TMGを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 36件
Then, the supply amount of the TMG or TEG is reduced to be smaller than that in the second growth process (a third growth process).例文帳に追加
次に、TMG又はTEGの供給量を、第2の成長工程よりも小さくする(第3の成長工程)。 - 特許庁
In a growth method of a nitride semiconductor thin film, TMG (trimethyl gallium) or TEG (triethyl gallium) is supplied to a terrace 202 formed in a restricted region 102 by a step-flow growth (a first growth process) of a GaN substrate 101 having a mis-cutting, wherein a supply amount of the TMG or TEG is larger than that in the first growth process.例文帳に追加
ミスカットを有するGaN基板101のステップフロー成長(第1の成長工程)により制限領域102内に形成されたテラス202に、第1の成長工程よりも大きな供給量でTMG又はTEGを供給する。 - 特許庁
In a method for forming this GaN film, a GaAs epitaxial layer is formed on a GaAs substrate by introducing AsH3 and TMG (process A), and a GaN buffer layer is formed by introducing DMHy and TMG (process B).例文帳に追加
AsH_3とTMGを導入してGaAs基板上にGaAsエピタキシャル層を形成し(プロセスA)、DMHyとTMGを導入してGaNバッファ層を形成する(プロセスB)。 - 特許庁
Consequently, the p-type carrier density can be controlled by adjusting the ratio of TMG and TEG of the Ga material.例文帳に追加
従って、Ga原料のTMGとTEGの比率を調整することで、p型キャリア濃度を制御できる。 - 特許庁
Subsequently, before growing a barrier layer, a growth interruption process is performed in order to turn both TMG and TMA off.例文帳に追加
次に、バリア層を成長させる前に、TMG、TMAを共にオフとする成長中断工程を行う。 - 特許庁
Finally, both TMG and TMA are turned on, and a second growth process of growing the barrier layer (AlGaN layer) is performed.例文帳に追加
次に、TMGと共にTMAをオンとし、バリア層(AlGaN層)を成長させる第2成長工程を行う。 - 特許庁
When GaAs crystal is grown, TEG and TMG of specified mixing ratio are used as a material for Ga of group III.例文帳に追加
GaAs結晶を成長させる際、III族のGaの原料として所定の混合率のTEGとTMGとを用いる。 - 特許庁
In the growth method of the nitride semiconductor thin film, TMG or TEG is supplied to a terrace 202 formed in a restricted region 102 by a step-flow growth (a first growth step) of a GaN substrate 101 having a mis-cutting at a second set value T2 which is a substrate temperature lower than that of the first growth step.例文帳に追加
ミスカットを有するGaN基板101のステップフロー成長(第1の成長工程)により制限領域102内に形成されたテラス202に、第1の成長工程よりも低い基板温度である第2の設定値T2でTMG又はTEGを供給する。 - 特許庁
As the material gas, TMA is used for an Al material, the mixed gas of TEG and TMG is used for a Ga material, and arsine is used for an arsenic material.例文帳に追加
原料ガスとしては、Al原料にTMA、Ga原料にTEGとTMGの混合ガス、砒素原料にアルシンを用いた。 - 特許庁
A correction signal generation circuit 40 generates a signal Scp based on the signal TMG and a correction value Vcp and imparts it to the counter 10.例文帳に追加
補正信号生成回路40は、信号TMGと補正値Vcpとに基づき、信号Scpを生成してカウンタ10に与える。 - 特許庁
When the engine start instruction is not issued (NO in S60), the present differential torque ΔTEn is set as the torque assist amount Tmg as it is (S90, S80).例文帳に追加
エンジン始動時でないならば(S60否定)、現在の差分トルクΔTEnをそのままトルクアシスト量Tmgとする(S90、S80)。 - 特許庁
As the source material 28, an organic source of TMG (trimethylgallium) or the like can be used, and as the nitrogen-containing gas, a nitrogen radical-containing gas can be used.例文帳に追加
ソース物質28としては、TMG(トリメチルガリウム)等の有機ソースを用いてもよく、窒素含有ガスとしては、窒素ラジカルを含むガスを用いてもよい。 - 特許庁
When a carrying sensor 27 detects a rear end of a former sheet material S, the operation for preparing feeding of a following sheet material S is started, and a register sensor 7 detects re-carrying of the former sheet material S to the image forming unit by a register roller 8, and informs with the TMG signal 47 to start the feeding operation of the following sheet material S.例文帳に追加
