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Patternを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 50000件



例文

The synchronous pattern portion with LPP is synchronous pattern portion which is obtained when LPP is detected at timing of the synchronous pattern portion located at a head of a sync frame of the RF signal.例文帳に追加

LPP有同期パターン部は、RF信号のシンクフレームの先頭に位置する同期パターン部のタイミングでLPPが検出された場合の同期パターン部である。 - 特許庁

The positioning pattern 13 is formed as a pattern having a plurality of figures arranged at predetermined intervals, along the imaging pattern 1 in the vertical and horizontal directions from the center.例文帳に追加

位置決め用パターン13は、撮像用パターン1の中心から縦横方向に沿って所定の間隔で複数の図形を配置したパターンとして構成されている。 - 特許庁

Two dummy patterns 433 and the line pattern which is interposed between the foregoing and includes an actual pattern 432 together constitute a line pattern parallel running section which runs in parallel with equal intervals.例文帳に追加

2つのダミーパターン433と、これらに挟まれ且つ実パターン432を含むラインパターンとにより、同一間隔を空けて並走するラインパターン並走部が構成される。 - 特許庁

The print inductor 1 includes a first inductor pattern 10, a second inductor pattern 20, and a connection member 30 (for instance, a third inductor pattern 30A).例文帳に追加

本実施形態のプリントインダクタ1は、第1のインダクタパターン10、第2のインダクタパターン20および接続部材30(例えば、第3のインダクタパターン30A)を備えている。 - 特許庁

例文

The verification device sets a plurality of rectangular areas in an area except the shielded-wire pattern, a shield wire pattern and other wiring pattern, in a verification area.例文帳に追加

検証装置は、検証領域において、被シールド配線パターン、シールド配線パターン及びその他配線パターンを除く領域に複数の矩形領域を設定する。 - 特許庁


例文

A semiconductor is manufactured by using a template 1 formed with a pattern 11 for circuit pattern formation in a pattern formation region, and formed with a convex section 15 in a peripheral region.例文帳に追加

パターン形成領域に回路パターン形成用のパターン11が形成され、周辺領域に凸部15が形成されたテンプレート1を使用して半導体装置を製造する。 - 特許庁

A sensor 34 detects the amount of deposited toner of the test pattern.例文帳に追加

センサ34は、テストパターンのトナー付着量を検知する。 - 特許庁

Then, the template 1 is isolated from the resin pattern 33.例文帳に追加

次に、テンプレート1を樹脂パターン33から離隔させる。 - 特許庁

To provide a pattern size measuring method which can accurately measure the pattern size of a photomask even though its pattern shape is complicated like a next-generation photomask.例文帳に追加

フォトマスクのパターン寸法をパターン形状が次世代フォトマスクのように複雑な形状であっても精度良く測定することのできるパターン寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an evaluation pattern for evaluating the capabilities of an inspection device that detects an irregular pattern of an object having a periodic pattern, or the capabilities of detecting and analyzing the periodicity of the irregular pattern, and to provide a photomask having the evaluation pattern formed therein.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ検査をする検査装置の、ムラ欠陥検出能力やムラ欠陥の周期性を検出・解析する能力を評価することが可能な、評価用パターンおよびその評価用パターンを形成したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

例文

To provide a method and system of testing a pattern, in which the contour data of the pattern is extracted without failure, and a high speed and accurate test of the circuit pattern is performed.例文帳に追加

パターンの輪郭データの抽出を失敗すること無く、高速かつ正確に回路パターンの検査を行うことのできる、パターン検査方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR FORMING PATTERN, METHOD OF FORMING THE SAME AND TEMPLATE THEREFOR例文帳に追加

パターン形成装置、パターン形成方法及びテンプレート - 特許庁

To make a player surely recognize the changeover of a special pattern under the display state that complicated pattern variation patterning advances and the changeover time of the special pattern becomes hard to recognize.例文帳に追加

