「Imprint (film)」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To more distinctly imprint date information to a photographic film.例文帳に追加

写真フイルムに対して日付情報をより鮮明に写し込むこと。 - 特許庁

An imprint material 30 is applied over the base film, and a template 40 is contacted with the imprint material to form an imprint film 33 having unevenness is formed.例文帳に追加

下地膜の上にインプリント材料３０を塗布し、インプリント材料にテンプレート４０を接触させて、凹凸の形状を有するインプリント膜３３を形成する。 - 特許庁

To provide a fluorescence resist composition for a heat nano-imprint which is suitable for measuring an initial film thickness before heat nano-imprint molding and the residual film of a heat nano-imprint molded article and inspecting a defect, a substrate for the heat nano-imprint which utilizes the composition, and its manufacturing method.例文帳に追加

熱ナノインプリント成型前の初期膜厚、さらには熱ナノインプリント成型物の残膜測定や欠陥検査に適した、熱ナノインプリント用蛍光レジスト組成物、並びに該組成物を利用した熱ナノインプリント用基板及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a stamper for imprint which can suppress peeling of a resist film by use of the stamper for imprint having electrical conductivity, to provide a method for manufacturing the same, and to provide an imprint method.例文帳に追加

導電性を有するインプリント用スタンパを用いてレジスト膜のはがれを抑制できるインプリント用スタンパ及びその製造方法並びにインプリント方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a resin for heat imprint with low resin modulus of elasticity at fluidization and sufficient fine pattern transferring property excellent in thermal deterioration resistance in order to suppress generation of a particulate substance in fine processing by heat imprint, a resin solution for heat imprint using the resin, an injection molded body for heat imprint using the resin, a thin film for heat imprint using the resin, and its manufacturing method.例文帳に追加

熱インプリントによる微細加工において、パーティクル状物の発生を抑制するために、耐熱劣化性に優れ、かつ流動化時の樹脂弾性率が低く微細パターン転写性の良好な熱インプリント用樹脂、当該樹脂を用いた熱インプリント用樹脂溶液、当該樹脂を用いた熱インプリント用射出成型体、当該樹脂を用いた熱インプリント用薄膜およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

In a manufacturing method of a semiconductor device 100, after forming a protecting film 31, energy rays are so irradiated on an imprint film 21 by transmitting the energy rays through the protecting film 31 as to reform the material of the imprint film 21 and as to form imprints.例文帳に追加

この半導体装置１００の製造方法においては、保護膜３１を形成した後に、保護膜３１を透過して捺印膜２１にエネルギー線を照射して捺印膜２１の材料を変質させて捺印している。 - 特許庁

At least any of acid and base is generated from the reaction initiator, and the acid or the base is introduced to the base film side of the imprint film so as to make an etching speed of the base film side of the imprint film faster than that of other portions.例文帳に追加

反応開始剤から酸及び塩基の少なくともいずれかを発生させ、それをインプリント膜の下地膜の側の部分に導入し、エッチング速度をそれ以外の部分よりも高くする。 - 特許庁

To imprint difference value data between set photographing data and a photometric value on film by manual operation.例文帳に追加

マニュアル操作で設定撮影データと測光値との差分値データのフィルムへの写し込みを行う。 - 特許庁

COMPOSITION FOR NANO-IMPRINT, PATTERN FORMING METHOD, ETCHING RESIST AND PERMANENT FILM例文帳に追加

ナノインプリント用組成物、パターン形成方法、エッチングレジストおよび永久膜 - 特許庁

FILM FORMING COMPOSITION FOR IMPRINT, METHOD FOR MANUFACTURING STRUCTURAL BODY AND STRUCTURAL BODY例文帳に追加

インプリント用膜形成組成物、並びに構造体の製造方法及び構造体 - 特許庁

In the manufacturing method of the magnetic recording medium using the imprint method for pattern formation, as the preprocessing of an imprint process, an exposure process is performed for exposing a substrate having the resist film formed on the surface thereof to an atmosphere of a temperature higher than a temperature upon imprint and environmental pressure lower than environmental pressure upon imprint.例文帳に追加

パターン形成にインプリント法を用いる磁気記録媒体の製造方法において、インプリント工程の前処理として、表面にレジスト膜を形成した基板を、インプリント時の温度より高い温度、かつ、インプリント時の環境圧力より低い環境圧力の雰囲気に暴露させる暴露処理を行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁

