「Pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(189ページ目) - Weblio英語例文検索

When the degree of matching is lower than the preselected standard value, the inputted pattern is rejected by a conclusion that a standard pattern matching the inputted pattern does not exist.例文帳に追加

その適合度があらかじめ用意された標準値よりも低い場合は入力パターンに適合する標準パターンが存在しないとして、入力パターンを棄却する。 - 特許庁

FILM HEATING APPARATUS AND PREPARATION OF MOLDED ARTICLE WITH PICTURE PATTERN例文帳に追加

フィルム加熱装置と絵柄付成形品の製造方法 - 特許庁

ELECTRON BEAM DEVICE AND PATTERN EVALUATION METHOD USING THIS例文帳に追加

電子線装置及びこれを用いたパターン評価方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR FORMING SERVO PATTERN IN MAGNETIC DISK例文帳に追加

磁気ディスクにサーボパターンを形成する方法および装置 - 特許庁

REFERENCE DATA OPTIMIZATION LEARNING METHOD AND PATTERN RECOGNITION SYSTEM例文帳に追加

参照データ最適化学習方法とパターン認識システム - 特許庁

The pattern information can be transmitted to the transfer press.例文帳に追加

パターン情報はトランスファプレスに送信することができる。 - 特許庁

The metal pattern forming method is a process of printing a metal salt on a supporter in a pattern, and of forming a metal pattern by reducing the metal salt.例文帳に追加

支持体上に、金属塩をパターン状に印刷し、該金属塩を還元することによって金属パターンを形成することを特徴とする金属パターンの形成方法。 - 特許庁

The printer controller separates image data into a line pattern section and a nonline pattern section by a line pattern discriminating function (processing 302), when a high gloss mode is selected as the fixing mode.例文帳に追加

プリンタコントローラは、定着モードとして「高グロスモード」を選択した場合、ラインパターン判別機能（処理３０２）によって画像データをラインパターン部と非ラインパターン部とに分離する。 - 特許庁

A pattern comparing part 57 compares the variable region code default value (pattern) with the pattern of the recognition result, and searches the difference, that is, which section of the variable region code has been shielded.例文帳に追加

パターン比較部５７は、可変領域コードデフォルト値（パターン）と、認識結果のパターンを比較し、その差分、つまり可変領域コードのどの部分が隠蔽されたかを求める。 - 特許庁

MANUFACTURE OF SYNTHETIC RESIN MOLD WITH FINE EMBOSS PATTERN例文帳に追加

微細凹凸模様付合成樹脂型の製作方法 - 特許庁

An accompaniment pattern reproduction part 208 automatically and sequentially reads the accompaniment pattern data out of the accompaniment pattern data storage part 206 and supplies them to a sound source part 210.例文帳に追加

伴奏パターン再生部２０８は、伴奏パターンデータ記憶部２０６に記憶されている伴奏パターンデータを自動的に順次読み出して音源部２１０に供給する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR PATTERN MEASURING METHOD AND PROCESS CONTROL METHOD例文帳に追加

半導体パターン計測方法、およびプロセス管理方法 - 特許庁

WIRING PATTERN FORMING METHOD AND RESIST APPLYING AND DEVELOPING APPARATUS例文帳に追加

配線パターン形成方法及びレジスト塗布現像装置 - 特許庁

To provide a mask pattern determining method that properly determines whether a pattern of a desired size can be formed on a substrate by using a mask pattern formed on a mask.例文帳に追加

マスク上に形成されたマスクパターンによって所望寸法のパターンを基板上に形成できるか否かを正確に判定できるマスクパターン判定方法を提供すること。 - 特許庁

In addition, reference images are created from pattern design data.例文帳に追加

また、パターンの設計データから参照画像を作成する。 - 特許庁

According to an operation on a second group of keys 511, a pattern reading unit 503 selects one allocation pattern 520 from among allocation patterns 520 stored in a pattern storage unit 502.例文帳に追加

パターン読出部５０３は、第２のキー群５１１への操作に応じて、パターン記憶部５０２に記憶された割当パターン５２０の中から一の割当パターン５２０を選択する。 - 特許庁

The control unit switches between the light distribution pattern for the right side high beam and the light distribution pattern for the left side high beam via a formation state of a light distribution pattern for a low beam.例文帳に追加

