「Masks」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

Or a value obtained by AND operation which masks the most significant bit of a set register value is set as a new duty.例文帳に追加

あるいはレジスタ設定値の最上位ビットをマスクするＡＮＤ演算によって得られる値を新規デューテイとして設定する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device, which decreases the number of masks when a column spacer is formed and does not cause problems of positioning precision in sticking, and its manufacturing method.例文帳に追加

柱スペーサを形成するに際して、マスク枚数削減を図り、貼り合わせ時の位置合わせ精度の問題が生じない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device, by which a capacitor having an MIM structure can be formed using a small number of masks.例文帳に追加

ＭＩＭ構造のキャパシタを、少ないマスク枚数で形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor array substrate for forming a thin film transistor array at a reduced number of masks and a method for manufacturing the same.例文帳に追加

マスク数を減少させて薄膜トランジスタアレイを形成する薄膜トランジスタアレイ基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Article 26 Gas masks prescribed by the Ordinance of the Ministry of Health, Labour and Welfare set forth in paragraph (5) of Article 13 of the Order shall be as follows: 例文帳に追加

第二十六条　令第十三条第五項の厚生労働省令で定める防毒マスクは、次のとおりとする。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide a method for dry etching by which silicon can be dry- etched by using resist layers as masks and in which the occurrence of silicon residues due to watermarks can be prevented.例文帳に追加

レジスト層をマスクとしてシリコンをドライエッチングする方法において、ウォータマークに基づくシリコン残渣の発生を防ぐ。 - 特許庁

An AND circuit 50 masks the signal HS through the use of the signal MSK to generate a masked horizontal synchronizing signal HS'.例文帳に追加

アンド回路５０は、マスク信号MSKを用いて水平同期信号ＨＳをマスクしてマスク済水平同期信号ＨＳ’を生成する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device wherein the number of masks used for manufacturing thin film transistors and to provide a fabrication method thereof.例文帳に追加

薄膜トランジスタの製造に使用されるマスクの数を減少させた液晶表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To simplify a step and avoid alignment using a plurality of masks to improve alignment accuracy.例文帳に追加

工程の簡略化を実現すると共に複数のマスクによる目合わせを回避してアライメント精度を向上させることができる。 - 特許庁

Detector channels of the reading head parts 60 and 60' are optical fiber detector channels having phase grid masks 120.例文帳に追加

読み取りヘッド部分６０，６０’の検出器チャネルは、それぞれの位相格子マスク１２０を有した光ファイバ検出器チャネルである。 - 特許庁

When exposing by using respective masks, exposure is performed with exposure quantity corresponding to SAG amount (amount of sensitization) of respective irradiation regions.例文帳に追加

各マスクを用いた露光に際しては、各照射領域のＳＡＧ量（感光量）に応じた露光量で露光を行う。 - 特許庁

To provide a self-alignment technique capable of forming a fine pattern regardless of the overlay error between first and second exposure masks.例文帳に追加

第１の露光マスクと第２の露光マスクのオーバーレイ誤差によらず、微細なパターンを形成できる自己整合技術を提供する。 - 特許庁

Parts of masks 5a to 5g smeared away black are light shielding sections and annular parts with hatching transmit light.例文帳に追加

マスク５ａ〜５ｇの黒く塗りつぶした部分は、遮光部であり、ハッチングを施した円環状の部分は透過させるようになっている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which process control is performed considering information on a plurality of masks with different patterns.例文帳に追加

パターンの異なる複数のマスクの情報を考慮したプロセス制御が可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

Levenson masks 10 and 20 have patterns in which shifter parts 121,... and non-shifter parts 131,... are arranged opposite to each other across shading parts 111,....例文帳に追加

レベンソンマスク１０，２０は、遮光部１１１，…を挟んでシフタ部１２１，…及び非シフタ部１３１，…が対向配置されたパターンを有する。 - 特許庁

The suspects are heavily armed men and women in ski masks shot a security guard inside the building, then made off with numerous sensitive surveillance hard drives.例文帳に追加

容疑者は重武装した男性と女性です ビル内の警備員を撃ち 多数の高感度監視 ハードディスクを持ち去りました - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

Otoko-mai is the mai-goto that samurai with no masks dance quickly and vigorously in Genzai-mono (noh plays of a miscellaneous or contemporary character), including "Ataka" or "Morihisa", and always accompanied on dai-sho hand drums. 例文帳に追加

男舞は「安宅」「盛久」など現在物の直面の武士が速く颯爽と舞う舞事で、必ず大小物に限る。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Of these, the masks with the name of Tenpyo-shoho era (749 - 757), which remain at Shoso-in, were used at the Great Buddha Eye-opening ceremony. 例文帳に追加

このうち正倉院に残る天平勝宝の年号をもつものは、大仏開眼法要の時に使われたものである。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

If a client attempts to select any of these event masks and some other client has already selected one, a BadAccess error results.例文帳に追加

