「O2」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The first transistor T1 is formed at the first arranging point O1 of four image cells Ca arranged in the row and column directions, and the second transistor T2 is formed at the second arranging point O2.例文帳に追加

行方向及び列方向に配列された４つの画像セルＣａの第１配置点Ｏ１には第１トランジスタＴ１が形成され、第２配置点Ｏ２には第２トランジスタＴ２が形成される。 - 特許庁

The manufacturing method is as follows: for a specified time of about several seconds after the start of the etching, the flow rate of CHF3 is raised and the flow rate of O2 is dropped, relative to those flow rates in the usual etching.例文帳に追加

エッチング開始後、数秒間程度の所定の時間、通常のエッチングのときのＣＨＦ_3 の流量およびＯ_2 の流量に対して、ＣＨＦ_3 の流量を大きくし、Ｏ_2 の流量を小さくする。 - 特許庁

Back to arrival and shipping information tied by the link number o2 up to arrival information of a pickup point 1 in which the carrying number i1 is written, the distribution route of the case #1 is specified.例文帳に追加

そして、搬入ナンバｉ１が書き込まれている集荷場１の入荷情報まで、リンクナンバｏ２によって紐付けられる入出荷情報を遡って、ケース＃１の流通経路を特定する。 - 特許庁

The right and left divided operation panels 5A, 5B are bi-parting doors, and are freely moved to the position above the opening and closing cover portion 45 and the refuge position by swivelling about vertical swivelling axes O2 provided on side portions of the machine cover 3 respectively.例文帳に追加

左右の分割操作盤部５Ａ，５Ｂは、それぞれ機体カバー３の側部側に設けた鉛直旋回軸Ｏ２回りに前記上方位置と退避位置とに位置切換自在な両開き式とされる。 - 特許庁

The tip of the head case 25 is provided with the tool rotating shaft 27 on which a tool 26 rotating around a first orthogonal axis O2 orthogonal to the central axis O1 of the indexing rotating shaft 24 is mounted.例文帳に追加

このヘッドケース２５の先端部に割出回転軸２４の中心軸線Ｏ１と直交する第１直交軸線Ｏ２の回りで回転する工具２６を装着する工具回転軸２７を設ける。 - 特許庁

The deburring head 2 includes the roll-like brush member 20 rotatable around a brush axis O1, and a pivoting support member 26 supporting the brush member 20 so as to freely be pivoted around a pivot O2.例文帳に追加

バリ取りヘッド２は、ブラシ軸心Ｏ１回りに回転自在なロール状のブラシ部材２０と、ブラシ部材２０を旋回軸心Ｏ２回りに旋回自在に支持する旋回支持部材２６とを有する。 - 特許庁

While the vertex O2 of an input image IMG2 is moved from a left end to a right end of this display displacement search range, similarity between images within a focused area at each relative position is calculated.例文帳に追加

入力画像ＩＭＧ２の頂点Ｏ２をこの表示ずれサーチ範囲の左端から右端まで移動させて、各相対位置における注目領域ＦＷ内の画像間の類似度が算出される。 - 特許庁

The position of the support portion 15 is adjusted with respect to a base 11, and the tilt of the holder 20 is adjusted to align an optical axis O2 of the collimate light with a reference optical axis O1 of the base 11.例文帳に追加

ベース１１に対して支持部１５の位置を調整し、ホルダ２０の傾きを調整することで、コリメート光の光軸Ｏ２をベース１１の基準光軸Ｏ１に一致させることができる。 - 特許庁

When a movable rail 232 is moved in the horizontal direction on a fixed block 231, the workpiece axial line O2 in agreement with a spindle axial line O1 is shifted to an insertion hole 22 on the second workpiece side W2.例文帳に追加

固定ブロック部２３１上にて移動レール部２３２を左右方向へ移動させることにより、スピンドル軸線Ｏ１と一致するワーク軸線Ｏ２を第二ワークＷ２側の挿通孔２２に変更する。 - 特許庁

A cut is given to the cover 12 to enable a portion corresponding to a first opening O1 of the cover 12 and a portion corresponding to a second opening O2 to be opened and closed independently, respectively.例文帳に追加

