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O2を含む例文一覧と使い方

該当件数 : 673



例文

Moreover, the microscope is equipped with angle changing means 26-28 changing the angle of the incident optical axis O2 that the light is made incident on the microscope for the assistant 3.例文帳に追加

また、助手用顕微鏡3に入射させる入射光軸O2の角度を変更する角度変更手段26−28を備えている。 - 特許庁

The SiN film 3 is selectively etched through a plasma etching method where CF4 gas and O2 gas are used, by which the film 3 is made to recede from the edge of the trench 5.例文帳に追加

CF_4 ガスとO_2 ガスとを用いたプラズマエッチング法によりSiN膜3を選択的にエッチングし、トレンチ5の外側に後退させる。 - 特許庁

When feedback control is performed in a stoichiometric mode, actual charging efficiency cecal is computed based on O2 sensor output and injection pulse width Ti (SA9).例文帳に追加

ストイキオモードでフィードバック制御を行うときに、O2センサ出力と噴射パルス幅Tiとに基づいて実際の充填効率cecalを演算する(SA9)。 - 特許庁

Heating treatment is performed in a reaction furnace in the atmosphere of O2, and the SiO2 film 2 of film thickness A is formed on an Si substrate 1 being an Si layer.例文帳に追加

反応炉内で、O_2 雰囲気中で加熱処理を行い、Si層であるSi基板1上に膜厚AのSiO_2 膜2を形成する。 - 特許庁

例文

When the nitrogen gas flow passage 20 is broken with a coolant flow passage 13 of the transport tube, the mixture gas of N2 and O2 intrudes inside of the nitrogen gas flow passage 20.例文帳に追加

輸送管の冷媒流路13と共に窒素ガスの流路20が破壊されると、窒素ガスの流路20内にN_2とO_2の混合気体が侵入する。 - 特許庁


例文

O2 sensor output SVO2 has little fluctuation if the three-way catalyst 14a is normal by establishing the target values OSOBJR, OSOBJL appropriately.例文帳に追加

目標値OSOBJR,OSOBJLを適切に設定することにより、三元触媒14aが正常であれば、O2センサ出力SVO2はほとんど変動しない。 - 特許庁

The tool turning unit 17 turns the tool 65 around the turning center line O2 of the tool orthogonal to the turning center line of the turret 16.例文帳に追加

前記工具旋回ユニット17は、タレット16の旋回中心線と直交する工具旋回中心線O2回りに工具65を旋回する。 - 特許庁

To surely seal a penthouse, and to prevent any unbalance of O2 in the exhaust gas in the penthouse caused by the sealing gas.例文帳に追加

ペントハウス8内のシールを確実にするとともに、シール用のガスでペントハウス8内の排ガス中のO_2のアンバランスが発生しないようにすること。 - 特許庁

The substrate is cleaningly etched, using a plasma of a mixture gas of CF4 and O2 to remove organic layers 30 deposited at the bottoms of the holes 20 and 22.例文帳に追加

CF_4とO_2の混合ガスのプラズマを用いて、コンタクトホール20,22の底部に堆積する有機層30を除去するクリーニングエッチングを行う。 - 特許庁

例文

The axis of a disk-like casing 10 is set to a first center O1, and a second center O2 is set to a position eccentric from the first center O1.例文帳に追加

円盤状のケーシング10の軸心を第1の中心O1に設定し、第1の中心O1から偏心する位置に第2の中心O2を設定する。 - 特許庁

例文

The straight line connecting the center O1 of the stud bolt 31 and the axial center O2 of the bearing 30 is set in a string tensing direction.例文帳に追加

前記スタッドボルト31の中心O1と、前記ベアリング30の軸方向の中心O2とを結ぶ直線が張弦方向になるように設定する。 - 特許庁

In this way, the thin film having a compsn. same as that of the target material can more easily be obtd. without requiring the introduction of geseous O2 or heating of the substrate.例文帳に追加

これにより、O_2ガスの導入や基板加熱を必要とすることなく、より簡単にターゲット材と同一組成の薄膜を得ることが可能となる。 - 特許庁

The gaseous NO which is supplied to the central part of the plasma channel 3 is not subject to dissociation but excited to make the gaseous O2 into the excitation oxygen.例文帳に追加

