「O2」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The first pump cell 6 dissociates O2 and NO in the first chamber 2 to pump generated oxygen ions out of the chamber 2 and controls the concentration of oxygen in the gas coming into contact with the second pump cell 8 so as to lower the same to the utmost.例文帳に追加

第１ポンプセル６は第１室２内のＯ_2及びＮＯを解離して、生じた酸素イオンを室外へ汲み出し、第２ポンプセル８が接触するガス中の酸素濃度を可及的に低く制御する。 - 特許庁

The control includes controlling of supply amount of O2 to a volume where the projection beam crosses so that the projection beam is attenuated, while it is being controlled.例文帳に追加

制御は、投影ビームが制御された状態で減衰するよう、投影ビームが横断するボリュームへのＯ_2の供給量を制御することを含む。 - 特許庁

A television camera 2 is arranged in such a way that an angle θ2 formed by its optical axis O2 and the normal N of the road surface 4 may relatively become large and images an image including the image of the prescribed region in the road surface 4.例文帳に追加

テレビカメラ２は、その光軸Ｏ２が路面４の法線Ｎに対してなす角度θ２が相対的に大きくなるように配置され、路面４の前記所定領域の像を含む像を撮像する。 - 特許庁

At calculating the sub FB correction quantity FBsub, a difference DVoxsm between an estimation value Voxsm of the output value Voxs calculated by inputting the difference DAF between a catalyst model A13 and a O2 sensor model A14 is calculated.例文帳に追加

サブＦＢ補正量FBsubの算出に際し、差DAFを触媒モデルＡ１３及びＯ２センサモデルＡ１４に入力して算出される出力値Voxsの推定値Voxsmと、出力値Voxsとの差DVoxsmが算出される。 - 特許庁

By making oxidizing gas such as O2, O3 or N2O be contained in the gaseous atmosphere for the heat treatment, a p-type group-III nitride semiconductor having sufficient carrier concentration can be manufactured even if the temperature of the heat treatment is lowered.例文帳に追加

熱処理を行う際の気相雰囲気中に、Ｏ_2、Ｏ_3、Ｎ_2Ｏなどの酸化性のガスを含ませることで、熱処理の温度を低くしても十分なキャリア濃度を有するｐ型ＩＩＩ族窒化物半導体を製造することができる。 - 特許庁

The composite metal oxide which is represented by general formula of Li_x[(Li_yMn_1-y)_zM_1-z]O_2 and composed of an oxide having O2 structure is used as the positive electrode active material of the lithium secondary battery.例文帳に追加

Ｌｉ_ｘ｛（Ｌｉ_ｙＭｎ_１−ｙ）_ｚＭ_１−ｚ｝Ｏ_２の一般式で表され、Ｏ２構造を有する酸化物から構成される複合金属酸化物を、リチウム二次電池の正極活物質として用いる。 - 特許庁

In addition, the protective films 8 maintain the shape of the film 10 at the time of removing etching residues 9 by performing plasma etching using a mixed gas of CF4 gas and O2 gas after the silicon area 6B is etched.例文帳に追加

次に、シリコン領域６Ｂをエッチングした後、ＣＦ__4ガスとＯ_2ガスとの混合ガスを用いたプラズマエッチングにより残渣９を除去するとき、側壁保護膜８によりシリコン薄膜１０の形状を保つ。 - 特許庁

The tip of the head case 25 is provided with the tool rotating shaft 27 on which a tool 26 rotating around a first orthogonal axis O2 orthogonal to the central axis O1 of the indexing rotating shaft 24 is mounted.例文帳に追加

このヘッドケース２５の先端部に割出回転軸２４の中心軸線Ｏ１と直交する第１直交軸線Ｏ２の回りで回転する工具２６を装着する工具回転軸２７を設ける。 - 特許庁

Next, when the integration value of a momentary flow rate reaches the set amount of fuel KFCONST, an output O2 of the concentration sensor is sampled again, and the sampled value is similarly stored.例文帳に追加