蓋体１２には切り込みが入っており、蓋体１２の第１の開口部Ｏ１に対応する部分と第２の開口部Ｏ２に対応する部分とが、各々独立に開閉可能となっている。 - 特許庁

The first pump cell 6 dissociates O2 and NO in the first chamber 2 to pump generated oxygen ions out of the chamber 2 and controls the concentration of oxygen in the gas coming into contact with the second pump cell 8 so as to lower the same to the utmost.例文帳に追加

第１ポンプセル６は第１室２内のＯ_2及びＮＯを解離して、生じた酸素イオンを室外へ汲み出し、第２ポンプセル８が接触するガス中の酸素濃度を可及的に低く制御する。 - 特許庁

A passive distribution circuit 23 distributes a clock signal CLK supplied to an input terminal I to output terminals O1 and O2, and matches each impedance between the input terminal and the output terminals to 50.例文帳に追加

受動分配回路２３は、入力端Ｉに供給されるクロック信号ＣＬＫを出力端Ｏ１及びＯ２に分配すると共に、これら入出力端の各インピーダンスを５０Ωに整合する。 - 特許庁

Furthermore, it is equipped with moving means 21 to 25 moving the incident optical axis O2 on the microscope for the assistant 3 in a direction nearly orthogonal to the incident optical axis O1 of the master side microscope 2.例文帳に追加

さらに、助手用顕微鏡３への入射光軸Ｏ２を主側顕微鏡２の入射光軸Ｏ１に対して略直交する方向に移動させる移動手段２１−２５を備えている。 - 特許庁

The temperature of a wafer stage holding a wafer having the layer 40 treated with the O2 plasma within a chamber of a plasma treatment device is risen to 340°C to perform a 10 minutes' Ar annealing treatment on the wafer.例文帳に追加

プラズマ処理装置のチャンバ内でＯ_2 プラズマ処理を施した配線層４０を有するウエハを保持するウエハステージの温度を３４０℃に昇温して、ウエハに１０分間のＡｒアニール処理を施す。 - 特許庁

The breather chamber 47 is preferably formed integrally with a generator cover 15 in a position facing the balancer axis O2 in the axis direction, and the outlet 63 side end part of the balancer shaft 31 is projected into the breather chamber 47.例文帳に追加

ブリーザ室４７は、好ましくは、バランサ軸芯Ｏ2と軸芯方向に対向する位置に、ジェネレータカバー１５と一体成形し、該ブリーザ室４７にバランサ軸３１の出口６３側の端部を突出させる。 - 特許庁

X-rays are collected at a solid angle Δϕ by the X-ray lens 10, condensed onto the rear focus O2 of the X-ray lens 10, and is made to be incident on the flat analyzing crystal 4A' at an angle Δθ2 of divergence.例文帳に追加

Ｘ線は立体角度ΔφでＸ線レンズ１０で収集され、Ｘ線レンズ１０の後焦点Ｏ_2に集光され、発散角度Δθ_2で平板型分光結晶４Ａ′に入射する。 - 特許庁

When the second casing 52 is turned with respect to the first casing 50, the mirror 56 is turned around the optical axis O1, and the ROSA 30 is turned while being positioned on the optical axis O2.例文帳に追加

第２の筐体５２を第１の筐体５０に対して回動させた場合、ミラー５６は光軸Ｏ１の周りに回動し、ＲＯＳＡ３０は光軸Ｏ２上に位置した状態で回動する。 - 特許庁

Then, the position coordinate (Xm, Ym) of the unknown point M is computed by computing the position coordinate of the intersection point of the circle C1 and the circle C2 using the position coordinate (X1, Y1) and (X2, Y2) of the center points O1 and O2, respectively.例文帳に追加

そして、中心点Ｏ１，Ｏ２の位置座標（Ｘ１，Ｙ１），（Ｘ２，Ｙ２）を用いて円Ｃ１と円Ｃ２の交点の位置座標を算出することにより、未知点Ｍの位置座標（Ｘｍ，Ｙｍ）を算出する。 - 特許庁

20 sccm SiH4, 20 sccm SiF4, 7 sccm B2H6, 100 sccm O2 and 400 sccm Ar are introduced in the chamber 102 and the interior of the chamber 102 is set at a pressure of 0.01 to 10 Torr.例文帳に追加

