「PLASMA-PROCESSING」に関連した英語例文の一覧と使い方(44ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plasma resistant ceramic member having excellent corrosion resistance against a halogen-based corrosive gas and plasma thereof and easily controllable electrical resistivity and being suitably used as a semiconductor, a liqud crystal manufacture apparatus or the like, particularly a member for a plasma processing apparatus such as an electrostatic chuck.例文帳に追加

ハロゲン系腐食性ガスおよびそのプラズマに対する耐食性に優れ、かつ、体積抵抗率を容易に制御可能であり、半導体・液晶製造装置等、特に、静電チャック等のプラズマ処理装置用の部材として好適に使用することができる耐プラズマ性セラミックス部材を提供する。 - 特許庁

A plasma etching apparatus 2 is provided with a plasma generating chamber 23 consisting of a quartz bulb connecting at its one end a glow starter 24 and also connecting at its other end a processing chamber 21 via a transporting chamber 22, and this plasma generating chamber 23 can freely rotate around the quartz bulb.例文帳に追加

プラズマエッチング装置２には、一端にグロースタータ２４が接続され他端に輸送室２２を介して処理室２１が接続された石英管からなるプラズマ発生室２３が備えられており、このプラズマ発生室２３は石英管の軸を中心にして回転自在に設けられている。 - 特許庁

The coolant gas from the air-cooling part 4b is sent to a quartz tube 7c in a plasma torch 7, an auxiliary gas is sent to a quartz tube 7b, a plasma is generated at the tip of the plasma torch 7, its emission is spectrally diffracted by a spectroscope 8, and data in a data processing part 9 is displayed on a display part 10.例文帳に追加

噴霧室空冷部４ｂからのクーラントガスが、プラズマトーチ７の石英管７ｃに送られ、補助ガスが石英管７ｂに送られ、プラズマトーチ７の先端でプラズマが発生し、その発光が分光器８で分光され、データ処理部９のデータが表示部１０で表示される。 - 特許庁

In this plasma etching method, a plasma processing apparatus 10 which is equipped with a pair of electrodes 22, 24 positioned in a vacuum vessel so as to face each other at a prescribed interval, irradiates the vacuum vessel 12 with a microwave, and generates plasma in the vacuum vessel 12 through electron cyclotron resonance by using the vacuum vessel 12 as a resonator is installed.例文帳に追加

真空容器内で所定間隔開けて互いに対向して設けられた一対の電極２２，２４を備え、真空容器１２にマイクロ波を放射し、真空容器１２を共振器としてその内で電子サイクロトロン共鳴によるプラズマを発生させるプラズマ処理装置１０を設ける。 - 特許庁

By irradiation of microwave on a wafer W via a planar antenna member SPA under an existence of a processing gas containing oxygen and rare gas, plasma is formed containing the oxygen and rare gas (or plasma containing nitrogen and rare gas, or plasma containing nitrogen, rare gas, and hydrogen).例文帳に追加

酸素、および希ガスを含む処理ガスの存在下で、ウエハＷ上に平面アンテナ部材ＳＰＡを介してマイクロ波を照射することにより、酸素と希ガスとを含むプラズマ（ないし窒素と希ガスとを含むプラズマ、または窒素と希ガスと水素を含むプラズマ）を形成する。 - 特許庁

A movable substrate holder is situated within the chamber body, the substrate holder is situated at a first position wherein the substrate is positioned below the plasma source opening for in-situ plasma cleaning of the chamber, and a second position wherein the substrate is positioned above the plasma source opening for substrate processing.例文帳に追加

前記チャンバ本体内には、前記基板が前記プラズマ源開口の下方に配置されるときに、前記チャンバのｉｎ‐ｓｉｔｕプラズマ洗浄用の第１の位置をとり、前記基板が前記プラズマ源開口の上方に配置されるときに、基板処理用の第２の位置をとる可動基板ホルダが設置される。 - 特許庁

