「Mask pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method, a system and a computer program product for evaluating an evaluated pattern of a mask.例文帳に追加

マスクの評価すべきパターンを評価するための効率的な方法、システム及びコンピュータプログラム製品を提供する。 - 特許庁

The silicon oxide film 3 is etched with the shaped resist pattern 5 as a mask to form a contact hole 13.例文帳に追加

そして、この整形されたレジストパターン５をマスクにシリコン酸化膜３をエッチングしてコンタクトホール１３を形成する。 - 特許庁

A resist fluid is directly sprayed to a wafer substrate, so that a circuit pattern is formed without using a mask or a reticle.例文帳に追加

直接レジスト液をウェハー基板に吹き付けることで、マスク、レチクルを使用せずに回路パターンを形成する。 - 特許庁

PATTERN PROTECTION DEVICE, MASK DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, DEVICE AND METHOD FOR EXPOSURE, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

パターン保護装置、マスク装置及びその製造方法、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 - 特許庁

An assigned pattern storage part 54 stores a plurality of pass mask patterns set for each combination of ink colors.例文帳に追加

割り当てパターン格納部５４は、インク色の組み合わせ毎に設定された複数のパスマスクパターンを格納している。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device for manufacturing a fine pattern having higher size accuracy, using a stencil mask.例文帳に追加

ステンシルマスクを用いて、微細なパターンを寸法精度よく製造する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Since the same amorphous silicon film 4 is used for foundation, the fall or contact of the mask pattern 6b can be controlled.例文帳に追加

下地に同じアモルファスシリコン膜４を用いるので、マスクパターン６ｂの倒れや接触の発生を抑制できる。 - 特許庁

An etching pattern 2a is formed from the lower layer film by etching the lower layer film 2 using the intermediate layer patterns as a mask.例文帳に追加

中間層パターンをマスクとして下層膜２をエッチングし、下層膜からエッチングパターン２ａを形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask by which a phase shifter pattern and a light shielding film can be aligned in a good state.例文帳に追加

位相シフタパターンと遮光膜との位置合わせを良好に行えるマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The engine control unit 1 of this image forming device selects a mask pattern in accordance with the output resolution in a toner saving mode.例文帳に追加

エンジン制御ユニット１は、トナー節約モードの場合、出力解像度に応じてマスクパターンを選択する。 - 特許庁

When a conformal mask for laser hole processing is formed from front and rear copper foil, a circuit pattern is also formed simultaneously.例文帳に追加

表裏の銅はくからレーザ穴加工用のコンフォーマルマスクを形成する際、配線パターンも同時に形成する。 - 特許庁

By a laser annealing device, a substrate 9 is irradiated with the laser beam from a laser irradiation device 1 via a pattern on a mask 6.例文帳に追加

レーザアニール装置は基板９にマスク６のパターンを介してレーザ照射装置１からレーザビームを照射する。 - 特許庁

As the result, a mask pattern 17A for wiring groove formation is complete without a resist residue.例文帳に追加

これにより、孔部１４ａにレジスト残渣を生じることなく配線溝形成用のマスクパターン１７Ａが形成される。 - 特許庁

(b) A photoresist is applied onto the Ti film 44 and openings 45-1 are made as a mask pattern for etching.例文帳に追加

(b) Ｔｉ膜４４上にフォトレジストを積層してエッチング用マスクパターンとしての開口４５−１を形成する。 - 特許庁

Thereby, an evaluation chip and a substrate chip are made of the same mask pattern and the connection reliability can be evaluated.例文帳に追加

これにより、評価チップと基板チップとを同一のマスクパターンから作製して接続信頼性を評価できる。 - 特許庁

A mask pattern (13) is provided to transmit the planary electron current 2 directing toward an object 6 to be irradiated.例文帳に追加

照射対象物体６に向かう面状電子流２を透過させるマスクパターン（１３）が配置されている。 - 特許庁

METHOD FOR MAKING MASK PATTERN, METHOD FOR MAKING LAYOUT, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, PHOTOMASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターン作成方法、レイアウト作成方法、フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁

The EUV light is inputted onto the mask 8 from the tilted direction and is reflected/scattered to transfer the pattern onto the wafer 11.例文帳に追加

ＥＵＶ光は、マスク８に斜めに入射して反射・散乱され、パターンがウェハ１０上に転写される。 - 特許庁

To provide a system which can change a pattern more quickly and at less cost compared with a mask base system.例文帳に追加

マスク・ベース・システムに比べてパターンがより迅速にかつより少ないコストで変更できるシステムを提供すること。 - 特許庁

By using the metallic mask pattern 8, a periodic rugged grating is formed on the surface of the double refracting film 3 (f).例文帳に追加

金属マスクパターン８を用いて複屈折膜３の表面に周期的な凹凸格子を形成する（ｆ）。 - 特許庁

To provide a device for creating a mask pattern for creating layout design data capable of improving a data ratio.例文帳に追加

データ率を向上することが可能なレイアウト設計データを生成するマスクパターン生成装置を提供する。 - 特許庁

To improve transfer accuracy of a mask pattern onto a substrate, irrespective of the position of an exposure object region on the substrate.例文帳に追加

露光対象領域の基板上の位置に拘わらず、マスクパターンの基板への転写精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mold for imprinting, having a high-accuracy fine pattern formed by using a mask blank.例文帳に追加

