「Imprint (film)」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To surely imprint information on a film even if it rakes a long response time from the time when the information is outputted to a display part until it is actually displayed.例文帳に追加

表示部に情報を出力してから表示が実際に為されるまでの応答時間が長くなっても、フィルムへ情報の写し込みを確実に行えるようにする。 - 特許庁

The nano imprint device is also used to form a final protective film aperture and a bump electrode mask, thereby reducing the number of the reduction projection aligners so as to reduce the cost price of the semiconductor device.例文帳に追加

また最終保護膜開口やバンプ電極用マスク形成にもナノインプリント装置を使用し縮小投影露光装置の使用台数を減らし半導体装置の原価低減を図る。 - 特許庁

Also provided are the optical resolution film, a molecule imprint film for optical resolution, a nanofiber film for optical resolution, and a filler for an optical resolution column, using the polymer.例文帳に追加

（但し、Ａは光学活性なジカルボン酸であるＮ−置換アミノ酸からカルボキシ基を除いた残基で、Ｂはジアミンからアミノ基を除いた残基）また、このポリマーを用いた光学分割膜、光学分割用分子インプリント膜、光学分割用ナノファイバー膜、光学分割カラムの充填剤を提供する。 - 特許庁

In this wire formation method, a pattern surface of a stamper 13 used for an imprint method is covered with a barrier film formation compound 14, and a decomposition/transfer process of the barrier film formation compound 14 is performed while pressing the pattern surface of the stamper 13 against a resin film 12 applied onto a substrate 11.例文帳に追加

インプリント法に用いるスタンパ１３のパターン面をバリア膜形成化合物１４で被覆し、スタンパ１３のパターン面を、基板１１上に塗布された樹脂膜１２に押し当てつつ、バリア膜形成化合物１４の分解・転写処理を行う。 - 特許庁

In the method of manufacturing an optical film product by punching a sheet or a long-length roll of an optical film, the sheet is punched with a cutting die comprising a punching blade die with an additional marking blade so as to leave an imprint of the marking blade on the optical film.例文帳に追加

光学フィルムのシート又は長尺ロールから打ち抜いて光学フィルム製品を製造する方法において、打ち抜き刃型の一部に刻印刃を付設した刃型で打ち抜き、光学フィルムに刻印刃型跡を設けて行うことを特徴とする。 - 特許庁

According to such a manufacturing method of the semiconductor device 100, an imprinted region, i.e., the top surface of the imprint film 21 is so covered with the protecting film 31 as to be able to reduce the damage of a semiconductor chip 11 which is caused by dust, heat generation, gas, stress or the like generated when performing the imprints.例文帳に追加

かかる半導体装置１００の製造方法によれば、被捺印領域すなわち捺印膜２１の上面が保護膜３１に覆われることによって捺印する際に発生する粉塵、発熱、ガスおよびストレスなどによる半導体チップ１１へのダメージが低減できる。 - 特許庁

The fabricating method of the large area stamp is comprised of vapor-depositing a polymer thin film on a substrate (S111), coating a resist material on the polymer thin film (S112), and performing an imprint process locally using the first small stamp on the resist (S113).例文帳に追加

本発明の大面積スタンプ製作方法は、基板の上に高分子薄膜を蒸着(S111)し、高分子薄膜上にレジスト材料をコーティング(S112)し、レジスト上に小型の第1スタンプを利用して局部的にインプリント工程を実行(S113)する。 - 特許庁

The method includes coarsely patterning at least one thin-film material (720-740) on a flexible substrate (710) and forming a plurality of thin-film elements on the flexible substrate (710) with a automatic-aligning imprint lithography (SAIL) process.例文帳に追加

本発明の方法は、可撓性基板（710）上で少なくとも１つの薄膜材料（720〜740）を粗くパターン形成すること、及び自動位置合わせインプリントリソグラフ（SAIL）工程を利用して、可撓性基板（710）上に複数の薄膜素子を形成することからなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mold structure capable of reducing a residual film, excellent in uniformity of a residual film over the entire surface of a substrate, having improved durability and allowing a high-quality pattern to be transferred and formed in a discrete track media and a patterned media, and to provide an imprint method using the mold structure.例文帳に追加

残膜を低減でき、基板全面での残膜の均一性に優れると共に、耐久性が向上し、ディスクリートトラックメディア、及びパターンドメディアに高品質なパターンを転写し形成することができるモールド構造体及び該モールド構造体を用いたインプリント方法の提供。 - 特許庁