A transmission window 10 which can transmit the high frequency wave is formed on the upper surface of the processing container 1 in the plasma processing equipment, and the radio frequency wave antenna 2 is attached on the window 10.例文帳に追加

プラズマ処理装置における処理容器１の上面に、高周波を透過可能な透過窓１０が設けられ、この透過窓１０上に高周波アンテナ２が取り付けられている。 - 特許庁

The surface processing method includes a process for spraying fine particles on an object to be processed, and a process for plasma-processing the object with the fine particles as a mask.例文帳に追加

被処理物上に微粒子を散布する工程と、前記微粒子をマスクとして、前記被処理物をプラズマ処理する工程と、を備えたことを特徴とする表面処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a processing method thereof for preventing a breakdown of a lower portion of vacuum vessels, such as a vacuum vessel and a pump caused by an abnormal electrical discharge like an arc electrical discharge or the like.例文帳に追加

アーク放電などの異常放電による真空容器およびポンプなど真空容器の下方部の破壊を防止するプラズマ処理装置及び方法を提供すること。 - 特許庁

The device driving the interlace type plasma display panel (PDP) has a delay element, an image upper/lower edge detecting element, an image boundary processing element, and an image processing analog control loop.例文帳に追加

インタレース型プラズマ表示パネル（ＰＤＰ）を駆動する装置であって、遅延素子、画像上下縁検出素子、画像境界処理素子、および画像処理アナログ制御ループを有する。 - 特許庁

This method includes a step of performing the plasma pre-heating of at least one processing volume structure in a processing volume surrounding the substrate when the substrate is present in the deposition chamber.例文帳に追加

本方法は、堆積チャンバ内に基板が存在する場合に、基板を取り囲んでいる処理容積内の少なくとも１つの処理容積構造体をプラズマ予熱することを含んでいる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus capable of detecting cleaning end point even when any plasma is not generated, and a method for detecting the cleaning end point of the substrate processing apparatus.例文帳に追加

プラズマを発生させない場合であってもクリーニングの終点を検出することができる基板処理装置、基板処理装置のクリーニングの終点検出方法を提供する。 - 特許庁

The plasma processing apparatus includes a processing container 1, a stationary base 14, a piping 4, microwave irradiating means 8, 9 and 10, and ultraviolet ray irradiating means 34a, 34e, 16a and 16b.例文帳に追加

プラズマ処理装置は、処理容器１と固定台１４と配管４とマイクロ波照射手段８、９、１０と紫外線照射手段３４ａ、３４ｅ、１６ａ、１６ｂとを備える。 - 特許庁

In the first etching processing chamber 1, a substrate 6 is etched by a high density plasma, and this substrate 6 is passed through the gate valve 8 and is moved to the second etching processing chamber 9.例文帳に追加

第１のエッチング処理室１では高密度プラズマによるエッチングが基板６に対して行われ、この基板６はゲートバルブ８を通って第２のエッチング処理室９に移動する。 - 特許庁

Formation due to a sputtering method of the transparent conductive film deposits after performing a surface reformation in a plasma processing by performing a flattening processing by grinding after forming the coloring pixel.例文帳に追加

着色画素の形成後に研磨による平坦化処理を行い、透明導電膜のスパッタリング法による形成はプラズマ処理にて表面改質を行ったのちに成膜する。 - 特許庁

The method for manufacturing the liquid crystal display element includes a process of performing alignment processing by continuously processing the surface of an alignment layer formed on a surface of a substrate with gas made into plasma.例文帳に追加

基板の表面に形成された配向膜の表面をプラズマ化したガスで連続的に処理することにより配向処理を施す工程を有する液晶表示素子の製造方法。 - 特許庁

A mounting pedestal 3 is provided in the bottom portion of a processing container 2 of an apparatus 1 for forming a film by a plasma, and a radial line slot antenna 12 is provided in the upper portion of the apparatus 1.例文帳に追加