In the imprint process station 4, a plurality of imprint units 60 to form the second resist film and the prescribed resist pattern are provided.例文帳に追加

インプリント処理ステーション４には、前記第２のレジスト膜の形成と所定のレジストパターンの形成を行うインプリントユニット６０が複数配置されている。 - 特許庁

The imprint processing station 4 has two or more imprint units 60 for forming the second resist film and forming the predetermined resist pattern.例文帳に追加

インプリント処理ステーション４は、前記第２のレジスト膜の形成と所定のレジストパターンの形成を行うインプリントユニット６０を複数有している。 - 特許庁

The glass substrate 30 for imprint has a glass substrate 10 having a pattern surface 11 where a fine pattern 15 for imprint is formed, and the pattern surface is coated with a transmissive conductive film 20.例文帳に追加

インプリント用の微細パターン１５が形成されたパターン面１１を有するガラス基板１０を備えたインプリント用ガラス基板３０であって、 該パターン面に、透明導電膜２０が被覆されていることを特徴とする。 - 特許庁

To imprint photographing data on film at high probability in a camera where the film is wound by manual operation.例文帳に追加

フィルムを手操作により巻き上げるカメラにおいて、フィルムへの撮影データの写し込みをより高い確率で実現する。 - 特許庁

The transparent electrode 60 and an orientation film 40 are formed on the first transparent substrate 50, the partition 35 and a Fresnel lens 100 are integrally formed in an imprint process as an imprint resin layer 30 on the second transparent substrate 51, and a transparent electrode 41 and an orientation film 61 are formed on the imprint resin layer 30.例文帳に追加

第１の透明基板５０上には透明電極６０と配向膜４０が形成されており、第２の透明基板５１上にはインプリント樹脂層３０として隔壁３５とフレネルレンズ１００がインプリント工程にて一体に形成されており、インプリント樹脂層３０の上に透明電極４１と配向膜６１が形成されている。 - 特許庁

To provide a technology advantageous in measurement accuracy of residual film thickness of a pattern formed on a substrate by an imprint device.例文帳に追加

インプリント装置により基板に形成されたパターンの残膜厚を計測する精度の点で有利な技術を提供する。 - 特許庁

To provide an imprint method, a semiconductor integrated circuit manufacturing method, and a drop recipe preparation method reducing fluctuation in the amount of residual film.例文帳に追加

残膜量の変動を低減したインプリント方法、半導体集積回路製造方法およびドロップレシピ作成方法を提供すること。 - 特許庁

To provide imprint molded products of an optical film attaining high-brightness property by eliminating brightness unevenness using a mold.例文帳に追加

本発明の金型を用いて、輝度ムラを解消して高輝度特性を達成した光学フィルムのインプリント成形品を提供する。 - 特許庁

A layer for a material for an embossing process is coated with a thin repelling film having a thickness of a molecular size prior to the imprint of the layer.例文帳に追加

エンボス加工用材料層を、その層のインプリントに先立ち、分子の大きさの程度に薄い離型膜でコーティングする。 - 特許庁

A thickness of the imprint material between a bottom face of the recess of the second unevenness and the film to be processed is ≥2.5 times as large as a half pitch of the second unevenness.例文帳に追加

第２凹凸の凹部の底面と被加工膜との間のインプリント材料の厚さは、第２凹凸のハーフピッチの２．５倍以上である。 - 特許庁

To provide an application device which prevents a transfer imprint from occurring on an applied film and reduces the cost.例文帳に追加

塗布膜に転写跡が発生することを抑制するとともに低コスト化が図られた、塗布装置を提供する。 - 特許庁

A fine pattern 2a is added by a nano-imprint method which presses a mold 8 to an HSQ film 2 on a substrate 1.例文帳に追加

まず基板１上のＨＳＱ膜２に、モールド８を押し当てるナノインプリント法によって微細パターン２ａの付与を行う。 - 特許庁

To provide an imprint embossing system capable of performing positioning that the center line of a disk and the center line of an imprint plane are aligned before actually performing imprinting on an embossable film with regard to the imprinting of the embossable film on a disk substrate.例文帳に追加