The upper layer of the thin film is etched by a dry etching process by using a chlorine-based gas that substantially does not contain oxygen, and subsequently the lower layer of the thin film and the substrate are etched together by a dry etching process using a fluorine-based gas to obtain a mold for imprint.例文帳に追加

薄膜の上層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工し、続いて薄膜の下層及び基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理により一度にエッチング加工することによりインプリント用モールドを得る。 - 特許庁

The method for manufacturing the imprint film includes: a process for bringing an aromatic polymer film into contact with an organic solvent by dipping, dripping, coating, printing, or the like to soften the aromatic polymer film; and a process bringing the aromatic polymer film into contact with a template by mechanical pressing using a pressing machine, a roll, or the like, pressing with gas, pressure reduction, pressing by own weight, or the like.例文帳に追加

芳香族ポリマーフィルムを浸漬、滴下、コーティング、印刷等により有機溶媒に接触させ、軟化せしめる工程と、プレス機、ロール等を用いる機械的な押圧、気体による加圧、減圧、自重による加圧等により芳香族ポリマーフィルムをテンプレートに接触せしめる工程とを有するインプリントフィルムの製造方法。 - 特許庁

To provide an imprint apparatus and imprinting method efficiently and simply performing various tests for transferring of a fine irregular structure, and small amount production of various products, without damaging the fine irregular structure transferred to the surface of a base material film and the fine irregular structure on the surface of a mold.例文帳に追加

基材フィルムの表面に転写された微細凹凸構造やモールドの表面の微細凹凸構造を傷つけることなく、微細凹凸構造の転写に関する各種試験や多品種・少量生産を効率よく簡易に行うことができるインプリント装置およびインプリント方法を提供する。 - 特許庁

The optical path B1 of light emitted by a light emitting element 1a is deflected to optical paths B2 and B3 through a 1st prism 2, and the light goes through near the upper and right (left) ends of an aperture 5f so as to imprint the data on a film 8 through a 2nd prism 3.例文帳に追加

発光素子１ａが発光する光の光路Ｂ１を第１のプリズム２により光路Ｂ２，Ｂ３と偏向して、アパーチャ５ｆの上端及び右端（左端）付近を通し、第２のプリズム３によりフィルム８にデータを写し込む。 - 特許庁

An imprint system transfer printing method comprises the steps of forming irregular groove patterns on a transfer printing form 1; and forming the irregular groove patterns of the transfer printing form 1 on a printed member 2, or on a resin film 17 which is formed on the printed member 2.例文帳に追加

転写印刷版１に凹凸の溝パターンを形成し、被印刷部材２または被印刷部材上に形成された樹脂膜１７に転写印刷版１の凹凸の溝パターンを形成する、インプリント方式の転写印刷方法である。 - 特許庁

To provide a resist composition, a resist layer, an imprint method, a pattern forming body, and their associated technique in which there is not a peel-off defect or a pattern defect over the whole pattern forming body, a pattern shape and a remained film are uniform, and productivity is improved for short peel-off time.例文帳に追加

パターン形成体の全面にわたって、剥離不良やパターン不良がなく、パターン形状及び残膜を均一なものとし、短い剥離時間で生産性を向上させるレジスト組成物、レジスト層、インプリント方法、パターン形成体、及びこれらに関連する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide coating film forming equipment wherein the sticking of particles to a substrate is prevented while restraining imprint generation in the substrate, the increase of footprint is restrained furthermore, and the smearing of the equipment from a cleaning unit which performs the cleaning of a nozzle which jets coating liquid is restrained.例文帳に追加

基板における転写発生を抑制するとともに基板へのパーティクルの付着を防止し、さらにフットプリントの増大を抑え、塗布液を吐出するノズルの洗浄を行う洗浄ユニットからの装置汚染を抑制した塗布膜形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a pattern medium using an imprint method capable of preventing a resist pattern defect generated by gas taken between an interface of an imprinting mold and a resist layer and a resist pattern defect generated by a bubble probably generated in the resist film and on the resist surface.例文帳に追加

インプリント用モールドの界面とレジスト層との間に取り込まれた気体によるレジストパターン欠陥や、レジスト膜中、レジスト表面に発生する可能性のある気泡によるレジストパターン欠陥の発生を防止できるインプリント法を用いたパターン媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

This memory is provided with a memory cell array 11 having a ferroelectric storage element C and a transistor T for switch, and a low voltage write-in circuit 12 in which polarization quantity of a ferroelectric film of each memory cell is set to a lower value than a value at normal write-in and acceleration of imprint is reduced.例文帳に追加