複雑化する図柄変動パターン化が進み、特別図柄の切換時期がわかりずらくなる表示状態の下で、確実に遊技者に特別図柄の切換を認識させる。 - 特許庁

This method further comprises a step 406 of determining, when the predetermined pattern is drawn, a pattern predicted from the drawn pattern from the preliminarily registered patterns.例文帳に追加

所定のパターンを描画しているとき、この描画しているパターンから予測されるパターンを、あらかじめ登録してあるパターンの中から判別するステップ406を設ける。 - 特許庁

To provide a pattern detection processing program generation system which realizes generation of a pattern detection processing program by a pattern description language into which syntax elements of a communication protocol are entered.例文帳に追加

通信プロトコルの構文要素を取り込んだパターン記述言語によりパターン検出処理プログラムを生成可能としたパターン検出処理プログラム生成システムを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING CIRCUIT BOARD例文帳に追加

パターン形成方法及び回路基板の製造方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

パターン形成方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD THEREOF例文帳に追加

ステンシルマスクの製造方法及びそのパターン転写方法 - 特許庁

PATTERN GENERATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING APPARATUS例文帳に追加

パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁

JOINT FORMING MATERIAL AND PATTERN FORMING MATERIAL USING THIS MATERIAL例文帳に追加

目地形成材及びそれを用いた模様形成方法 - 特許庁

VIDEO MOTION PATTERN ANALYZING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM THEREOF例文帳に追加

映像動きパターン解析装置、その方法及びプログラム - 特許庁

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.例文帳に追加

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁

The scale 12 has: a first absolute track 302 having first absolute pattern 32 composed of a first contrast pattern expressing the absolute position; and a second absolute track 303 having a second absolute pattern 33 composed of a second contrast pattern reversing the first contrast pattern.例文帳に追加

スケール12は、絶対位置を表現した第1明暗パターンからなる第1アブソリュートパターン32を有する第1アブソリュートトラック302と、第1明暗パターンを反転した第2明暗パターンからなる第2アブソリュートパターン33を有する第2アブソリュートトラック303とを有する。 - 特許庁

After the series of action of the picture images is ended, similarly another pattern of action is randomly selected by lottery by the counter of the CPU to change the former pattern of action into the latter pattern of action selected by lottery.例文帳に追加

絵柄画像の一連の動作が終了すると、同様にCPUのカウンタによって動作パターンをランダムに抽選して、抽選された動作パターンに切り換える。 - 特許庁

CYCLICAL PATTERN DISCRIMINATING METHOD AND DEVICE AND ITS PROGRAM例文帳に追加

周期的パターン判定方法および装置並びにプログラム - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSING METHOD USING SAME例文帳に追加

位相シフトマスクおよび、これを用いたパターン露光方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, RESIST MATERIAL, AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE POLYMER COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性重合体組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

To provide a luminescence pattern reader and a luminescence pattern reading method for surely reading a luminescence pattern even from a medium from which the luminescence pattern can not be read due to strong emission of a breach or the like included in the medium on which the luminescence pattern has been printed.例文帳に追加

発光パターンが印刷された媒体に含まれるブリーチ等が強く発光することで発光パターンを読取ることのできかなった媒体に対しても、確実に発光パターンを読取ることのできる発光パターン読取装置および発光パターン読取方法を提供する。 - 特許庁

Thereby, the feather 3 is dyed in two-color stripe pattern.例文帳に追加

これにより羽毛3は、二色の縞模様に染め上がる。 - 特許庁

MASK FOR EXPOSURE AND PATTERN FORMING METHOD USING THE MASK例文帳に追加

露光用マスク、及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

The vein pattern read from the inspection target is compared to the plurality of vein pattern data and results are obtained depending on whether or not there are any of the data matching the vein pattern read.例文帳に追加