ディスク基板の上のエンボス可能フィルムのインプリンティングは、エンボス可能フィルムに実際にインプリントする前に、ディスクの中心線をインプリント面の中心線と合わせる位置合せすることが出来るインプリント・エンボッシング・システムを提供する。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell is manufactured by forming fine grooves of nano-scale width on a donor or acceptor layer by applying nano-imprint processing using an imprint mold, and mating the other donor or acceptor layer with the fine grooves.例文帳に追加

インプリント型を用いてナノインプリント加工することによりドナーまたはアクセプターの層にナノスケール幅の微細な溝を形成し、該微細な溝にもう片方のドナーまたはアクセプターの層を充填して有機薄膜太陽電池を製造する。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell is manufactured by forming fine grooves with a nano-scale width on a layer on which a bulk hetero junction by a donor and an acceptor is formed by applying nano-imprint processing by using an imprint frame, and forming electrodes in the fine grooves.例文帳に追加

インプリント型を用いてナノインプリント加工することによりドナーとアクセプターによるバルクへテロ接合が形成された層にナノスケール幅の微細な溝を形成し、該微細な溝に電極を形成して有機薄膜太陽電池を製造する。 - 特許庁

To provide an imprint material by which the occurrence of defects can be reduced when a metal oxide film having a projecting and recessed pattern is formed on a doughnut type substrate such as a hard disk by spin coating and imprint and to provide a pattern formation method.例文帳に追加

スピンコーティングおよびインプリントによりハードディスクなどのドーナツ型基板上に凹凸パタンを有する金属酸化膜を形成する際に、欠陥の発生を低減できるインプリント材料およびパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical imprint method that measures a remaining film thickness of a dummy pattern so as to recognize a remaining film amount after imprint without cutting an effective region, to allow the same substrate, whose remaining film thickness is actually measured, to advance to etching being the next process, to feedback the remaining film amount to the etching conditions, and consequently, to reliably achieve stable processing.例文帳に追加

本発明は、ダミーパターンの残膜厚さを測定することで、有効領域を切断することなくインプリント後の残膜量を把握することができ、残膜厚さを実際に測定した同一基板を次工程であるエッチングに進めることができ、残膜量をエッチング条件にフィードバックさせることが可能であり、確実に安定した加工を実現できる。 - 特許庁

An imprint system 1 has a configuration connecting together the followings: a wafer carry-in-and-out station 2; a wafer processing station 3 which forms a first resist film on a wafer W; an imprint processing station 4 which forms a second resist film on the wafer W and a prescribed resist pattern upon the second resist film; and a template carry-in-and-out station 5.例文帳に追加

インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、テンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

An imprint system 1 has a constitution in which a wafer carrying in/out station 2, a wafer processing station 3 for forming a first resist film on a wafer W, an imprint processing station 4 for forming a second resist film on the wafer W and forming the predetermined resist pattern on the second resist film, and two or more template carrying in/out stations 5 are integrally connected.例文帳に追加

インプリントシステム１は、ウェハ搬入出ステーション２と、ウェハＷ上に第１のレジスト膜を形成するウェハ処理ステーション３と、ウェハＷ上に第２のレジスト膜を形成し、当該第２のレジスト膜に所定のレジストパターンを形成するインプリント処理ステーション４と、複数のテンプレート搬入出ステーション５とを一体に接続した構成を有している。 - 特許庁

The imprint mold has an etching rate gradient film where an etching rate shows gradient distribution, and a rough pattern provided on the etching rate gradient film.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドは、エッチングレートが傾斜分布を示すエッチングレート傾斜膜と、該エッチングレート傾斜膜に凹凸パターンを設けることを特徴とする。 - 特許庁

The substrate is used for the mask blank having the substrate and a thin film formed on the front side main surface of the substrate, for manufacturing the imprint mold by etching the thin film and the substrate.例文帳に追加

基板と該基板の表側主表面上に形成された薄膜とを有してなり、前記薄膜及び基板をエッチング加工してインプリントモールドを作製するためのマスクブランクに用いる基板である。 - 特許庁