制御部は、右片ハイ用配光パターンおよび左片ハイ用配光パターン間で切り替えを実行する際、ロービーム用配光パターンの形成状態を経由させる。 - 特許庁

The electrode structure may include: a substrate having an insulating layer; a first conductive pattern containing a metal for filling the insulating layer; a second conductive pattern which extends from the first conductive pattern and contains a metal oxide; and a third conductive pattern disposed on the second conductive pattern.例文帳に追加

電極構造体は絶縁層を有する基板、絶縁層を埋め立てる金属を含む第１導電パターン、第１導電パターンから延びて金属酸化物を含む第２導電パターン、そして第２導電パターン上に配置される第３導電パターンを含むことができる。 - 特許庁

A semiconductor is manufactured by using a template 1 formed with a pattern 11 for circuit pattern formation in a pattern formation region, and formed with a convex section 15 in a peripheral region.例文帳に追加

パターン形成領域に回路パターン形成用のパターン１１が形成され、周辺領域に凸部１５が形成されたテンプレート１を使用して半導体装置を製造する。 - 特許庁

A sensor 34 detects the amount of deposited toner of the test pattern.例文帳に追加

センサ３４は、テストパターンのトナー付着量を検知する。 - 特許庁

Then, the template 1 is isolated from the resin pattern 33.例文帳に追加

次に、テンプレート１を樹脂パターン３３から離隔させる。 - 特許庁

To provide a pattern size measuring method which can accurately measure the pattern size of a photomask even though its pattern shape is complicated like a next-generation photomask.例文帳に追加

フォトマスクのパターン寸法をパターン形状が次世代フォトマスクのように複雑な形状であっても精度良く測定することのできるパターン寸法測定方法を提供する。 - 特許庁

The synchronous pattern portion with LPP is synchronous pattern portion which is obtained when LPP is detected at timing of the synchronous pattern portion located at a head of a sync frame of the RF signal.例文帳に追加

ＬＰＰ有同期パターン部は、ＲＦ信号のシンクフレームの先頭に位置する同期パターン部のタイミングでＬＰＰが検出された場合の同期パターン部である。 - 特許庁

The positioning pattern 13 is formed as a pattern having a plurality of figures arranged at predetermined intervals, along the imaging pattern 1 in the vertical and horizontal directions from the center.例文帳に追加

位置決め用パターン１３は、撮像用パターン１の中心から縦横方向に沿って所定の間隔で複数の図形を配置したパターンとして構成されている。 - 特許庁

Two dummy patterns 433 and the line pattern which is interposed between the foregoing and includes an actual pattern 432 together constitute a line pattern parallel running section which runs in parallel with equal intervals.例文帳に追加

２つのダミーパターン４３３と、これらに挟まれ且つ実パターン４３２を含むラインパターンとにより、同一間隔を空けて並走するラインパターン並走部が構成される。 - 特許庁

The print inductor 1 includes a first inductor pattern 10, a second inductor pattern 20, and a connection member 30 (for instance, a third inductor pattern 30A).例文帳に追加

本実施形態のプリントインダクタ１は、第１のインダクタパターン１０、第２のインダクタパターン２０および接続部材３０（例えば、第３のインダクタパターン３０Ａ）を備えている。 - 特許庁

The verification device sets a plurality of rectangular areas in an area except the shielded-wire pattern, a shield wire pattern and other wiring pattern, in a verification area.例文帳に追加

検証装置は、検証領域において、被シールド配線パターン、シールド配線パターン及びその他配線パターンを除く領域に複数の矩形領域を設定する。 - 特許庁

To provide an evaluation pattern for evaluating the capabilities of an inspection device that detects an irregular pattern of an object having a periodic pattern, or the capabilities of detecting and analyzing the periodicity of the irregular pattern, and to provide a photomask having the evaluation pattern formed therein.例文帳に追加

周期性のあるパターンをもつ被検査体のムラ検査をする検査装置の、ムラ欠陥検出能力やムラ欠陥の周期性を検出・解析する能力を評価することが可能な、評価用パターンおよびその評価用パターンを形成したフォトマスクを提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method and system of testing a pattern, in which the contour data of the pattern is extracted without failure, and a high speed and accurate test of the circuit pattern is performed.例文帳に追加