あるクライアントがこれらのイベントマスクを選択しようとしたときに、他のクライアントがすでにこれを選択していた場合は、エラーBadAccessとなる。 - XFree86

To provide a masking device which causes no unevenness in coating vehicle wheels and reduces a cost in producing and managing masks.例文帳に追加

車両用ホイールの塗装ムラをなくすとともに、マスクの製作，管理のためのコストを削減できるマスキング装置を提供する。 - 特許庁

The control circuit 10 masks control for reducing the driving power supplied to the discharge lamp 4, in the DC period.例文帳に追加

制御回路１０は、放電灯４に供給される駆動電力を小さくする制御を、ＤＣ期間においてはマスクする。 - 特許庁

In the mask pallet of the mask autoloader, a magnet 32 is attached to the upper part of a guide pin 31 for supporting a mask 1 to magnetize the mask 1 by means of the magnet 32, and a plurality of sheets of the masks 1 is allowed to repel each other and extra sheets of the masks 1 are allowed to fall.例文帳に追加

マスク自動装着装置のマスク収納パレットにおいて、マスク１を支持するガイドピン３１上部に磁石３２を取り付け、該磁石３２によりマスク１を磁化し、複数枚のマスク１を互いに反発させて余分のマスク１を落下させる。 - 特許庁

An evaluation determining processing part 36 calculates dispersion SigX, SigY of differences DX, DY between the masks MBks detected from the processing part 34 and the masks MAks respectively corresponding thereto and evaluates distortion in collation image data B.例文帳に追加

評価判定処理部３６は、最大相関領域検出処理部３４により検出されたマスクＭＢｋと、それぞれに対応するマスクＭＡｋとの位置の差分ＤＸ，ＤＹの分散ＳｉｇＸ，ＳｉｇＹを算出して照合画像データＢの歪みを評価する。 - 特許庁

When Hideyoshi's subordinates distinguished themselves in a war, Hideyoshi used to grant tea ceremony utensils evaluated by SEN no Rikyu for them as incentive award at the beginning, however, later, since he came to grant Noh masks as their award, a lot of Noh masks which had added value were required, and for these reasons, the title 'Tenka ichi' was given to Yoshimitsu Zekan DEME. 例文帳に追加

「天下一」の称号は、秀吉が部下の武将の戦功の際、当初は千利休に鑑定させた茶器を与えていたが、のちには能面を賞として与えるようになったため、付加価値のある多数の面を必要としたためでもあった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The equipment for mask has a mask mounting section 60a which can freely attachably and detachably mount masks 30 for deposition to and from a substrate 7 in a deposition position and a mask housing section 62 which has first to third housing sections 64 to 66 in which the masks 30 are housed.例文帳に追加

本発明のマスク装置は、基板７に対し成膜用のマスク３０を成膜位置に着脱自在に装着可能なマスク装着部６０ａと、マスク３０を収容する第１〜第３の収容部６４〜６６を有するマスク収容部６２とを有する。 - 特許庁

A method for manufacturing the floor material 1 comprises the step of forming masks on planes to form the convex regions (protrusions 30) in the surface of the metal plate, and the step of immersing the metal plate with the masks in an etching liquid so as to form recesses (grooves 20) in the surface of the metal plate.例文帳に追加

床材１の製造方法は、金属板の表面のうち凸領域（凸部３０）となる面にマスクを形成する工程と、マスクを形成した金属板をエッチング液に漬けて金属板の表面に凹部（溝２０）を形成する工程とを有する。 - 特許庁

The exposure apparatus PE1 includes a mask stocker 71 for accommodating a plurality of masks M by arranging in parallel a plurality of exposure units 100A, 100B, and a unit of mask loader 70 for supplying the predetermined number of masks M to mask stages 10A, 10B from the mask stocker 71.例文帳に追加

露光装置ＰＥ１は、複数の露光ユニット１００Ａ，１００Ｂを並列配置し、複数枚のマスクＭを収容するマスクストッカ７１と、マスクストッカ７１から所定のマスクＭをマスクステージ１０Ａ，１０Ｂに供給する１台のマスクローダ７０と、を備える。 - 特許庁

Thus the pattern boundary section is reliably exposed by exposure using the third and fourth stencil masks 13 and 14, even if the pattern boundary section is not connected precisely by the first and second stencil masks 11 and 12.例文帳に追加

これにより、第１のステンシルマスク１１と第２のステンシルマスク１２とでパターン境界部分が精度良く接続されなかった場合であっても、第３のステンシルマスク１３と第４のステンシルマスク１４とを用いた露光によってパターン境界部分が確実に露光される。 - 特許庁

Swirl masks 9 and 10 for guiding an intake flow in the tangent direction of the cylinder and tumble masks 11 and 12 for guiding the intake flow in the radial direction of the cylinder, are arranged in a partially overlapping shape on the outer periphery of opening parts 7 and 8 for seating intake valves 1 and 2.例文帳に追加