プラズマ成膜装置１の処理容器２内の底部に載置台３を設け，上部にラジアルラインスロットアンテナ１２を設ける。 - 特許庁

To provide a plasma processing method for conducting desirable surface treatment without the occurrence of abnormal discharge such as arc discharge.例文帳に追加

アーク放電等の異常放電が発生することなく、望ましい表面処理を施すことのできるプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a low-cost plasma processing method, by overcoming the fault of a thin film forming process at an early stage, in a method of manufacturing an electronic device.例文帳に追加

電子デバイスの製造工程にて、薄膜形成工程の異常を早期に解決し、かつ低コストのプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which is superior in ease of attachment and detachment of a component and improves mass-productivity.例文帳に追加

部品の組立及び取り外しの簡便性に優れたものとすることができ、量産性を向上させるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which has superior mass-productivity by controlling a deposition film deposited on a vacuum vessel inner wall.例文帳に追加

真空真空容器内壁に堆積する堆積膜を制御することにより量産安定性に優れたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A plasma processing apparatus has an antenna 30 in which a high-frequency current I_R is flowed from one end part to the other end part in an X direction.例文帳に追加

このプラズマ処理装置は、Ｘ方向の一端部から他端部に高周波電流Ｉ_R が流されるアンテナ３０を備えている。 - 特許庁

To provide a generation method and a generation device of thin line-like atmospheric discharge plasma capable of processing the inside of an elongated tube.例文帳に追加

細長い管の内部を処理することが可能な細線状大気圧放電プラズマの生成方法および生成装置の提供。 - 特許庁

At the time of depositing a film, plasma is generated in a processing chamber 2 by applying a high frequency power for source to coils 12t and 12s.例文帳に追加

成膜処理を行うときは、コイル１２ｔ，１２ｓにソース用高周波電力を印加して、処理チャンバ２内にプラズマを発生させる。 - 特許庁

To provide a workpiece processing device capable of easily elongating an average life of a plurality of plasma generating nozzles mounted on the device.例文帳に追加

装置に取り付けられた複数のプラズマ発生ノズルの平均寿命を容易に延ばすことが可能なワーク処理装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the deposition of evaporated substance of a processing material such as powder on the bottom inner wall of an anode cylinder of a direct-current plasma generating body.例文帳に追加

直流プラズマ発生体の陽極筒の底部内壁に粉末等の処理物質の蒸発物が付着することが防止する。 - 特許庁

A plasma CVD device which forms a film by generating plasma by introducing a microwave into a processing container by a plane antenna having a plurality of holes forms the silicon nitride film which includes plenty of traps by performing plasma CVD, wherein the pressure in the processing container is set to 0.1 to 8 Pa, using a processing gas containing: a gas of a compound composed of silicon atoms and chlorine atoms; and a nitrogen gas.例文帳に追加

複数の孔を有する平面アンテナにより処理容器内にマイクロ波を導入してプラズマを生成して成膜を行うプラズマＣＶＤ装置においてシリコン原子と塩素原子からなる化合物のガスと窒素ガスを含む処理ガスを用い、処理容器内の圧力を０．１Ｐａ以上８Ｐａ以下の範囲内に設定してプラズマＣＶＤを行うことにより、多くのトラップを含む窒化珪素膜を成膜する。 - 特許庁

On a side wall 8 of a chamber 2 of a plasma processing apparatus 1, an earth wire 9 is attached which fixes the chamber 2 at a ground potential.例文帳に追加

プラズマ処理装置１のチャンバー２の側壁部８には、チャンバー２を接地電位に固定するアース線９が取り付けられている。 - 特許庁

To provide a showerhead, a substrate treatment apparatus, and a substrate manufacturing method in which high density plasma can be stably generated in a processing chamber.例文帳に追加

プロセスチャンバ内に安定した高密度プラズマを発生させることができるシャワーヘッド、基板処理装置、基板製造方法を提供する。 - 特許庁

This plasma processing apparatus has a variable resistor 15 for correcting the impedance between a matching unit 14 of a high-frequency power supply 13 and an electrostatic attracting electrode 16.例文帳に追加