強誘電体記憶素子Ｃとスイッチ用トランジスタＴとを有するメモリセルのアレイ11と、各メモリセルの強誘電体膜の分極量を通常書込み時より低く設定し、インプリントの加速を低減する低電圧書込み回路12を具備することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an imprint mold which is capable of forming a fine mold pattern with high pattern accuracy and is capable of finally removing a thin film pattern formed for etching processing on a substrate, without damaging the mold pattern.例文帳に追加

インプリント用モールドの製造において微細なモールドパターンを高いパターン精度で形成することができ、しかも基板をエッチング加工するために形成した薄膜パターンを最終的にモールドパターンにダメージを与えないように除去できるインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

This nano imprint mold forms a convexo-concave pattern 11 on a substrate 10 with resist, embeds a shape memory composition material 12 (NiTi alloy) on the above convexo-concave pattern, covers it with a film, and then peels off the film from the above convexo-concave pattern to obtain a mold 13 with the above convexo-concave pattern transcribed.例文帳に追加

ナノインプリント用モールドであって、基板１０上にレジストで凹凸パターン１１を形成し、前記凹凸パターンに、形状記憶性を有する組成の材料１２（ＮｉＴｉ合金）を埋め込んで成膜した後、前記凹凸パターンから成膜部を剥離して前記凹凸パターンが転写されたモールド１３を得るようにする。 - 特許庁

In an imprint type transfer printer for transferring an irregular pattern formed on a transfer printing plate 1 directly onto the surface of a printed member 2 or onto a resin film formed on the printed member, the distance and inclination of the transfer printing plate 1 for the printed member 2 or the distance and inclination of the transfer printing plate 1 for the resin film formed on the printed member 2 are detected.例文帳に追加

転写印刷版１に形成した凹凸のパターンを、被印刷部材２の面上に直接に、または被印刷部材上に形成された樹脂膜上に転写するインプリント方式の転写印刷装置において、被印刷部材２に対する転写印刷版１の距離および傾き、または被印刷部材２上に形成された樹脂膜に対する転写印刷版１の距離および傾きを検出する。 - 特許庁

To provide a data imprinting device for a camera which can clearly imprint data with compact constitution by providing a stop at the position where the space formed between an external wall surface of an arcuately cartridge chamber or film chamber and an external wall surface of a photographic optical path blocking cylinder is the narrowest.例文帳に追加

円弧状に形成されたパトローネ室又はフィルム室の外壁面と撮影光路遮光筒の外壁面との間に形成される空間の最も狭くなる位置に絞りを設けることにより、コンパクトな構成でデータをクリアに写し込むことができるカメラのデータ写し込み装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the mold used for imprint by dry etching a substrate 10 made of quartz by using a dry etching apparatus includes the mask forming step of forming an etching mask 20 having a concave and convex pattern on the substrate 10, and the etching step of forming a protective film 30 on a side of the etching mask 20 and for etching the substrate 10 at the same time.例文帳に追加

ドライエッチング装置を用いて石英製の基板１０をドライエッチングすることにより、インプリントに用いるモールドの製造方法において、基板１０に凹凸パターンを有したエッチングマスク２０を形成するマスク形成ステップと、エッチングマスク２０の側壁への保護膜３０の形成と基板１０のエッチングとを同時に行うエッチングステップとを含む。 - 特許庁

Using a translucent mold structure having a mold pattern corresponding to a portion wherein a pattern is formed by nanoimprint and a pattern composed of a conductive film which corresponds to a portion wherein a pattern is formed by diabatic near-field exposure, ultraviolet light is irradiated on the rear face of the mold structure simultaneously in an imprint process to perform diabatic optical near-field exposure.例文帳に追加

ナノインプリントによりパターンを形成する部位に対応するモールドパターンと、非断熱近接場露光によりパターンを形成する部位に対応する導電膜によるパターンを有する透光性のモールド構造を使用し、インプリント工程時に同時にモールド構造背面より紫外光を照射し、非断熱近接場光露光を行う工程を行う。 - 特許庁

The surfaces of the smooth electrodes (412, 422) manufactured by the DC magnetron reactive sputtering process enables relatively strong polarization and less fatigue and less imprint with aging, in ferroelectric thin-film capacitors (400, 500) used for electronic memories (600, 700, 800).例文帳に追加

本発明のＤＣマグネトロン反応性スパッタリングプロセスによって製造された平滑電極（４１２、４２２）の表面は、電子メモリ（６００、７００、８００）に使用される強誘電体薄膜キャパシタ（４００、５００）において、エージングするにつれ、比較的強力な分極、より小さい疲労およびより小さいインプリントを、可能にする。 - 特許庁