吸気弁１，２が着座する開口部７，８の外周に、吸気流をシリンダの接線方向に案内するスワール用マスク９，１０と、吸気流をシリンダの径方向に案内するタンブル用マスク１１，１２と、が部分的に重複して設けられている。 - 特許庁

A comparator 18 determines which of the scaling masks coincides with the waveform 11 in at least one preliminarily determined position within the display space 14 by comprising the waveform 11 with the displayed scaling masks in the above one position.例文帳に追加

コンパレータ(18)は、表示スペース(14)内の予め指定された１つ以上の位置において、波形(11)と、表示された一連のスケーリング・マスクとを比較することにより、一連のスケーリング・マスクのうちのどれが、前記１つ以上の位置において波形(11)と一致するかを決定する。 - 特許庁

Masks M used in an exposure process are transferred and stored in the library 5 together with the case container 3, so that a limited space in the device can be effectively utilized, and the masks M are efficiently taken out towards an exposure system body 2.例文帳に追加

露光工程で必要なマスクはケース容器３ごとライブラリ５に移送され保管されるべきマスクは保管部４において保管されるので限られた装置内のスペースは有効に使用されるとともに、マスクは露光装置本体２に向かって効率良く取り出される。 - 特許庁

The boundary area encloses the cue component and code part, and masks unwanted noise which can interfere decoding of the code part.例文帳に追加

境界領域は、手掛かりコンポーネントおよびコード部分を囲み、コード部分の復号化に干渉するおそれのある不要なノイズをマスクする。 - 特許庁

At least one of the second and third masks 102, 103 has diagram openings, comprising repeated fine-element patterns.例文帳に追加

第２マスク１０２または第３マスク１０３の少なくともいずれか一方は微細素子パターンの繰り返し図形の開口を有している。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display capable of decreasing the number of masks used to manufacture a thin film transistor, and its manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、薄膜トランジスタの製造に使われるマスク数を減少し得る液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a semiconductor device, which prevents a portion serving as a semiconductor layer from being exposed to moisture or the like and reduces the number of masks.例文帳に追加

半導体層となる部分が水分などに曝されず、マスク枚数を削減する半導体装置の作製方法を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display element and its fabrication method capable of reducing the number of masks to be used for fabrication of a thin film transistor.例文帳に追加

薄膜トランジスタの製造に使用されるマスクの数を減少させる液 晶表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mask blank suited for manufacturing substrate digging type phase shift masks, including a light-shielding film pattern of a tantalum-based material.例文帳に追加

タンタル系材料の遮光膜パターンを有する基板掘り込みタイプの位相シフトマスクを作製するのに適したマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To quickly obtain final pattern data in a mask design step where masks used in the manufacture of a semiconductor integrated circuit device are designed.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造に用いられるマスクの設計段階において、最終的なパターンデータを迅速に得ること。 - 特許庁

Optical devices (11 and 101) have lens systems (14 and 104) arranged at the back side of masks (13 and 103) with an optical path as a reference.例文帳に追加

光学装置（１１,１０１）は、マスク（１３,１０３）の後ろ側に光路を基準として配置されるレンズシステム（１４,１０４）を有する。 - 特許庁

The government is planning to have the new mark appear on a variety of goods for daily use as well as on such specialized goods as hardtack, masks and helmets. 例文帳に追加

政府は，乾パン，マスク，ヘルメットのような専用商品だけでなく，さまざまな日用品にもその新マークを表示する予定である。 - 浜島書店 Catch a Wave

To efficiently manufacture an optical disk, including an operation for attaching and detaching masks within a vacuum vessel before and after a sputtering film formation process.例文帳に追加

スパッタ成膜工程の前後にマスクの着脱を真空容器内で行なう操作を含めて効率よく光ディスクを製造する。 - 特許庁

To provide a thin film transistor substrate which restrains deterioration of manufacturing yield and reliability of a TFT by minimizing the number of masks.例文帳に追加

マスク数を可及的に減らし、製造歩留まり及びＴＦＴの信頼性の低下が抑制されれた薄膜トランジスタ基板を提供する。 - 特許庁

With an SiO_2 film 103 and an upper photosensitive resist film 104 as masks, plasma etching for a lower organic system resist film 102 is performed.例文帳に追加

ＳｉＯ_2膜１０３と上層感光性レジスト膜１０４とをマスクとして、下層有機系レジスト膜１０２のプラズマエッチングを行う。 - 特許庁

To enable drawing of integrated circuits mask patterns efficiently at manufacturing processes of masks used at manufacturing of semiconductor integrated circuits devices.例文帳に追加

半導体集積回路装置の製造に用いられるマスクを製作する工程において、集積回路マスクパターンを効率的に描画する。 - 特許庁

First metallic wiring masks 40 having a width of 0.35 μm are formed on the silicon oxide film by a photolithographic method using an i-ray exposure machine.例文帳に追加

シリコン酸化膜上に、ｉ線露光機を用いたフォトリソグラフィ法により、幅が０．３５μｍの第１メタル配線マスク４０を形成する。 - 特許庁