高周波電源１３の整合器１４と静電吸着電極１６間にインピーダンス補正用の可変抵抗器１５を設ける。 - 特許庁

To provide a plasma display device which reduces a false contour and prevents occurrence of low discharge at grayscales, and also to provide an image processing method thereof.例文帳に追加

擬似輪郭を低減させ且つ階調低放電の発生を防ぐプラズマ表示装置およびその画像処理方法を提供する。 - 特許庁

The number of holes of the plural gas diffusion plates 11 and 12 is larger on the side of the substrate processing region more than on the side of the plasma generation region.例文帳に追加

複数のガス拡散板１１，１２の孔の数は、プラズマ生成領域側よりも前記基板処理領域側の方が多い。 - 特許庁

A part of a substrate 1 (for example, an edge) is located between the surface frame body 5 and the back side frame body 6 during the plasma processing.例文帳に追加

そして表面枠体５及び裏面枠体６は、プラズマ処理時に、基板１の一部（例えば縁）を互いの間に位置させる。 - 特許庁

To provide a method for driving a plasma display panel permitting dither processing without loss of display quality.例文帳に追加

表示品質を低下させることなくディザ処理を行うことができるプラズマディスプレイパネルの駆動方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then, resist films formed on the front surface Wb and the rear surface Wa of the semiconductor substrate W are subjected simultaneously to ashing processing inside the plasma.例文帳に追加

そして、半導体基板Ｗの表面Ｗｂ及び裏面Ｗａに形成したレジスト膜を同時に、プラズマにてアッシング処理する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of correctly and easily positioning an electrode, and suppressing deformation of a shape of a discharge space.例文帳に追加

電極の位置決めが正確且つ容易にでき、且つ放電空間の形状の変形を抑制したプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To easily ignite plasma without the need for special selection or changeover of the processing condition and influencing processes.例文帳に追加

処理条件の特別な選定や切り替えを要することなく、またプロセスに影響を与えることなくプラズマを容易に着火させること。 - 特許庁

To provide a method of plasma processing in which reliability is high and a throughput is high in the detachment and attachment of a wafer from and to a substrate electrode.例文帳に追加

ウェハの基板電極への脱吸着に対して、信頼性が高くさらにスループットの高いプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To improve power efficiency of a high frequency plasma processing system utilizing a higher frequency ion VHF bands, for example.例文帳に追加

ＶＨＦ帯のようなより高い周波数の高周波を利用する高周波プラズマ処理装置において、電力効率を改善する。 - 特許庁

To provide a plasma processing method that can fast and evenly process a single crystal AlN substrate without causing damage to its surface.例文帳に追加

単結晶ＡｌＮ基板を表面にダメージを与えることなく高速かつ均一に加工可能なプラズマ加工方法を提供する。 - 特許庁

To effectively eliminate deposits even at a narrow place without damaging an exposure surface in a processing chamber by plasma.例文帳に追加

処理チャンバー内の露出面をプラズマで損傷することなく狭い場所でも効果的に堆積物を除去することができるようにする。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus capable of suppressing an increase in cost thereof and capable of remarkably improving the cooling efficiency of a focus ring.例文帳に追加

コスト上昇を抑制する共に、フォーカスリングの冷却効率を飛躍的に改善することができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which is capable of restraining an arc discharge from occurring in an electrode where a high-frequency power is applied.例文帳に追加

高周波電力が印加される電極に生じるアーク放電を抑制することができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a cleaning method capable of cleaning without giving damage to the processing container, etc., in a film forming device by plasma.例文帳に追加

成膜装置の処理容器内等にプラズマによるダメージを与えることなくクリーニングを行なうことができるクリーニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which prevents a warp of an electrode unit composed of a metal electrode, and a dielectric that is caused by a temperature change.例文帳に追加

金属電極と誘電体で構成される電極ユニットの温度変化による反りを防止するプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