「Masks」に関連した英語例文の一覧と使い方(14ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a translucent type liquid crystal display (LCD) and a method for manufacturing the same which allow the number of masks to decrease, using a half-tone mask and diffraction exposure process.例文帳に追加

ハーフトーンマスクと回折露光を用いてマスク数を減らすことのできる半透過型液晶表示装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

One of two types of masks overlap at least the edge of part of the patterned tensile distortion film, while the other is separated from the edge in the direction of interior of the surface.例文帳に追加

２種類のマスクの一方は、パターニングされた引張歪膜の少なくとも一部の縁と重なり、他方は、該縁から面内方向に隔てられている。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of aligning masks and a material to be exposed with high precision by suppressing flection of the material to be exposed due to its own weight.例文帳に追加

被露光材の自重による撓みを抑制することで、マスクと被露光材のアライメントを高精度に行うことができる露光装置を提供する - 特許庁

In this pattern forming method, a circuit pattern 14 is formed on a resist film on a substrate 141 with an exposing process using phase shift masks 10, 12.例文帳に追加

本発明のパターン形成方法は、位相シフトマスク１０，１２を用いた露光により、基板１４１上のレジスト膜に回路パターン１４を形成するものである。 - 特許庁

The inspection image mask section 224 masks inspection image data obtained by reading out the print results from a printer 100 using that preprint image.例文帳に追加

検査画像マスク部２２４は、印刷装置１００の印刷結果を読み取ることで得られた検査画像データをそのプレプリント画像を用いてマスクする。 - 特許庁

Furthermore, the chip identification pattern 13 can be formed by masks few in number by exposing exposure shot positional information with the size of exposure shot different from a normal size.例文帳に追加

また、露光ショット位置情報を通常と異なる露光ショット寸法にて露光することにより数少ないマスクでチップ識別パターン１３を形成できる。 - 特許庁

To manufacture an exposure mask group with high accuracy by considering difference in the pattern density of exposure masks where mask areas corresponding to various processes are present as mixed.例文帳に追加

異なる工程に対応したマスク領域が混在する露光用マスクのパターン密度差を考慮して精度の高い露光用マスク群を製造すること。 - 特許庁

To provide a touch panel sensor capable of preventing fluctuation of electric resistance of a pattern of a metal layer due to relative displacement between exposure masks.例文帳に追加

露光マスク間の相対的な位置ずれに起因して金属層のパターンの電気抵抗が変動することを防ぐことができるタッチパネルセンサを提供する。 - 特許庁

Thereafter, the current injecting region of the semiconductor laminate is formed in a ridge-like shape RD through etching by using the mask layers 40 and 42 as masks.例文帳に追加

次に、第１および第２マスク層（４０，４２）をマスクとしてエッチングを行い、半導体積層の電流注入領域をリッジ形状ＲＤに加工する。 - 特許庁

To prevent the degradation in arrangement accuracy of filters of respective colors with respect to pixels when alignment of masks is performed for every color in patterning of a color filter array of a solid state imaging element.例文帳に追加

固体撮像素子のカラーフィルタアレイのパターニングにおけるマスクの目合わせを各色毎に行うと画素に対する各色のフィルタの配置精度が低下する。 - 特許庁

To provide a mask storing case which can store a plurality of unused masks and temporarily store a mask in use.例文帳に追加

複数枚の未使用のマスクを収納することができ、且つ、使用途中のマスクを一時的に保管することができる携帯用マスク収納ケースを提供すること。 - 特許庁

To provide a deodorant which effectively masks or deodorizes the smell of a 4-methyl-3-hexenoic acid and a deodorant composition for a textile product which contains the deodorant.例文帳に追加

4-メチル-3-ヘキセン酸のニオイを効果的にマスキング又は消臭する消臭剤、それを含有する繊維製品用の消臭剤組成物の提供 - 特許庁

A distance between head and paper is measured, and based on the result of the measurement, a mask to be used is selected among the masks with different recording duties to perform a recording.例文帳に追加

ヘッド紙間距離を測定して、その測定結果に基づいて記録デューティーの異なるマスクの中から使用するマスクを選択して記録を行う。 - 特許庁

To solve the problem that two resist masks are required to form a reflective electrode and a transparent electrode; therefore, cost is high in a semi-transmission liquid crystal display device.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置において、反射電極と透明電極とを構成する場合、２つのレジストマスクを用いるため、コストが高い。 - 特許庁

The control part 2 controls a mask control part 3 based on the instruction and the control part 3 masks the operation of the inner blocks 51, 52, 53...5n at a proper time.例文帳に追加

デバッグ制御部２は、この命令により、マスク制御部３を制御し、マスク制御部３は、適時に内部ブロック５１，５２，５３…５ｎの動作をマスクする。 - 特許庁

Then, a first plating process is conducted, and an intermediate copper plated layer 21 is formed on the region excluding the part covered by the masks 20 as shown in (c).例文帳に追加