先のシート材Sの後端を搬送センサ27で検知したら次のシート材Sの給送準備動作を開始し、先のシート材Sのレジストローラ8による画像形成部への再搬送をレジセンサ7で検知し、TMG信号47によって通知して次のシート材Sの給送動作を開始する。 - 特許庁
Shift registers 15, 17 latch as a system changeover control signal (g) an output of the shift register 11 of the signal extract section 1 by 4 frames based on a TMG signal (c).例文帳に追加
信号抽出部1のシフトレジスタ11の出力をTMG信号cによって、シフトレジスタ15,17にて系切り替え制御情報gが4フレーム分ラッチされる。 - 特許庁
During the course of growing the GaN buffer layer by heating, a GaN film is formed by introducing AsH3 (process C), and thereafter, introducing DMHy and TMG.例文帳に追加
GaNバッファ層を加熱して成長させる過程において、AsH_3を導入し(プロセスC)、その後DMHyとTMGを導入してGaN膜を形成する。 - 特許庁
By mixing and supplying TMG and TEG, the exchange reaction of a methyl group of TMA of the Al material and an ethyl group of TEG of the Ga material occurs.例文帳に追加
TMGとTEGを混合して供給することにより、Al原料であるTMAのメチル基とGa原料であるTEGのエチル基との交換反応が起こる。 - 特許庁
With the temperature kept at 970°C, an N layer 62 comprising N-type GaN of film-thickness about 7 μm is formed by supplying H2 at 2.5 liter/minute, NH3 at 1.5 liter/minute, and TMG at 100 cc/minute.例文帳に追加
温度を 970℃に保持し、H_2 を 2.5liter /分、NH_3 を 1.5liter /分、TMGを 100cc/分で供給し、膜厚約 7μmのN型のGaNから成るN層62を形成した。 - 特許庁
Thereafter, the carrier gas is switched from a hydrogen gas to an argon gas that is one of noble gases and a semiconductor layer 14 made of InGaN with a film thickness of 100 nm is formed on the upper surface of the underlying layer 13 by providing the TMG and TMI for one hour with the TMI/TMG gas phase ratio of 0.9 and V/III compound supplying mole ratio of 10,000.例文帳に追加
その後、キャリアガスを水素ガスから希ガスであるアルゴンガスに切り替え、TMGとTMIとをTMIのTMGに対する気相比が0.9で、V族/III 族供給モル比が10000として1時間供給することにより、下地層13の上面にInGaNからなり、膜厚が100nmの半導体層14を成長させる。 - 特許庁
At a stage (time t_1) wherein crystal growth is completed after an upper DBR layer is formed, supply of TMA, TMG and DMZ is stopped and a process temperature begins to be lowered.例文帳に追加
上部DBR層を形成したのち、結晶成長を完了した段階(時刻t_1)で、TMA、TMG、DMZの供給を停止すると共に、プロセス温度の降下を開始する。 - 特許庁
A correction timing generation circuit 30 decodes the signals Da and Db, detects the correction timing of the signal Da, and generates a plurality of correction timing signals TMG having different timing.例文帳に追加
補正タイミング生成回路30は、信号Da及びDbをデコードしてその信号Daの補正タイミングを検出し、タイミングの異なる複数の補正タイミング信号TMGを生成する。 - 特許庁
More specifically, the buffer layer having the stress relaxation effect is suitably formed by making a second AlN layer using gas mixed with TMA and TMG at 600°C or less to the extent that the mixing ratio of TMA and TMG is 3/17 or more and 6/17 or less if the surface layer of the template substrate comprises the first AlN layer.例文帳に追加
特に、テンプレート基板の表面層が第1のAlN層からなる場合であれば、600℃以下の形成温度でTMAとTMGの混合ガスを、TMAに対するTMGの混合比を3/17以上6/17以下の範囲で供給して第2のAlN層を形成することで、応力緩和効果を有するバッファ層を好適に形成することができる。 - 特許庁
At first, in the first growth process, NH_3 and TMG are turned on (supplied) in the chamber of an MOCVD device and TMA is turned off (stopped) in order to grow an electron traveling layer (GaN layer).例文帳に追加
まず、第1成長工程においては、電子走行層(GaN層)を成長させるため、MOCVD装置のチャンバ内に、NH_3とTMGがオン(供給)され、TMAはオフ(停止)とされる。 - 特許庁
A shift register 11 of a signal extract section 1 applies serial/ parallel conversion to a control signal (a) based on a clock (CLK) signal (b) and a flip-flop 12 latches a check pattern (e) based on a TMG signal (d).例文帳に追加
制御信号aは信号抽出部1のシフトレジスタ11においてクロック(CLK)信号bにより、シリアル・パラレル変換され、TMG信号dによりフリップフロップ12にてチェックパターンeがラッチされる。 - 特許庁