次に、瞬時流量の積算値が設定燃料量ＫＦＣＯＮＳＴに達したとき、濃度センサの出力Ｏ２を再びサンプリングし、同様に、そのサンプリング値を記憶する。 - 特許庁

By the atmospheric pressure plasma treatment, organic matters or particles which includes a natural oxide film attaching to the surfaces of the Al pads are removed in a -He+O2 plasmas gas atmosphere, even though this is not shown.例文帳に追加

大気圧プラズマ処理は、^-Ｈｅ＋Ｏ_2 プラズマガス雰囲気により、図示しないが、Ａｌパッド表面上に付着した自然酸化膜を含む有機物やパーティクルなどが除去される。 - 特許庁

The projection distance D4 of the outside surface of the arm 28b from the center O2 can be made small and the hinge mechanism 22 can be made compact.例文帳に追加

前記アーム部２８ｂの外側面の前記中心Ｏ２からの張り出し距離Ｄ４を小さくすることができ、ヒンジ機構２２のコンパクト化を図ることができる。 - 特許庁

The cylindrical body 31a is constituted so that its axis O2 is inclined to the axis O1 of a bulb 21 of the electroless lamp 2, and the cylindrical body 31a surrounds the whole circumference outside a diameter of the coil winding part 20a.例文帳に追加

筒状体３１ａは、その軸Ｏ２が無電極ランプ２のバルブ２１の軸Ｏ１に対して傾斜しているとともに、コイル巻回部２０ａの径外側の全周を筒状体３１ａが包囲するように構成されている。 - 特許庁

Then, a metal film 7 comprising MgAg having 10 nm or less of film thickness is formed on the electron transport layer 5, and followed by bleach using O2, O3 to be converted into an insulating film 7A.例文帳に追加

その後、電子輸送層５の上に、１０ｎｍ以下の膜厚のＭｇＡｇでなる金属膜７を形成し、この金属膜７をＯ_2、Ｏ_3に晒すことで絶縁膜７Ａに変化させる。 - 特許庁

Further, auxiliary decomposition gas of one or more of H2, O2 and H2O is preferably added to the waste gas.例文帳に追加

更に、本発明の好ましい態様に係る排ガスの処理方法は、更に排ガスにＨ_2、Ｏ_2及びＨ_2Ｏのいずれか１種以上の分解補助ガスを添加することを特徴とする。 - 特許庁

This device is furnished with a front A/F sensor 4 to detct an air-fuel ratio of exhaust gas flowing into a catalyst 3a and a rear O2 sensor 5a to detect oxygen concentration of exhaust gas flowing out of the catalyst.例文帳に追加

触媒３ａに流入する排気の空燃比を検出するフロントＡ／Ｆセンサ４と、触媒から流出する排気の酸素濃度を検出するリアＯ２センサ５ａとを備える。 - 特許庁

To estimate the carbon content in molten steel by analyzing CO, CO2 and O2 concentrations in the exhaust gas generated during decarburizing treatment and based on a correlation between the corrected CO+CO2 gas concentration calculated from the above values and the carbon content in the molten steel.例文帳に追加

脱炭処理中に発生する排ガス中のＣＯ・ＣＯ_2 ・Ｏ_2 ガス濃度を分析し、この値から算出した補正ＣＯ＋ＣＯ_2 ガス濃度と溶鋼中の炭素量の相関に基づいて、溶鋼中の炭素量を推定する。 - 特許庁

Before depositing the silicon oxide film by plasma CVD, the wafer is heat-treated in an O2 atmosphere or N2O(nitrous oxide) atmosphere.例文帳に追加

本方法では、シリコン酸化膜をプラズマＣＶＤ法により成膜前に、Ｏ_2 雰囲気中又はＮ_2 Ｏ（亜酸化窒素）雰囲気中でウエハに熱処理を施す。 - 特許庁

A method of depositing a silicon oxide film comprises supplying TEOS(tetraethoxy silane) gas, O2 gas and He gas as raw gas to the surface of a water, and then depositing a silicon oxide film on the wafer by plasma CVD.例文帳に追加