プラズマチャンネル3の中心部分に供給されるNOガスは、窒素と酸素に解離されることなく、O2ガスを励起して励起酸素としている。 - 特許庁

Before depositing the silicon oxide film by plasma CVD, the wafer is heat-treated in an O2 atmosphere or N2O(nitrous oxide) atmosphere.例文帳に追加

本方法では、シリコン酸化膜をプラズマCVD法により成膜前に、O_2 雰囲気中又はN_2 O(亜酸化窒素)雰囲気中でウエハに熱処理を施す。 - 特許庁

The states of the other output terminals O3 to O8 are found from the input terminals I3 to I8 of the respective unit slaves 1_11 to 1_18, similarly to the output terminals O1, O2.例文帳に追加

他の出力端子O3〜O8の状態も出力端子O1,O2と同様に、各子機1_11〜1_18の入力端子I3〜I8から求められる。 - 特許庁

The projection distance D4 of the outside surface of the arm 28b from the center O2 can be made small and the hinge mechanism 22 can be made compact.例文帳に追加

前記アーム部28bの外側面の前記中心O2からの張り出し距離D4を小さくすることができ、ヒンジ機構22のコンパクト化を図ることができる。 - 特許庁

The control includes controlling of supply amount of O2 to a volume where the projection beam crosses so that the projection beam is attenuated, while it is being controlled.例文帳に追加

制御は、投影ビームが制御された状態で減衰するよう、投影ビームが横断するボリュームへのO_2の供給量を制御することを含む。 - 特許庁

The bearing stone 15 provided in the bearing part of the impeller 5 is arranged with the axial center O1 of the bearing stone 15 shifted from the rotating center O2 of the impeller 5.例文帳に追加

羽根車5の軸受部に設けられる軸受石15を、該軸受石15の軸芯O1を羽根車5の回転中心O2からずらして配置する。 - 特許庁

The region 2b1 of undercut free is provided in an opening side of the joint from a center line O2 of the guide groove 2b, to be in parallel to an axial line of the inner side joint member 2.例文帳に追加

アンダーカットフリー領域2b1は、案内溝2bの中心線O2から継手の開口側に設けられ、内側継手部材2の軸線と平行である。 - 特許庁

When a second casing 52 is slid (linearly moved) with respect to a first casing 50, the ROSA 30 is slid while being positioned on the optical axis O2.例文帳に追加

第2の筐体52を第1の筐体50に対してスライド(直線運動)させた場合、ROSA30は光軸O2上に位置した状態でスライドする。 - 特許庁

An outer ring 32 rotatably supporting the power roller 20 is stored in a pocket part P formed at the center part of the trunnion 22 on the second axis O2.例文帳に追加

トラニオン22の第2の軸線O2方向中央部に設けられたポケット部Pにパワーローラ20を回転自在に支持する外輪32を収容する。 - 特許庁

A humidification duct 80 for allowing the humidified air to flow from an inlet O1 toward an outlet O2, comprises a first flow channel 81 and a second flow channel 82.例文帳に追加

加湿空気を入口O1から出口O2に向けて流すための加湿ダクト80であって、第1流路81と、第2流路82とを備えている。 - 特許庁

When the cylinder inside oxygen quantity O2 reduces up to a critical oxygen quantity O2C in the ordinary operation state, a mode transfers to the low load mode from the ordinary mode.例文帳に追加

通常運転状態において、気筒内酸素量O2が臨界酸素量O2Cまで減少すると、通常モードから低負荷モードに移行する。 - 特許庁

During a polysilicon etch back, a controlled amount of oxygen (O2) is added to the plasma generation feed gases to reduce pitting of the etched back polysilicon surface.例文帳に追加

ポリシリコンのエッチバック中に、制御された量の酸素(O_2)がプラズマ発生供給ガスに添加され、エッチバックされたポリシリコン表面のピットが減少する。 - 特許庁

A controller 4 converts the image from the first eyepoint O1 imaged by the camera 2 to an image viewed from a second eyepoint O2 different from the first eyepoint O1.例文帳に追加

コントローラ4は、カメラ2が撮像した第1の視点O1の画像を第1の視点O1とは異なる第2の視点O2から見た画像に変換する。 - 特許庁

The shafts 36a, 36b are formed such that the axis O1 passes through the center O2 of the lever retaining part 35 becoming the turning center of the change lever 4.例文帳に追加