次いで、第１のめっき工程を実行し、導体パターン１２の表面に、マスク２０で覆われた部分を除いて中間銅めっき層２１を形成する（ｃ）。 - 特許庁

The mask of different size is held by the plurality of holder portions and exposed without preparing mask attachments by masks of different size.例文帳に追加

異なる大きさのマスク毎にマスクアタッチメントを用意する必要なく、異なる大きさのマスクを複数のホルダ部により保持して露光を行うことができる。 - 特許庁

Then, ion implantation using the readout electrode and the side walls as masks is carried out to form a second impurity region 8 of one conductivity type in a self-alignment manner.例文帳に追加

読み出し電極とサイドウォールをマスクとするイオン注入により自己整合的に、一導電型の第二不純物領域８を形成する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for reducing speckle during inspection of articles used in the manufacture of semiconductor devices, including wafers, masks, photomasks, and reticles.例文帳に追加

ウエハ、マスク、ホトマスクおよびレチクルを含む半導体デバイスの製造に用いられる製品の検査中にスペックルを減少するための方法および装置を提供する。 - 特許庁

A spectrogram mask is produced by providing a plurality of frequency masks FM (t1) to FM (t3) determined by the magnitude of a spectrum and a frequency along a time base.例文帳に追加

スペクトルの大きさと周波数とで決まる周波数マスクＦＭを時間軸に沿って複数個ＦＭ(t1)〜ＦＭ(t3)用意して、スペクトログラム・マスクを作成する。 - 特許庁

After exposing the resist 4 by using the masks 5a to 5f, exposure is performed by using the mask 5g for complete exposure having all transparent exposure regions A to F.例文帳に追加

マスク５ａ〜５ｆを用いてレジスト４を露光した後に、Ａ〜Ｆの全露光領域が透明となっている全面露光用マスク５ｇを用いて露光を行う。 - 特許庁

The second metallic layers 60 are dry-etched with the plurality of plating electrodes 70 as masks so as to expose the Au layer 53 of the first metallic layers 50.例文帳に追加

次に、複数のメッキ電極７０をマスクとして第１金属層５０のＡｕ層５３が露出するまで第２金属層６０をドライエッチングする。 - 特許庁

Driving force is obtained from the bosses 14a and 14b of a changeover lever 14, and light-shielding masks 11 and 12 are relatively moved, so that a visual field is switched.例文帳に追加

切替レバー１４のボス１４ａ，１４ｂから駆動力を得て、遮光マスク１１，１２を相対的に移動させることによって、視野を切り替える。 - 特許庁

To provide a method of fabricating a photoelectric conversion device which uses a photodiode suppressing a dark current without increasing the number of masks.例文帳に追加

暗電流を抑えることができるフォトダイオードを用いた光電変換装置を、マスクの枚数を増やすことなく作製できる方法の提供を、目的の一とする。 - 特許庁

To provide a display device having a good yield with a small number of masks by simultaneously forming a thin film transistor and a terminal connection part in an active-matrix substrate.例文帳に追加

アクティブマトリクス型基板において、薄膜トランジスタと、その端子接続部を同時に作り込み、少ないマスク数で歩留まりの良い表示装置を提供する。 - 特許庁

If it is not under magnification, the OSD control device 24 masks the background portion in a single color (for example, blue back indication), and displays a magnification sized operation icon.例文帳に追加

拡大中でなければ、ＯＳＤ制御装置２４は、背景部分を単一色（例えばブルーバック表示）でマスクし、拡大サイズの操作アイコンを表示する。 - 特許庁

To provide a method to determine one or a plurality of optimal focuses in a short time, to provide a device manufacturing method, and to provide masks used for these methods.例文帳に追加

短時間で１つまたは複数の最適焦点を決定するための方法、及びデバイス製造方法、そのために使用されるマスクを提供すること。 - 特許庁

To improve the on current of a PMOS transistor by forming a SiGe layer in the source/drain diffusion layer of the PMOS transistor without increasing the number of masks.例文帳に追加

マスク数を増やすことなく、ＰＭＯＳトランジスタのソース／ドレイン拡散層内にＳｉＧｅ層を形成することで、ＰＭＯＳトランジスタのオン電流を向上する。 - 特許庁

A nearly-punctate through hole on an one- or two-dimensional array (12, 15) is incorporated into the perforated masks (2, 6) on both the inlet and outlet ends of the interferometer.例文帳に追加

１次元又は２次元配列（１２，１５）のほぼ点状の貫通孔が、干渉計の入口端及び出口端の孔空きマスク（２，６）に組み入れられている。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for automatically splitting a complex circuit pattern into two or more less complex masks in an efficient and effective manner.例文帳に追加

複雑な回路パターンを２つ以上のこれより複雑でないマスクに効率的かつ効果的な方法で自動的に分割する方法および装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem wherein two resist masks are required to form a reflective electrode and a transparent electrode and therefore, cost becomes high in a transflective liquid crystal display.例文帳に追加