本方法は、ウエハの表面に原料ガスとしてＴＥＯＳ(Tetra Ethoxy Silan)ガス、Ｏ_2 ガス、Ｈｅガスを含むガスを供給してプラズマＣＶＤ法によりシリコン酸化膜をウエハ上に成膜するシリコン酸化膜の成膜方法である。 - 特許庁

Using a mixed gas comprising CF4, O2, and Cl2 in an etching chamber 2, a semiconductor substrate 3 where a metal film is formed is etched in a high-temperature process at 100-200°C.例文帳に追加

エッチング室２内においてＣＦ_4 、Ｏ_2 及びＣｌ_2 から構成された混合ガスを用い、金属膜が形成されている半導体基板３のエッチング時の温度を１００〜２００℃の高温プロセスでエッチングする。 - 特許庁

When outputting operation/diagnosis data to an external device, operation/diagnosis data stored in the data base is generated, processed, and outputted based on definition information O1, O2.例文帳に追加

また、外部装置に稼働・診断データを出力する場合、データベースに格納された稼働・診断データを定義情報Ｏ１，Ｏ２に基づいて生成処理し出力する構成とする。 - 特許庁

The states of the other output terminals O3 to O8 are found from the input terminals I3 to I8 of the respective unit slaves 1_11 to 1_18, similarly to the output terminals O1, O2.例文帳に追加

他の出力端子Ｏ３〜Ｏ８の状態も出力端子Ｏ１，Ｏ２と同様に、各子機１_１１〜１_１８の入力端子Ｉ３〜Ｉ８から求められる。 - 特許庁

The transmission mechanism 30 has a swing arm 40 swinging around a swing axis O2 arranged in parallel with a turning axis O1 and an auxiliary arm 50 in the rearward of the turning axis O1 of the winning door 10.例文帳に追加

伝達機構３０は、入賞扉１０の回動軸線Ｏ１よりも後方においてその回動軸線Ｏ１と平行状に配置された揺動軸線Ｏ２周りで揺動する揺動アーム４０と補助アーム５０とを有する。 - 特許庁

The front overhang F can be reduced by a size B of which the inclination center O2 of the mast 5 is offset backward from the rotation center O1 of a tire 3.例文帳に追加

フロントオーバーハングＦを、マスト５の傾倒中心Ｏ２がフロント側のタイヤ３の回転中心Ｏ１から後方にオフセットした寸法Ｂ分、小さくすることができる。 - 特許庁

In this case, the rotary axis O2 of the second throttle valve 18 is preferably established perpendicularly to the rotary axis O1 of the first throttle valve 17 in the view of the intake passage longitudinal direction.例文帳に追加

好ましくは、第２のスロットルバルブ１８の回動軸心Ｏ2を、第１のスロットルバルブ１８の回動軸心Ｏ1に対して、吸気通路長さ方向に見て直角に設定する。 - 特許庁

After the temperature of the semiconductor wafer reaches approximately 1,200°C, the wafer is fixed at the stopped position, and oxidation or diffusion process is carried out, while stopping feeding of nitrogen gas and instead, feeding oxygen gas (O2) to the semiconductor wafer.例文帳に追加

そして、半導体ウエハの温度が約１２００゜Ｃに達した後は、停止位置に固定した状態で、窒素ガスの供給を停止し、代わりに酸素ガス（Ｏ2）を半導体ウエハに供給しながら、酸化または拡散処理を行う。 - 特許庁

As for the desirable treating conditions, the range of pressure is 10.6 to 29.3 Pa in the case of gaseous Ar and 10.6 to 46.6 Pa in the case of gaseous O2.例文帳に追加

望ましい処理条件は、Ａｒガスの場合、圧力範囲が１０．６Ｐａ以上、２９．３Ｐａ以下、Ｏ_2ガスの場合、１０．６Ｐａ以上、４６．６Ｐａ以下の範囲である。 - 特許庁

A central axis O1 of the drum 32, and a central axis O2 of the drum 42 are set on the same straight line L1, and a first conveying line 11A is arranged between both the drums.例文帳に追加