軸部36a、36bは、その軸心O1が、チェンジレバー4の回動に中心になるレバー保持部35の中心O2を通るように形成されている。 - 特許庁

Each image processing module includes an input and an output Ii, Oi relative to the image and an input and an output I1 to I5, O1, O2 relative to the control signal.例文帳に追加

それぞれの前記画像処理モジュールは、画像に対する入出力Ii、Oiと、制御信号に対する入出力I1ないしI5、O1、O2を含む。 - 特許庁

The control device includes a sub O2 sensor, which is arranged in an exhaust passage of an internal combustion engine, for generating an output based on an oxygen concentration in the exhaust gas flowing through an exhaust passage.例文帳に追加

内燃機関の排気通路に配置され、排気通路を流れる排気ガス中の酸素濃度に応じた出力を発するサブO2センサを備える。 - 特許庁

The third and fourth turning axes O3, O4 are arranged on mutually opposite sides in relation to a line L1 passing through the first and second turning axes O1, O2.例文帳に追加

第3、第4回動軸線O3,O4は、第1、第2回動軸線O1,O2を通る直線L1に関して互いに逆側に位置するように配置する。 - 特許庁

(2) In the above material (1), the excitation gas used for the glow discharging plasma treatment under atmospheric pressure is Ar or He and its reaction gas is O2, N2, H2, or CO2.例文帳に追加

上記 において、大気圧グロー放電プラズマ処理に用いる励起ガスがAr又はHeであり、反応ガスがO_2、N_2、H_2又はCO_2である。 - 特許庁

If fuel is sprayed from the main fuel valve 5 in this state to form premixture, self-ignition is hard to occur since O2 is poor in the area X.例文帳に追加

この状態でメイン燃料弁5から燃料を噴射して予混合気を形成しても領域XではO_2 が少いので自己着火がしにくい。 - 特許庁

The shaft 50 passed through the hole 21 for the shaft in the cover 20 is fixed to the inner rotor 40, and the shaft 50 is disposed concentrically with the second center O2.例文帳に追加

カバー20のシャフト用孔21に貫通させたシャフト50をインナロータ40に固定し、このシャフト50を第2の中心O2と同心的に配設する。 - 特許庁

The substrate W is engaged with a substrate holder 13 fixed to a rotary shaft 12a of a rotating mechanism 12 and is rotatable around the center O2.例文帳に追加

基板Wは回転機構12の回転軸12aに取り付けられた基板保持具13に係合され、中心点O2において回転可能に設けられる。 - 特許庁

This method for stabilizing difluoromethylenebishypofluorite CF2(OF)2 comprises mixing CF2(OF)2 with ≥65 vol.% of COF2 or CF3OOCF3, or85 vol.% of Ar, He, O2 or N2O.例文帳に追加

CF_2(OF)_2に、COF_2またはCF_3OOCF_3を65vol%以上、あるいは、Ar、He、O_2またはN_2Oを85vol%以上混合する。 - 特許庁

The image presenting part 11 presents the image of the field wherein a plurality of mobile objects O1 and O2 are present, which is photographed by the camera C1, to a user.例文帳に追加

画像提示部11は、カメラC1によって撮影された、複数の移動体O1,O2が存在する被写界の画像を利用者に提示する。 - 特許庁

And the axial center O1 of the image forming process member 21 is shifted toward the one end side 11a2 from the axial center O2 of the substrate.例文帳に追加

画像形成プロセス部材21の軸線方向中心部O1は基材の軸線方向中心部O2に対して一端部側11a2へシフトしている。 - 特許庁

The rotation axis of the tool 15, or a determination object, is matched with a measurement origin O2 to measure the radius of the tool 15 by a tool diameter measuring instrument 1.例文帳に追加

判定対象である工具15の回転の軸線を測定原点O2に合わせ、工具径測定装置1により、工具15の半径を測定する。 - 特許庁

Both of the even-numbered fields and odd-numbered fields are doubled similarly thereafter and the even-numbered and odd-numbered fields (E1,1) and (E2,O2) or the like corresponding to each other timewisely are composited and outputted by the frame of the progressive form.例文帳に追加

