルアルミナのうち少なくとも1種類からなる無機粒子が有機樹脂で被覆された粒子からなる研磨用組成物である。 - 特許庁

The polishing composition contains fumed silica as abrasive grains and an alkyl polyether amine type surfactant, which is preferably polyoxyethylene alkyl amine.例文帳に追加

砥粒であるヒュームドシリカとアルキルポリエーテルアミン型界面活性剤とを含み、アルキルポリエーテルアミン型界面活性剤は、ポリオキシエチレンアルキルアミンが好ましい。 - 特許庁

The component c can be selected from colloidal silica, fumed silica, alumina sol, zirconia sol, titania sol, phosphorus- based rust-preventive pigment and plastic pigment and has preferably pH 2-10.例文帳に追加

c)はコロイダルシリカ、フュームドシリカ、アルミナゾル、ジルコニアゾル、チタニアゾル、りん系防錆顔料、プラスチックピグメントから選ぶことができ、そのpHは2〜10である事が好ましい。 - 特許庁

The oily solid cosmetic contains (a) an ethylene-propylene copolymer, (b) an ester compound of isostearic acid with glycerol and/or diglycerol in a specific structure, and (c) a fumed silica.例文帳に追加

次の成分(a)〜(c);(a)エチレンプロピレンコポリマー、(b)特定構造のイソステアリン酸とグリセリンおよび/またはジグリセリンとのエステル化合物、(c)煙霧状シリカとを含有する事を特徴とする油性固形化粧料に関する。 - 特許庁

Use of precipitated and fumed silica results in the nanotube-ceramic composite which may synergistically improve the properties of both the ceramic (e.g. silica) and the single-walled carbon nanotube.例文帳に追加

沈降シリカおよびヒュームドシリカの使用は、上記セラミック(例えば、シリカ)および上記単一壁のカーボンナノチューブの両方の特性を相乗的に向上し得る、ナノチューブ−セラミック複合体をもたらした。 - 特許庁

The chemical conversion film contains no organic component and the silica component selected from silica sol and fumed silica, in addition to the oxide and hydroxide of the valve metal such as Ti, Zr, Hf, V, Nb, Ta, Mo or W.例文帳に追加

化成皮膜は、有機成分を全く含まず、Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Mo,W等のバルブメタルの水酸化物,酸化物に加えてシリカゾル,フュームドシリカから選ばれたシリカ成分を含んでいる。 - 特許庁

Preferably, the contents of the alkylperoxymaleic acid, the hydrophobic fumed silica and the liquid fatty acid ester are 10-50 mass%, 1-10 mass% and 50-85 mass%, respectively.例文帳に追加

前記アルキルパーオキシマレイン酸の含有量は10〜50質量%、疎水性のヒュームドシリカの含有量は1〜10質量%及び液状の脂肪酸エステルの含有量は50〜85質量%であることが好ましい。 - 特許庁

The above inorganic oxide particles are especially synthesized by a fumed method (a high-temperature flame hydrolytic method) or a method of Nanophase Technologies Corporation (a metal evaporation oxidation method).例文帳に追加

特に、上記の無機酸化物粒子が、ヒュームド法(高温火炎加水分解法)又はナノフェーズテクノロジー社法(金属蒸発酸化法)で合成したものである。 - 特許庁

The fumed silica 12 is then compounded with the silicone polymers 22, 24, which is fed into the compounding apparatus at a downstream location in the compounding apparatus from the first location.例文帳に追加

次にヒュームドシリカ12を、コンパウンディング装置の第1の位置の下流の位置でコンパウンディング装置に供給されるシリコーンポリマー22,24とコンパウンディングする。 - 特許庁

To provide a production process of an inorganic plate which permits sufficient dispersion of fumed silica into a solvent without using specific additives and gives an inorganic plate having high durability and strength.例文帳に追加

特種な添加剤を用いることなく、溶媒中にシリカヒュームを十分に分散させることができ、高い耐久性と強度とを有する無機質板を実現する。 - 特許庁

As the inorganic filler, 1-15 mass%, based on the whole composition, of fumed silica with a surface silanol group density(SiOH/nm^2) of ≥2 is used.例文帳に追加

無機充填材として、表面のシラノール基密度(SiOH/nm^2)が2以上であるフュームドシリカを上記組成物全量に対して1〜15質量%用いる。 - 特許庁

To provide a homogeneous silica filled composition where high levels of silica, processing fluid and high molecular weight silicone polymer are compounded into the homogeneous silica filled composition without forming a preconcentrate of fumed silica and polymer.例文帳に追加

高レベルのシリカ、加工流体及び高分子量シリコーンポリマーを、ヒュームドシリカとポリマーの予備濃縮物を形成することなくコンパウンディングして均質なシリカ充填組成物を提供する。 - 特許庁