各々２０ｓｃｃｍのＳｉＨ_4とＳｉＦ_4と，７ｓｃｃｍのＢ_2Ｈ_6と，１００ｓｃｃｍのＯ_2と，４００ｓｃｃｍのＡｒを処理室１０２内に導入し，０．０１Ｔｏｒｒ〜１０Ｔｏｒｒにする。 - 特許庁

A stopper 22 coupled to the antenna main body 20 is formed with a conductor section 50 and a lock section 51A, and a center axis O2 of the conductor section 50 is tilted from a center axis O1 of the antenna main body 20 by an angle θ.例文帳に追加

アンテナ本体２０に結合されたストッパー２２を導体部５０と抜止部５１Ａで形成し、導体部５０の中心軸Ｏ２をアンテナ本体２０の中心軸Ｏ１に対して角度θ傾ける。 - 特許庁

Light beams from the strobe light source 6 pass through the optical path O1 and illuminate the fundus oculi R similarly to observation light beams, and the reflected beams pass through the optical paths O2, O3 and form an image on the back-and-white video camera 18.例文帳に追加

ストロボ光源６からの光束は、観察光束と同様に光路Ｏ１を通って眼底Ｒに照明され、その反射光は光路Ｏ２、Ｏ３を通って白黒ビデオカメラ１８に結像する。 - 特許庁

Coordinates of inner peripheral circle center positions C1 to Cn of an inner hole H formed in the glass tube G are determined at a plurality of portions to determine a straight line O2 so that deviation with the center positions C1 to Cn may be minimum.例文帳に追加

ガラス管Ｇに形成された内孔Ｈの内周円中心位置Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３…Ｃｎの座標を複数箇所で求めて、中心位置との偏差が最小となるような直線Ｏ２を求める。 - 特許庁

The chromium phosphate compd. concentrated and distributed in the vicinity of the boundary with the plating layer functions as a barrier layer checking the intrusion of corrosion factors (H2O, Cl, O2-, or the like) into base steel and strengthens its corrosion resistance.例文帳に追加

めっき層との界面近傍に濃化分布した燐酸クロム化合物は、腐食因子（H__２O，Ｃｌ^−，Ｏ^２−等）が素地鋼へ浸入するのを阻止するバリヤー層として機能し、耐食性を強化する。 - 特許庁

The membrane electrode assembly is locally heated from blow zero to proper operation temperature by a chemical exothermic reaction between H2 and O2 on the catalyst of an anode and/or cathode.例文帳に追加

膜電極アセンブリは、アノード及び／又はカソードの触媒上でＨ_2及びＯ_2の間で化学的な発熱反応を引き起こすことにより氷点下の温度から適切な作動温度まで局所的に加熱される。 - 特許庁

To provide systems for statically eliminating noncondensable gasses from facilities susceptible to damage from combustion of built-up noncondensable gasses, such as H2 and O2 in nuclear power plants.例文帳に追加

原子力発電プラント内のＨ2およびＯ2などの滞留した非凝縮性ガスが燃焼することにより損傷を受けやすい設備から非凝縮性ガスを静的に除去するシステムを提供する。 - 特許庁

The occurrence frequency distribution of the output voltage Vo2 of an O2 sensor present on the downstream side of a catalytic converter resulting from cracking in element is deviated to the lean side of a standard occurrence frequency distribution.例文帳に追加

素子割れに起因して触媒コンバータの下流側に存在するＯ2センサの出力電圧Ｖｏ2の出現頻度分布は標準の出現頻度分布に対してリーン側にずれることになる。 - 特許庁

An Xe2 excimer lamp 1 is lighted over a synthetic quartz window 2, and TEOS and an additive gas O2 are introduced in a vacuum chamber 3 to form a film on a wafer 6 for a forming time of 15 min with a gas flow rate of 100 sccm at a TEOS partial pressure of 300 mTorr.例文帳に追加

合成石英窓２上よりＸｅ_2 エキシマランプ１を照射し、真空チャンバ３内にＴＥＯＳ、添加ガスであるＯ_2 を導入することにより、ウエハ６上に成膜を行った。 - 特許庁

The C-rings 73, 97 attached to a pinion gear 14 and an idling gear 15 of the starter motor 1 are formed in a C-shape having a center O1 of an inner diameter and a center O2 of an outer diameter eccentrically arranged.例文帳に追加