マスクブランクを用いて高精度の微細パターンが形成されたインプリント用モールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the total throughput by reducing the number of exchange of a mask pattern or wasteful movements of a wafer.例文帳に追加

マスクパターンの交換回数もしくは無駄なウエハの移動を減らすことで、トータルのスループットを向上させること。 - 特許庁

By this, through the metal mask 2 adhered to the substrate 1, a uniform pattern without position deviation can be film-formed.例文帳に追加

これにより、基板１に密着したメタルマスク２を通して、均一な、位置ずれのないパターンを成膜できる。 - 特許庁

To measure the width of a mask pattern for etching fast nondestructively without contacting, especially, during a process.例文帳に追加

エッチング用のマスクパターン幅を、非接触、非破壊、高速で測定でき、特に、プロセス中に測定できるようにする。 - 特許庁

To provide a verification method for shortening a TAT (Turn Around Time) with high accuracy for a mask pattern after an OPC (Optical Proximity Correction).例文帳に追加

ＯＰＣ後のマスクパターンに対する、高精度で短ＴＡＴ化が可能な検証方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system that can more quickly change a pattern at a lower cost, as compared with a mask base system.例文帳に追加

マスク・ベース・システムに比べてパターンがより迅速にかつより少ないコストで変更できるシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a light source device including a speckle and exhibiting a radiation intensity distribution suitable for a radiation pattern mask.例文帳に追加

スペックルを含み且つ放射パターンマスクに適合した放射強度分布を呈する光源装置を提供する。 - 特許庁

A transfer pattern to be imprinted is formed by the composition of two or more apertures which penetrate the mask membrane.例文帳に追加

マスクメンブレンを貫通する複数の開口で構成された転写すべき被転写パターンが形成されている。 - 特許庁

An appropriate bias 22 for a linewidth and an appropriate offset for a position are provided in the device pattern 21 on the mask 8.例文帳に追加

このマスク８上のデバイスパターン２１には、適当な線幅のバイアス２２及び位置のオフセットが設けられている。 - 特許庁

Since a mask pattern can be formed on the thin silicon oxide film at high precision, the silicon material can be etched with high precision.例文帳に追加

薄いシリコン酸化膜には精度良くマスクパターンを形成できるので、シリコン材を精度良くエッチングできる。 - 特許庁

A covering material 16 such as a white sheet is provided directly on the bar code pattern 15 of a mask substrate 11 for exposure.例文帳に追加

露光用マスク基板１１のバーコードパターン１５上に直接、白色のシートなどの被覆材１６を設ける。 - 特許庁

To nondestructively inspect a tapered shape of a through pattern formed in a membrane of a mask for charged particle beam exposure.例文帳に追加

荷電粒子線露光用マスクのメンブレンに形成された貫通パターンのテーパ形状を非破壊的に検査する。 - 特許庁

The pattern image area and the character / line drawing area can be subjected to separate processing with high accuracy by using the separation mask.例文帳に追加

該分離マスクを用いることで、絵柄画像領域と文字・線画領域との高精度の分離処理が行える。 - 特許庁

To provide a phase shift mask for improving the accuracy of a fine structure in a semiconductor device having a concentric pattern.例文帳に追加

同心形状を有する半導体装置の微細構造の精度を高める位相シフトマスクを提供する。 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM USING THE SAME, RESIST COATED MASK BLANK, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

化学増幅型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法 - 特許庁

To enable to make record of a high quality at a high speed by using a mask pattern for multipass recording.例文帳に追加

マルチパス記録に用いるマスクパターンによって、高品位の記録を可能としつつ高速記録をも可能とする。 - 特許庁

To provide an etching method capable of widening the frontage of a pattern of an etching mask even in a dry process.例文帳に追加

ドライプロセスにおいてもエッチングマスクのパターンの間口を広くすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

The first mask pattern 14b includes a half-light-shield part 13b for partially transmitting light and a light shielding part 12b.例文帳に追加

第１マスクパターン１４ｂは、光を部分的に透過させる半遮光部１３ｂと、遮光部１２ｂとを含む。 - 特許庁

The hard mask patterns lined up in the first direction and a part of the lower electrode layer are covered with a continuous resist pattern.例文帳に追加

第１の方向に並んだハードマスクパターン及び下部電極層の一部を、連続したレジストパターンで覆う。 - 特許庁

The mask includes an attenuation pattern to spatially modulate the 4D light field acquired of the scene by the sensor.例文帳に追加

当該マスクは、センサによりシーンに関して取得される４Ｄライトフィールドを空間変調する減衰パターンを含む。 - 特許庁

The first resist pattern is formed on a light shielding film of a mask blank formed with the light shielding film on a substrate.例文帳に追加

基板上に遮光膜が形成されたマスクブランクの該遮光膜上に第１のレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To verify whether appropriate correction is performed or not with respect to a correction mask pattern at a high speed and a low cost.例文帳に追加

補正マスクパターンに対して、適切な補正が行われているか否かを高速、かつ、低コストで検証する。 - 特許庁

To provide a pattern correction method for a semiconductor manufacturing mask, capable of obtaining the satisfactory correction accuracy.例文帳に追加

十分な補正精度を得ることができる半導体製造用マスクのパターン補正方法を提供すること。 - 特許庁