半透過型液晶表示装置において、反射電極と透明電極とを構成する場合、２つのレジストマスクを用いるため、コストが高い。 - 特許庁

(3) Masks which are used to remove prescribed regions from the formation centers of the conductive posts are placed respectively on both main faces of the Fe-Ni-based alloy plates.例文帳に追加

３．該熱・電気伝導性ポストの形成中心から所定領域を除去するマスクを前記Ｆｅ−Ｎｉ系合金板の両主面に夫々載置。 - 特許庁

The semiconductor substrate is exposed by performing an etching process to the insulating film between the planarizing layers using the photoresist pattern and the other photoresist pattern as etching masks.例文帳に追加

フォトレジストパターン及び他のフォトレジストパターンをエッチングマスクとして用いて平坦化層間絶縁膜にエッチング工程を実行して半導体基板を露出する。 - 特許庁

Next, the upper wiring 9 and source/drain electrodes 10, 11 are formed simultaneously with lift-off, using the first and second resist patterns 7, 8 as the masks.例文帳に追加

次に，第一及び第二のレジストパターン７，８をマスクとするリフトオフにより，上層配線９及びソース・ドレイン電極１０，１１を同時に形成する。 - 特許庁

This gilt bronze saddle is in Senbi style with patterns of palmette (Buddhist-style arabesque design), phoenixes, dragons, devil masks, strange fish, elephants, lions, and rabbits. 例文帳に追加

この金銅製の鞍は、鞍の形が鮮卑式であり、パルメット(仏教式唐草模様)、鳳凰、龍、鬼面、怪魚、象、獅子、兎などのモチーフが使われている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

To provide a mask which is hardly bent by a self weight, a method for manufacturing the mask, and a film-forming apparatus by using the masks.例文帳に追加

自重による撓みを容易に防止することができるマスク、マスクの製造方法、またこれらのマスクを用いた成膜装置等を提案することを目的とする。 - 特許庁

In addition, by combining the first mask and the second mask, these masks make an opening only at the position of forming the opening for the film to be worked.例文帳に追加

更に、第１のマスク及び第２のマスクは、両者を組み合わせることにより、被加工膜の開口を形成する位置においてのみ開口するようにする。 - 特許庁

The manufacturing device responds to the welding process between multiple types of shadow masks 13 and mask frames 14, and saves on a space while having the plurality of types of positioning heads 26.例文帳に追加

多くの品種のシャドウマスク13とマスクフレーム14との溶接処理に対応し、複数の品種別の位置決めヘッド26を備えていながら省スペース化する。 - 特許庁

With the tin plating 2 as a mask, the copper foil 1 is etched to make it into separated protuberant bodies 10, and with the protuberant bodies 1 as masks, the nickel plating 3 is etched.例文帳に追加

スズめっき２をマスクとして銅箔１をエッチングして離散的な凸状体１０となし、凸状体１０をマスクとしてニッケルめっき３をエッチングする。 - 特許庁

An abnormality time processing object 300 issues an abnormality cord mask request and thereby an abnormality cord storing object 400 masks an abnormal cord.例文帳に追加

すると、異常時処理オブジェクト３００は異常コードマスク要求を発行し、これによって、異常コード記憶オブジェクト４００が異常コードをマスクする。 - 特許庁

In this method for manufacturing the steel sheet for shadow masks, cold rolling is performed by using work rolls which are ≤2 μm in the circumferential runout in the roll radial direction.例文帳に追加

ロール半径方向の円周振れが2μm以下のワークロールを用いて冷間圧延することを特徴とするシャドウマスク用鋼板の製造方法。 - 特許庁

To shorten a period of manufacture and reduce a cost by reducing the number of sheets of additional masks needed to subject a nonvolatile memory to a standard CMOS logic process.例文帳に追加

標準ＣＭＯＳロジックプロセスに不揮発メモリを混載するために必要な追加マスク枚数を削減し、製造期間短縮とコスト低減を図る。 - 特許庁

To provide an apparatus for inspecting a shadow mask which can separate surely and easily one sheet of shadow mask from overlapped thin plate-shaped shadow masks of several sheets.例文帳に追加

複数枚重ね合わされた薄板状のシャドウマスクから、１枚のシャドウマスクを確実かつ容易に分離できるシャドウマスク検査装置を提供する。 - 特許庁

To fabricate a liquid crystal display (LCD) with less masks to simplify manufacturing steps and to reduce a manufacturing cost.例文帳に追加

マスク数を減少させて製造工程を単純化し、製造コストを低減できる液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mask 1 which enables someone facing a person wearing it to see well the person's face and which includes the same functions and can be used for the same purpose as those of conventional masks.例文帳に追加

対面者に装着者の顔がよく見え、従来のマスクと同様の機能を維持し、同様の用途で使用できるマスク１を提供する。 - 特許庁