始動電動機１のピニオンギヤ１４やアイドルギヤ１５に取り付けられるＣリング７３,９７は、内径の中心Ｏ１と外径の中心Ｏ２が偏芯配置されたＣ形に形成されている。 - 特許庁

Since the shaft center O1 and the shaft center O2 are separated from each other at a distance L1 and arranged in parallel with each other, a locus of a cylinder linear 23 and a locus of the piston 3 come close to each other and separate from each other in places.例文帳に追加

軸心Ｏ１と軸心Ｏ２とは、距離Ｌ１離間すると共に平行に配設されているので、シリンダライナー２３の軌跡とピストン３の軌跡には近接した領域と離間した領域とが存在する。 - 特許庁

The air cooling component is located on the LSI 30 shifted laterally, so as to make the center position O2 of a radiation cooler 40 close to a DIMM memory 60 along a mounting surface 20 for the center position O1 of the LSI 30.例文帳に追加

放熱クーラー４０の中心位置Ｏ2をＬＳＩ３０の中心位置Ｏ1に対して実装面２０に沿いＤＩＭＭメモリ６０に近づけるように横方向にずらして当該ＬＳＩ３０上に設置する。 - 特許庁

In the middle part of width directions of the outer rings 2, 3, steps 2b, 3b which allow eccentric rotation around the eccentric axial line O2 are continuously formed all over the whole periphery of the eccentric axial line at prescribed widths W3 in the width directions.例文帳に追加

外輪２，３の幅方向中間部には、偏心軸線Ｏ２周りでの偏心回転を可能とする段差部２ｂ，３ｂが幅方向に所定の幅Ｗ３で全周にわたって連続的に形成されている。 - 特許庁

A cutter holder 39 for holding a cutter 37 to be movable relatively to the workpiece W fixed to the workpiece mounting tool 25 and rotatable around the rotation axis O2, is further provided on the workpiece mounting tool 25.例文帳に追加

ワーク取付具２５上に固定されたワークＷに対して相対移動可能にかつ回転軸線Ｏ２周りに回転可能にカッタ３７を保持するカッタホルダ３９をワーク取付具２５上にさらに設ける。 - 特許庁

An ECU 10 determines whether the O2 sensor 20 is prior to factory shipments or after factory shipments and controls the energization of the heater differently depending on whether it is prior to factory shipments or after factory shipments, on the basis of determination results.例文帳に追加

ＥＣＵ１０は、このＯ2センサ２０について工場出荷前か工場出荷後かを判定し、その判定結果に基づいて、工場出荷前と工場出荷後とで異なるヒータ通電制御を実行する。 - 特許庁

When a shift lever 2 is operated further from a D-position to an A1 direction, the shift lever 2 is turned again around an axis O2 of a rotating shaft 22 and changed over and held into the manual transmission mode with the effect of a holding part.例文帳に追加

シフトレバー２をＤポジションからさらにＡ１方向に操作すると、シフトレバー２は回転軸２２の軸線Ｏ２の周りに再び回動し、保持部の作用により手動変速モードに切り換え保持される。 - 特許庁

An out-of-axis photographing beam passing an out-of-axis focus detection area C set up on the outside of the axis of a photographing optical system is deflected to the optical axis O2 side of the focus detecting optical system by a condenser lens part 24b.例文帳に追加

撮影光学系の軸外に設定された軸外焦点検出領域Ｃを通過する軸外撮影光束は、コンデンサレンズ部２４ｂにより焦点検出光学系の光軸Ｏ２側へ偏向される。 - 特許庁

A bent part 131a is formed on the periphery of the plate material 131, and a projection 131b is formed to be swollen on a plane part 131c being the largest plane part and on lines O1 and O2 being almost center of the plane part 131c.例文帳に追加

板材１３１には周縁に曲げ部１３１ａが形成され一番広い面部である平面部１３１ｃに当該面部の略中心をなす直線Ｏ１，Ｏ２上に突起部１３１ｂが膨出形成されている。 - 特許庁

While the engagement pin 5 is moved in the range of the opening O2, an engagement piece 7 provided in a front side sun shade panel 3 of the second sun shade panel SH2 is engaged to the engagement pin 5 to be moved integrally with the engagement pin 5.例文帳に追加