パターンの輪郭データの抽出を失敗すること無く、高速かつ正確に回路パターンの検査を行うことのできる、パターン検査方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

The build-up layer includes: an outer layer circuit pattern 23 of a surface layer and a blind via 22 A for electrically connecting the outer circuit pattern 23 to the inner circuit pattern 11 A.例文帳に追加

このビルドアップ層は、表層の外層回路パターン２３と、外層回路パターン２３と内層回路パターン１１Ａを電気的に接続するブラインドビア２２Ａとを有する。 - 特許庁

PATTERN GENERATION METHOD AND CHARGED PARTICLE BEAM-DRAWING APPARATUS例文帳に追加

パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 - 特許庁

JOINT FORMING MATERIAL AND PATTERN FORMING MATERIAL USING THIS MATERIAL例文帳に追加

目地形成材及びそれを用いた模様形成方法 - 特許庁

VIDEO MOTION PATTERN ANALYZING DEVICE, AND METHOD AND PROGRAM THEREOF例文帳に追加

映像動きパターン解析装置、その方法及びプログラム - 特許庁

The correcting device corrects a pattern defect of the display in which an electronic circuit pattern having the pattern defect on a surface of a substrate is formed, and is equipped with a plasma irradiation means of irradiating an area of the pattern defect locally with plasma to correct the pattern defect.例文帳に追加

基板の表面にパターン欠陥を有する電子回路パターンが形成された表示装置の前記パターン欠陥を修正する修正装置であって、 前記パターン欠陥の領域に局所的なプラズマの照射によって前記パターン欠陥を修正するプラズマ照射手段を備えてなる。 - 特許庁

The scale 12 has: a first absolute track 302 having first absolute pattern 32 composed of a first contrast pattern expressing the absolute position; and a second absolute track 303 having a second absolute pattern 33 composed of a second contrast pattern reversing the first contrast pattern.例文帳に追加

スケール１２は、絶対位置を表現した第１明暗パターンからなる第１アブソリュートパターン３２を有する第１アブソリュートトラック３０２と、第１明暗パターンを反転した第２明暗パターンからなる第２アブソリュートパターン３３を有する第２アブソリュートトラック３０３とを有する。 - 特許庁

After the series of action of the picture images is ended, similarly another pattern of action is randomly selected by lottery by the counter of the CPU to change the former pattern of action into the latter pattern of action selected by lottery.例文帳に追加

絵柄画像の一連の動作が終了すると、同様にＣＰＵのカウンタによって動作パターンをランダムに抽選して、抽選された動作パターンに切り換える。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

On the basis of the evaluation values determined for each of the plurality of candidate pattern images, the pattern image configuring the character under consideration is specified among the plurality of candidate pattern images.例文帳に追加

複数の候補パターン画像のそれぞれについて求めた評価値に基づいて、複数の候補パターン画像のうち着目文字を構成しているパターン画像を特定する。 - 特許庁

To produce the flexible timebase signal for eye pattern.例文帳に追加

アイ・パターン用のフレキシブル時間基準信号を生成する。 - 特許庁

PATTERN FORMATION METHOD AND WIRING STRUCTURE FORMATION METHOD例文帳に追加

パターン形成方法及び配線構造の形成方法 - 特許庁

MANUFACTURE OF CEMENT MOLDING PLATE HAVING PROTRUSION AND RECESS PATTERN例文帳に追加

凹凸模様を有するセメント系成形板の製造法 - 特許庁

A division pattern server 10 determines the division pattern indicating the system band division pattern to be commonly applied to a predetermined range to which a plurality of cells 13, 14 belong.例文帳に追加

分割パターンサーバ１０は、複数のセル１３，１４が属する所定範囲に共通に適用する、システム帯域の分割のパターンを示す分割パターンを決定する。 - 特許庁

A pattern (1) is made up of a horizontal line pattern 30 drawn by a beam from a light source LD0 and a diagonal line pattern 31 whose angle of inclination is 45° drawn by a beam from a light source LD1.例文帳に追加

パターン（１）は光源ＬＤ０からのビームで描く水平線パターン３０と他の光源ＬＤ１からのビームで描く傾き４５°の斜め線パターン３１からなる。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING ORGANIC MOLECULAR FILM PATTERN AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

有機分子膜パターンの製造方法及び製造装置 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

表示装置の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