以下同様に偶奇とも倍のフィールドにし、偶奇で時刻的に対応しあうフィールド(E1,O1)(E2,O2)・・を合成してプログレッシブ形式のフレームで出力する。 - 特許庁

The peripheral part of the above convex lens 1 is processed by the rotating center O1, while the center part O2 of the convex lens 1 is processed by the peripheral part of the cutting edge 3a.例文帳に追加

上記凸レンズ1の周辺部を回転中心部(O1 )で加工し、凸レンズ1の中心部(O2)を切れ刃3aの周辺部で加工する。 - 特許庁

The distribution of O2 may be uneven, for example, since a diffraction order which is spacially separated is selectively shielded, or unevenness of the projection beam is settled.例文帳に追加

O_2の分布は、例えば空間的に分離された回折オーダーを選択的に遮るか、投影ビームの不均一性を解消するため、不均一でよい。 - 特許庁

Centers O1 of the outer diameter surfaces of the large end 3 and the small end 4 are decentered to the rod 2 side relative to centers O2 of the through holes 5.例文帳に追加

大端部3および小端部4における外径面の中心O1は、貫通穴5の中心O2に対してロッド部2側へ偏心させている。 - 特許庁

Positioning collimation points O1, O2 corresponding to reference points O3, O4 are prearranged by dimensional measurement on the basis of an installing position on design.例文帳に追加

予め、設計上の据付位置に基づく寸法取りによって基準点O3,O4に対応する位置決め用照準点O1,O2を設けておく。 - 特許庁

NOx catalyst 14 is arranged in an engine exhaust pipe 12, an A/F sensor 26 is arranged in its upstream, and an O2 sensor 27 is arranged in the downstream.例文帳に追加

エンジン排気管12にはNOx触媒14が配設され、その上流側にはA/Fセンサ26が配設され、下流側にはO2 センサ27が配設されている。 - 特許庁

An output O1 for indicating normality and an output O2 for indicating abnormality are outputted from a neural network part 10 to a judging part 20.例文帳に追加

ニューラルネットワーク部10からは、正常であることを示す出力O_1 、異常であることを示す出力O_2 が、判定部20に対して出力される。 - 特許庁

The sub F/B part 41 variably establishes target air fuel ratio in an upstream of a catalyst based on detection signal of an O2 sensor 17 provided in a downstream of the catalyst.例文帳に追加

サブF/B部41では、触媒下流側に設けたO2センサ17の検出信号に基づいて触媒上流側の目標空燃比を可変設定する。 - 特許庁

The O2 gas resolves the carbon compound having a high molecular weight such as siloxane and generates a molecule having a relatively small molecular weight such as H2O and CO2.例文帳に追加

O_2ガスはシロキサン等の分子量が高い炭素化合物を分解してH_2O及びCO_2等の比較的分子量が小さい分子を生成する。 - 特許庁

The cleaning liquid S containing ozone enters into excited state as represented by 'O3 → O(3P)+O2' and oxygen radicals can be obtained with low energy.例文帳に追加

このときオゾンを含む洗浄液Sは紫外線が照射されたことによって“O_3 → O(^3p)+ O_2 ”のような励起状態をとり、低エネルギーで酸素ラジカルを得ることができる。 - 特許庁

The center O1 of the first magnet 43a and the center O2 of the second magnet 44a are located apart from each other in the X direction and in the Z direction.例文帳に追加

第1の磁石43aの中心O1と第2の磁石44aの中心O2が、X方向とZ方向の双方に離れて位置している。 - 特許庁

An Mg layer 22 of and a Ce layer 23 of a single crystal are formed continuously on an Si substrate 21, and then O2 molecule 24 is supplied on the Ce layer 23.例文帳に追加

Si基板21上に単結晶のMg層22,Ce層23を連続して形成した後、Ce層23の上にO_2 分子24を供給する。 - 特許庁

例文

The side-wall deposit 118a is oxidized with oxygen ion at O2-RIE in a resist film removing process S6, to become an SiO2 film.例文帳に追加

かかる側壁堆積物118aは,レジスト膜除去工程S6におけるO_2−RIE時に酸素イオンにより酸化されて,SiO_2膜となる。 - 特許庁




  
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