係合ピン５が開口Ｏ２の範囲を移動している間は、第２サンシェードパネルＳＨ２の前側サンシェードパネル３に設けた係合片７が係止ピン５と係合してこれと一体に移動させられる。 - 特許庁

This method, since an air-fuel ratio of exhaust gas is changed to the rich side, i.e., in a direction in which exhaust gas purifying efficiency is improved, calculates an O2 storage amount without worsening exhaust emission.例文帳に追加

この方法は、Ｏ_2 ストレージ量を算出する際に、排ガスの空燃比をリッチ側（つまり排ガス浄化効率を向上させる方向）に変化させるため、排気エミッションを悪化させずに、Ｏ_2 ストレージ量を算出することができる。 - 特許庁

A method of depositing a silicon oxide film comprises supplying TEOS(tetraethoxy silane) gas, O2 gas and He gas as raw gas to the surface of a water, and then depositing a silicon oxide film on the wafer by plasma CVD.例文帳に追加

本方法は、ウエハの表面に原料ガスとしてＴＥＯＳ(Tetra Ethoxy Silan)ガス、Ｏ_2 ガス、Ｈｅガスを含むガスを供給してプラズマＣＶＤ法によりシリコン酸化膜をウエハ上に成膜するシリコン酸化膜の成膜方法である。 - 特許庁

When the resist 3 of an upper layer has been eliminated, etching gas is changed for mixture gas of O2 gas and N2 gas, the resist 1 of a lower layer is etched, by using the SiO2 film 2 as a mask, and a pattern of an SiO2 film is transferred to the resist 1 of a lower layer.例文帳に追加

上層のレジスト３が消滅したら、エッチングガスをＯ_2 ガスとＮ_2 ガスとの混合ガスに換え、ＳｉＯ_2 膜２をマスクにして下層のレジスト１をエッチングし、ＳｉＯ_2 膜のパターンを下層のレジスト１に転写する。 - 特許庁

For enabling the adjustment of the interval S between the tip of the flow dividing plate 512 and the inner surface of a lower case 21, the flow dividing plate 512 can be moved in the direction of the axis O2 of the impeller 52 (the rotating shaft 52a).例文帳に追加

分流板５１２の先端と下ケース２１の内面との間隔Ｓを調整可能とするために、分流板５１２が羽根車５２（回転軸５２ａ）の軸線Ｏ２方向に移動可能とされている。 - 特許庁

An exhaust pipe 14 of an engine 10 includes a gas sensor (O2 sensor 20) provided with a sensor element 21 having a solid electrolytic layer 24 and a pair of electrodes 25 and 26 arranged in the solid electrolytic layer 24.例文帳に追加

エンジン１０の排気管１４には、固体電解質層２４と該固体電解質層２４に配置された一対の電極２５，２６とを有するセンサ素子２１を備えるガスセンサ（Ｏ2センサ２０）が設けられている。 - 特許庁

The assembly of the many ceramic tubes 5 is fixed by an adhesive 7 while arranged densely such that the centers O1, O2, O3, O4 of four adjacent ceramic tubes 5 become the vertexes of a square.例文帳に追加

前記多数のセラミック管５の集合体は隣接する４つのセラミック管５…の中心Ｏ１、Ｏ２、Ｏ３、Ｏ４が正方形の頂点となるように稠密配置された状態で接着剤７で固着されている。 - 特許庁

An electric signal is converted into an optical signal (E/O1, E/O2, E/On) and the optical signal is transmitted by using a wavelength division multiplex system(WDM) or a high density wavelength division multiplex system(DWDM).例文帳に追加

電気信号は、電気形式から光形式に変換され（Ｅ／Ｏ１、Ｅ／Ｏ２、Ｅ／Ｏｎ）、波長分割多重方式（ＷＤＭ）または高密度波長分割多重方式（ＤＷＤＭ）を使用して送信される。 - 特許庁

Then the flow rate of CHF3 and the flow rate of O2 are returned to those flow rates in the usual etching, and the silicon oxide film 4 is etched to form silicon oxide films 4a, 4b, 4c of hard masks.例文帳に追加

その後、ＣＨＦ_3 の流量およびＯ_2 の流量を通常のエッチングを行うときの流量に戻して、シリコン酸化膜４のエッチングを行うことにより、ハードマスクとなるシリコン酸化膜４ａ，４ｂ，４ｃを形成する。 - 特許庁