前記成形ドラム３２の中心軸線Ｏ１と、成形ドラム４２の中心軸線Ｏ２とを同一直線Ｌ１上に設定し、両ドラムの間に第１搬送ライン１１Ａを配設する。 - 特許庁

In the parent hierarchy, when an item is selected, the menu object O2 displays the menu of the child hierarchy in accordance with the selected item with reference to a text file F2.例文帳に追加

親階層において、項目が選択されると、メニューオブジェクトＯ２は、テキストファイルＦ２を参照して、当該選択項目に応じた、子階層のメニューを表示する。 - 特許庁

It is advantageous that remote plasma of oxygen (O2) as a reactive gas exposed to microwaves in a gas feed pipe (3) is used in the reactor (1) to generate free radicals of gas enough in amount to induce a deposition reaction.例文帳に追加

有利なこととして、蒸着反応を起こすのに十分なガスの自由基を発生させるために反応器（１）にガス供給管（３）内部でマイクロ波にさらされた反応ガスである酸素（Ｏ_2）の遠隔プラズマが用いられる。 - 特許庁

The deburring head 2 includes the roll-like brush member 20 rotatable around a brush axis O1, and a pivoting support member 26 supporting the brush member 20 so as to freely be pivoted around a pivot O2.例文帳に追加

バリ取りヘッド２は、ブラシ軸心Ｏ１回りに回転自在なロール状のブラシ部材２０と、ブラシ部材２０を旋回軸心Ｏ２回りに旋回自在に支持する旋回支持部材２６とを有する。 - 特許庁

The power source, obtained from a terminal TM3, is supplied as a power source for drive oscillators O1, O2, pulse width modulation circuits P1, P2 and a drive circuit D.例文帳に追加

端子ＴＭ_3から得られる電源は、発振器Ｏ１、Ｏ２、パルス幅変調回路Ｐ１、Ｐ２およびドライブ回路Ｄを駆動するための電源として供給される。 - 特許庁

While the vertex O2 of an input image IMG2 is moved from a left end to a right end of this display displacement search range, similarity between images within a focused area at each relative position is calculated.例文帳に追加

入力画像ＩＭＧ２の頂点Ｏ２をこの表示ずれサーチ範囲の左端から右端まで移動させて、各相対位置における注目領域ＦＷ内の画像間の類似度が算出される。 - 特許庁

An O2 sensor 20 is provided to an exhaust pipe of an engine and is turned into an active state, when a sensor element 23 having a solid electrolytic layer 21 is heated by a heater 25.例文帳に追加

Ｏ2センサ２０は、エンジンの排気管に設けられ、固体電解質層２１を有してなるセンサ素子２３がヒータ２５により加熱されることで活性状態になるものである。 - 特許庁

A segment ring comprises four segment 1, 2, 3, 4 parted from one another at positions near points O1, O2, O3, O4 where the bending moments of tunnel cross-sectional forces become zero.例文帳に追加

トンネル断面力の曲げモーメントが０になる点Ｏ１、Ｏ２、Ｏ３、Ｏ４に近い位置で四分割した４個のセグメント１、２、３、４で１セグメントリングを構成する。 - 特許庁

Coordinates of inner peripheral circle center positions C1 to Cn of an inner hole H formed in the glass tube G are determined at a plurality of portions to determine a straight line O2 so that deviation with the center positions C1 to Cn may be minimum.例文帳に追加

ガラス管Ｇに形成された内孔Ｈの内周円中心位置Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３…Ｃｎの座標を複数箇所で求めて、中心位置との偏差が最小となるような直線Ｏ２を求める。 - 特許庁

An exhaust pipe 14 of an engine 10 includes a gas sensor (O2 sensor 20) provided with a sensor element 21 having a solid electrolytic layer 24 and a pair of electrodes 25 and 26 arranged in the solid electrolytic layer 24.例文帳に追加