該検査対象から読み取った静脈パターンは、複数の静脈パターンデータと比較され、該読み取った静脈パターンと一致するデータの有無により結果を得る。 - 特許庁

BASIC COMPOUND, RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

塩基性化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To raise the possibility of generating some kind of a special value and to increase the fun of a pattern game by generating a round number corresponding to the matching number in the case that a display pattern and a drawing pattern match in the kind of the pattern and the arrangement of the pattern.例文帳に追加

表示図柄と抽選図柄とが図柄の種類や図柄の配置において一致する場合に、その一致する数に対応してラウンド数が生成されるようになり、何らかの特別価値の発生する可能性が高まり、絵柄遊技の面白味を増すことができるようにした遊技機を提供する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ANTENNA PATTERN, AND METHOD OF MANUFACTURING RFID例文帳に追加

アンテナパターンの製造方法、RFIDの製造方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びパターン形成方法 - 特許庁

The mask set includes a first mask layer including a first exposure area where a first halftone pattern is formed to define a first pattern area, and a second mask layer including a second exposure area where a binary pattern and a second halftone pattern are formed to define a second pattern area.例文帳に追加

このマスクセットは、第1ハーフトーンパターンが形成されて前記第1パターン領域を画定する第1露光領域を含む第1マスクレイヤと、バイナリパターン及び第2ハーフトーンパターンが形成されて前記第2パターン領域を画定する第2露光領域を含む第2マスクレイヤを含む。 - 特許庁

Visible light and infrared light after entering a first alignment pattern and a second alignment pattern are focused on a detector by a focusing device and an object is aligned for the following feature pattern based on the detected first alignment pattern and second alignment pattern.例文帳に追加

フォーカシング装置により第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へフォーカシングされ、検出された第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンに基づき後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる。 - 特許庁

DUMMY PATTERN DESIGN METHOD, INFORMATION PROCESSOR, AND PROGRAM例文帳に追加

ダミーパタン設計方法、情報処理装置およびプログラム - 特許庁

The solar cell element is provided on the conductor pattern.例文帳に追加

太陽電池素子は、導体パターン上に設けられている。 - 特許庁

A pattern (1) is made up of a horizontal line pattern 30 drawn by a beam from a light source LD0 and a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from a light source LD1.例文帳に追加

パターン(1)は光源LD0からのビームで描く水平線パターン30と他の光源LD1からのビームで描く傾き45°の斜め線パターン31からなる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ORGANIC MOLECULAR FILM PATTERN AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

有機分子膜パターンの製造方法及び製造装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

表示装置の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide an exposure defective area calculating method of accurately calculating a pattern formation detective area, caused by a step pattern in a step pattern layout plane, in a short time.例文帳に追加

段差パターンに起因するパターン形成不良領域を、段差パターンレイアウト面内で正確かつ短時間に算出する露光不良領域算出方法を得ること。 - 特許庁

GENERATING METHOD OF EXPOSURE PATTERN DATA AND CHARGED-BEAM EXPOSURE SYSTEM例文帳に追加

露光パターンデータの生成方法と荷電ビーム露光装置 - 特許庁

When detection pattern data is obtained by a pattern detecting section 44, a dot extracting section 46 and a mask processing section 48, a data extracting section 42 for extracting pattern data based on a pattern image according to copy control information stores the detected pattern data in a buffer memory 56.例文帳に追加

複写制御情報に応じたパターン画像に基づいたパターンデータを抽出するパターンデータ抽出部42では、パターン検出処理部44、網点抽出処理部46及びマスク処理部48によって検出パターンデータを得ると、この検出パターンデータをバッファメモリ56に蓄積する。 - 特許庁

PAPER PATTERN SET FOR FORMING CURTAIN PLEAT例文帳に追加

カーテン、襞成型用型紙セットおよび襞の成型方法 - 特許庁

例文

MATERIAL FOR FORMING RESIST UNDERLAY FILM, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

レジスト下層膜形成材料及びパターン形成方法 - 特許庁




  
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