The resin composition 5 for coating includes: a coated inorganic particle product composed of inorganic particles and a coating resin adhering to at least a part of each surface of the inorganic particles; fumed silica; and a curable resin.例文帳に追加

コーティング用樹脂組成物5は、無機粒子と該無機粒子表面の少なくとも一部に付着した被覆樹脂体とからなる無機粒子被覆体、フュームドシリカおよび硬化性樹脂を含む。 - 特許庁

To provide a novel quartz glass precursor which uses using fumed silica as raw material and enables manufacture of the quartz glass having high purity and decreased internal bubbles in a low cost and a method of manufacturing for the same.例文帳に追加

純度が高く、内部気泡の少ない石英ガラスを低コストで製造することを可能とする、ヒュームドシリカを原料に用いた新規の石英ガラス前駆体及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for producing a polishing composition in which the dispersibility of fumed silica as abrading particles is good over a long period and which has an excellent polishing performance.例文帳に追加

長期間に亘って砥粒であるフュームドシリカの分散性が良好で、かつ優れた研磨性能を有する研磨用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wooden pallet which need not be fumed when manufacturing, can be formed to be light-weighted inexpensively without using a large square timber and allows a fork lift to be inserted from four directions.例文帳に追加

製作時に燻蒸の必要がなく、大きな角材を使用しないで、軽量で安価に製作でき、4方向からフォークリフトの差し込みができる木製パレットを提供する。 - 特許庁

A vertical wall surface 1 is coated previously with a primer, and the vertical wall surface 1 is coated with an admixture 2 in which a binder is added and mixed after aggregate and fumed silica are mixed.例文帳に追加

垂直な壁面1に予め下塗剤を塗布し、骨材とフュームドシリカとを混合した後にバインダを添加して混合した混合材2を、垂直な壁面1に塗布する。 - 特許庁

The polishing composition contains (a) alumina abrasive particles composed mainly of α-alumina, (b) fumed alumina, (c) at least one kind of polishing promoter selected from organic acids, inorganic acids and their salts and (d) water.例文帳に追加

研磨用組成物は、(a)α−アルミナを主成分とするアルミナ砥粒、(b)フュームドアルミナ、(c)有機酸、無機酸及びそれらの塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の研磨促進剤及び(d)水の各成分を含有している。 - 特許庁

Further, it is preferable that the fine particle silica is fumed silica, the rubber component (A) contained in the A layer is liquid rubber, and the rubber component (B) contained in the B layer is rubber latex.例文帳に追加

さらに、微粒子シリカがフュームドシリカであることや、A層に含有しているゴム成分(A)が液状ゴムであり、B層に含有しているゴム成分(B)がゴムラテックスであることが好ましい。 - 特許庁

The minute and globular silica is produced by the following processes: crushing solid silica obtained by drying fumed silica slurry to obtain silica powder; and then melting and spheroidizing the silica powder in the flame of a burner.例文帳に追加

ヒュームドシリカスラリーを乾燥させて得られる固体状シリカを粉砕してシリカ粉末を得た後、該シリカ粉末をバーナーの火炎中で溶融球状化させる。 - 特許庁

The purged exhaust gas obtained by the method for treating purged exhaust gas can be utilized as the hydrogen source for other production processes such as a fumed silica production process.例文帳に追加

この処理方法で得られたパージ排ガスは、ヒュームドシリカ製造などの他の製造工程のための水素源としての利用することが可能である。 - 特許庁

This stain resistant treatment agent is applied on the surface of a base material to form an ultrahydrophilic stain resistant membrane and is characterized in that fumed silica is dispersed in the aqueous solvent medium.例文帳に追加

基材表面に塗布して超親水性防汚膜を形成する防汚処理剤であって、ヒュームドシリカを水性溶媒に分散したことを特徴とする防汚処理剤を提供する。 - 特許庁

The reflecting sections 15, 21 are formed of Fumed SiO2 having ultrafine porous structure and the heaters 16, 22 are embedded and secured while exposing a part thereof to the surface of the reflecting section 15.例文帳に追加

そして反射部15、21は超微細多孔構造を有するFumdSio2で形成され、また発熱体16、22はその一部が反射部15の表面に露出するようにして埋設・固定されている。 - 特許庁

On the surface of the fumed silica, many single silanol groups participating to the hydrophilicity distribute to develop a largely fixing power to the surface of the base material and the consistent stain resistant properties are given on the surface of the base material.例文帳に追加

ヒュームドシリカの表面には親水性に関与するシングルシラノール基が多く存在し、基材表面に対する定着力が大きく、基材表面に永続性のある防汚性を付与する。 - 特許庁

The polishing composition contains not more than 10 ppb Cu, not more than 20 ppb Ni, and not more than 20 ppb Zn as metallic impurities present on the surfaces of its fumed silica particles and in its dispersion medium.例文帳に追加