To reduce a defect, which is caused by uneven thickness and residual gas in a film residue of a resist film having an uneven pattern transferred thereon, in a method for carrying out an nano-imprint by inkjet applying an ink droplet made of resist material.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、凹凸パターン転写されたレジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体による欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for producing a fine metal structure where electroplating can be performed to the pattern of the film to be worked formed by a nano-imprint process without removing a residue film.例文帳に追加

残渣膜を除去する必要なしに、ナノインプリント法で形成された被加工膜のパターンに電解めっきを施すことができる微細金属構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To suppress generation of thickness unevenness in a residual film of a resist film and an imprint defect due to residual gas, in a method of nanoimprinting by applying a droplet made from a resist material with an ink jet method.例文帳に追加

インクジェット法を用いてレジスト材料からなる液滴を塗布しナノインプリントを行う方法において、レジスト膜の残膜の厚みムラおよび残留気体によるインプリント欠陥の発生を抑制する。 - 特許庁

The artificial immune sensor of voltage detection type is manufactured by subjecting the molecular imprint polymer to impregnation fixation on a plasma polymerization ultrathin film.例文帳に追加

本モレキュラーインプリントポリマーをプラズマ重合超薄膜上に含浸固定化することを特徴とする電位検出型人工免疫センサーを作成する。 - 特許庁

The insulating film 20, having the visible light transmissivity smaller than that of the piezoelectric substrate 10, is formed on the lower surface of or under the piezoelectric substrate 10, thereby readily forming a sharp laser imprint.例文帳に追加

本発明によれば、圧電基板１０の下面または下方に可視光の透過率が圧電基板１０より小さい絶縁膜２０が形成されていることにより、鮮明なレーザ捺印を容易に形成することができる。 - 特許庁

To provide a ferroelectric thin film capacitor (400) which has smooth electrodes (412 and 420) which enables relatively strong polarization, little fatigue and few imprint even if the ferroelectric capacitor becomes old.例文帳に追加

強誘電体薄膜コンデンサ（400）は、その強誘電体コンデンサが古くなっても、比較的強い分極、少ない疲労および少ないインプリントを可能にする平滑な電極(412および420)を有する。 - 特許庁

The stamper for imprint processing is provided with a metal-made stamper body on the surface of which a rugged pattern is formed, and a film formed on the surface of the stamper body and containing 10% or over of inorganic carbon.例文帳に追加

表面に凹凸パターンを有する金属製のスタンパー本体と、スタンパー本体の表面に形成された、無機カーボンを１０％以上含む膜とを具備したインプリント加工用スタンパー。 - 特許庁

To provide a stamp for fine imprint lithography configured by a diamond-like carbon thin film having hydrophobicity and capable of light transmission and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

本発明は、疏水性を有して光透過ができるダイヤモンド状カーボン薄膜で構成される微細インプリントリソグラフィ用スタンプ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, although the space is narrow, the space becomes wide before and behind the stop 62, so the generation of a flare can effectively be suppressed to clearly imprint data on a film F.例文帳に追加

これにより、狭い空間ながら絞り６２の前後は空間が広がるため、フレアの発生を効果的に抑制することができ、フィルムＦにデータをクリアに写し込むことができる。 - 特許庁

To provide a laminate structure that achieves precise exposure of an imprint original plate by laser with small variance in size of an exposure range against variation in film thickness of an etching layer.例文帳に追加

エッチング層の膜厚変動に対して露光範囲の大きさのばらつきが少なく、インプリント原版へのレーザーによる精密露光を可能とする積層構造体を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an imprint film of high heat resistance with high efficiency without using photo-curable resin such as ultraviolet-cured resin.例文帳に追加

紫外線硬化樹脂等の光硬化性樹脂を用いることなく、高い耐熱性を持つインプリントフィルムを高効率で製造する方法を提供する。 - 特許庁

To improve a yield by preventing the destruction of a pattern and the peeling of a film in a backing substrate when an imprint material with the pattern solidified and a mold are peeled.例文帳に追加

パターンが固化されたインプリント材とモールドとを剥離する際にパターンの破壊や下地基板における膜の剥がれを防止し、歩留まりを向上させる。 - 特許庁

To provide a composition for nano-imprint excellent in fine pattern forming properties and etching resistance, and to provide an etching resist or permanent film using the same.例文帳に追加

微細パターン形成性およびエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物およびこれを用いたエッチングレジスト、または永久膜を提供する。 - 特許庁