エンジン１０の排気管１４には、固体電解質層２４と該固体電解質層２４に配置された一対の電極２５，２６とを有するセンサ素子２１を備えるガスセンサ（Ｏ2センサ２０）が設けられている。 - 特許庁

When a movable rail 232 is moved in the horizontal direction on a fixed block 231, the workpiece axial line O2 in agreement with a spindle axial line O1 is shifted to an insertion hole 22 on the second workpiece side W2.例文帳に追加

固定ブロック部２３１上にて移動レール部２３２を左右方向へ移動させることにより、スピンドル軸線Ｏ１と一致するワーク軸線Ｏ２を第二ワークＷ２側の挿通孔２２に変更する。 - 特許庁

A cut is given to the cover 12 to enable a portion corresponding to a first opening O1 of the cover 12 and a portion corresponding to a second opening O2 to be opened and closed independently, respectively.例文帳に追加

蓋体１２には切り込みが入っており、蓋体１２の第１の開口部Ｏ１に対応する部分と第２の開口部Ｏ２に対応する部分とが、各々独立に開閉可能となっている。 - 特許庁

The position of the support portion 15 is adjusted with respect to a base 11, and the tilt of the holder 20 is adjusted to align an optical axis O2 of the collimate light with a reference optical axis O1 of the base 11.例文帳に追加

ベース１１に対して支持部１５の位置を調整し、ホルダ２０の傾きを調整することで、コリメート光の光軸Ｏ２をベース１１の基準光軸Ｏ１に一致させることができる。 - 特許庁

To prevent an air-fuel ratio from tending to be over rich due to delay in correction value updating process by O2 feedback when engine rotation speed rushes into an idling ranged rapidly.例文帳に追加

エンジン回転数が急速にアイドリング領域に突入したときに、Ｏ２フィードバックによる補正値更新処理の遅れで空燃比がオーバーリッチ傾向になるのを防止する。 - 特許庁

The conical rollers 4 are rotatably supported around a center axis O2 by a spacing plate 5, and intervals between the adjacent conical rollers 4, 4 are kept constant.例文帳に追加

それら円錐状ころ４、４、…を間隔保持板５によって中心軸線Ｏ２を中心に回転自在に支持し、隣り合う円錐状ころ４、４どうしの間隔を一定に保持するようにした。 - 特許庁

The pair of supports 12 and 13 is provided in such a manner as to be freely turnable on axis lines O1 and O2, respectively; and at least the one support 12 is provided movably in a lateral direction T2.例文帳に追加

そして、一対の支柱１２、１３をそれぞれ、軸線Ｏ１、Ｏ２周りに回動自在に設けるとともに、少なくとも一方の支柱１２を横方向Ｔ２に移動自在に設ける。 - 特許庁

The projection section 21c has a projection section body 41 and a distal end unit projection section 42, and an axis O1 of the projection section body 41 is differed from an axis O2 of the distal end unit projection section 42.例文帳に追加

凸部２１ｃは、凸部本体４１と先端ユニット用凸部４２とを備え、凸部本体４１の中心軸Ｏ１と先端ユニット用凸部４２の中心軸Ｏ２とは異なっている。 - 特許庁

The shaft 50 passed through the hole 21 for the shaft in the cover 20 is fixed to the inner rotor 40, and the shaft 50 is disposed concentrically with the second center O2.例文帳に追加

カバー２０のシャフト用孔２１に貫通させたシャフト５０をインナロータ４０に固定し、このシャフト５０を第２の中心Ｏ２と同心的に配設する。 - 特許庁

An ejection port 14 and the heating element 18 are arranged with a center O2 of the ejection port 14 being shifted in a direction towards the ejection port 14 from an ink supply port 11 with respect to a center O1 of the heating element 18.例文帳に追加

そして、吐出口１４の中心Ｏ２が、発熱素子１８の中心Ｏ１に対してインク供給口１１から吐出口１４に向かう方向にずれて吐出口１４及び発熱素子１８が配置されている。 - 特許庁