ヒュームドシリカ粒子表面及び分散媒中に存在する金属性不純物として、Cuが10ppb以下、Niが20ppb以下、Znが20ppb以下である研磨用組成物。 - 特許庁

A reflection part 16 that is made of fumed silica of an upper heater 15 that is arranged on the upper surface of a heating chamber 11 is covered with a metal cover 19 entirely.例文帳に追加

加熱室11の上面に配置されている上ヒータ15のフュームドシリカよりなる反射部16を金属カバー19で全体を覆う構成とした。 - 特許庁

To solve a problem that since the reflection part of an upper heater is formed of fumed silica being of hyperfine porous structure, strength is low, a force is concentrated to a part held by an insulation substance, and breakage simply occurs.例文帳に追加

高周波加熱装置において、上ヒータの反射部は超微細多孔構造のフュームドシリカで構成されているため強度が非常に弱く、絶縁物で保持している部分に力が集中し、簡単に割れが発生すること。 - 特許庁

At this time, the grain size of the fumed silica is relatively large; for example, the primary grain size determined by BET measurement is about 25 to about 75 nm and the grain size of the aggregate is about 225 to about 400 nm.例文帳に追加

このとき、ヒュームドシリカの粒径は比較的大きく、例えば、BET測定より求めた一次粒径は約25〜約75nmであり、凝集体粒径は約225nm〜約400nmであるトナー組成物である。 - 特許庁

To provide a metal film polishing composition which is capable of making a selection ratio small even if fumed silica is used, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ヒュームドシリカを用いても選択比を小さくすることができる金属膜研磨用組成物、および金属膜研磨用組成物の製造方法を提供する。 - 特許庁

Preferably, the composition for chemical mechanical polishing comprises water, about 1 to about 50 wt.% of fumed silica, and about 0.1 to 2.0 wt.% of CsOH.例文帳に追加

好ましくは、本発明は水、約1〜約50wt%のフュ−ムドシリカ、および約0.1〜2.0wt%のCsOHを含有する化学的機械研摩用組成物である。 - 特許庁

A stitch state welded zone 13 is fumed on the surface of a welded material 11, the tip of a filler metal wire 12 is located at a position a little apart from the tip of the welded zone, and the position is irradiated with a laser beam LB.例文帳に追加

被溶接材11の表面にステッチ状の溶接部13が形成されており、その先端から若干離隔した位置に、溶加材ワイヤ12の先端を配置し、レーザビームLBを照射する。 - 特許庁

To provide a novel method for manufacturing a silica dispersion which is formed by using fumed silica as a raw material, and useful as a raw material for polishing agents and coating materials and has high stability.例文帳に追加

ヒュームドシリカを原料に、研磨剤やコート剤の原料として有用な、安定性の高いシリカ分散液の新規な製造方法を提供する。 - 特許庁

The biodegradable resin composition is prepared by mixing 100 pts.wt. polyhydroxycarboxylic acid resin with 1-300 pts.wt. fumed silica as a filler and foaming the mixture.例文帳に追加

ポリヒドロキシカルボン酸樹脂100重量部に対して充てん剤としてヒュームドシリカ1〜300重量部を添加し、発泡化した生分解性樹脂組成物。 - 特許庁

Fumed silica is used as abrasive grains, and the metal film polishing composition is set nearly at pH7, whereby a selection ratio between a metal film polishing rate and an oxide film polishing rate can be made small.例文帳に追加

ヒュームドシリカを砥粒として用いて、pHを中性付近とすることで金属膜研磨速度と酸化膜研磨速度との比である選択比を小さくすることができる。 - 特許庁

Therefore, when the content of the benzene ring-based organic substance is100 ppm, the polishing composition can be provided while the cohesion of the fumed silica in the polishing composition is suppressed and the number of coarse particles is decreased.例文帳に追加

したがって、ベンゼン環系有機物の含有量を100ppm以下とすることで、研磨組成物中のヒュームドシリカの凝集を抑制し、粗大粒子数が低減された研磨組成物を提供できる。 - 特許庁

例文

The silicone rubber contains first straight chain polysiloxane having at least two alkenyl groups in one molecule, a silicone resin having an alkenyl group, fumed silica, second straight chain polysiloxane having at least two SiH groups in one molecule and an addition reaction catalyst.例文帳に追加

前記シリコーンゴムとしては、1分子中に少なくとも2個のアルケニル基を有する第1直鎖状ポリシロキサンと、アルケニル基を有するシリコーン樹脂と、ヒュームドシリカと、1分子中に少なくとも2個のSiH基を有する第2直鎖状ポリシロキサンと、付加反応触媒とを含有する。 - 特許庁

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