The p-type contact layer 7 is formed, by first lowering the temperature of a substrate 1 to 870°C and then supplying N_2 at 10 liters/min, NH_3 at 10 liters/min, TMG at 100 μmol/min, and CP_2Mg at 60 μmol/min.例文帳に追加
このp型コンタクト層7は、基板1の温度を870℃に降温し、N_2 を10リットル/分、NH_3 を10リットル/分、TMGを100μmol /分、CP_2 Mgを60μmol /分で供給して形成した。 - 特許庁
Then on a patterned SiO2 film 63 at 970°C, an I layer 64 comprising I-type GaN of film-thickness 1.0 μm is formed by supplying H2 2.5 liter/minute, NH3 at 1.5 liter/minute, TMG at 100 cc/minute, and DEZ at 500 cc/minute.例文帳に追加
その後、パターン形成されたSi0_2 膜63の上に、温度を 970℃とし、H_2 を 2.5liter /分、NH_3 を 1.5liter /分、TMGを 100cc/分、DEZを 500cc/分で供給して、I型のGaNから成るI層64を膜厚 1.0μmに形成した。 - 特許庁
In a step S110, TMG, TMIn and NH_3 are supplied into a growing furnace, and InGaN thin film deposition is executed under a temperature T1, the thickness D_W1 of the InGaN film being thinner than well layer film thickness D_W0 (D_W1<D_W0).例文帳に追加
工程S110では、TMG、TMIn及びNH_3を成長炉に供給して井戸層の膜厚D_W0より薄い膜厚D_W1(D_W1<D_W0)のInGaN薄膜の堆積を温度T1で行う。 - 特許庁
In a process S110, the deposition of InGaN thin film of which the film thickness D_w1(D_W1<D_W0) is thinner than the film thickness D_W0 of the well layer is performed at a temperature T1 while supplying TMG, TMIn and NH_3to a growth furnace.例文帳に追加
工程S110では、TMG、TMIn及びNH_3を成長炉に供給して井戸層の膜厚D_W0より薄い膜厚D_W1(D_W1<D_W0)のInGaN薄膜の堆積を温度T1で行う。 - 特許庁
When an engine start instruction is issued (YES in S60), differential torque ΔTE(n-1) calculated from torque TEP(n-1), TET(n-1) just before the start is held as the differential torque ΔTEn in the start (S70), and the differential torque is set as a torque assist amount Tmg (S80).例文帳に追加
エンジン始動指令時ならば(S60肯定)、始動直前のトルクTEP(n−1),TET(n−1)から算出した差分トルクΔTE(n−1)を、始動時の差分トルクΔTEnとして保持し(S70)、トルクアシスト量Tmgとする(S80)。 - 特許庁
Although TMG and NH_3, which are material gas can as a whole reach the surface 30f of the coat 30 composed of SiO_2, epitaxial growth of a group-III nitride compound semiconductor does not occur on the surface 30f, while the surface 30f remains clean (1.C, 1.D).例文帳に追加
原料ガスであるTMGとNH_3は、SiO_2から成る被膜30の表面30f全体に到達しうるが、表面30fにはIII族窒化物系化合物半導体はエピタキシャル成長せず、表面30fは清浄なままとなる(1.C、1.D)。 - 特許庁
Simultaneously with introduction of a process gas containing TMG being an organogallium compound, nitrogen (N_2) and hydrogen (H_2) in a space between a pair of electrodes (12H, 12E) under a pressure close to atmospheric pressure, and electric field is applied between the electrodes (12H, 12E) so as to induce electric discharge.例文帳に追加
大気圧近傍の圧力下で一対の電極12H,12E間に、有機ガリウム化合物であるTMGと窒素(N_2)と水素(H_2)とを含有するプロセスガスを導入するとともに、電極12H,12E間に電界を印加して放電を生成する。 - 特許庁
An engine start controller 180 performs cranking control to pull up engine speed Ne with the electric motor MG in order to start the engine 10 into operation, and in the cranking control, makes the electric motor torque Tmg pulsate by resonance frequency f_RS of a power transmission system from the electric motor MG to the engine 10.例文帳に追加
エンジン始動制御手段180は、エンジン10を始動するために電動機MGでエンジン回転速度Neを引き上げるクランキング制御を行い、そのクランキング制御では、電動機MGからエンジン10までの動力伝達系の共振周波数f_RSで電動機トルクTmgを脈動させる。 - 特許庁
Accordingly, in cranking control, maximum output torque of the electric motor MG needed for engine start can be reduced, since the electric motor torque Tmg is amplified by resonance of the power transmission system from the electric motor MG to the engine 10 and transmitted to the engine 10.例文帳に追加
従って、前記クランキング制御において、前記電動機MGからエンジン10までの動力伝達系の共振により電動機トルクTmgが増幅されてエンジン10に伝達されるので、エンジン始動のために必要とされる電動機MGの最大出力トルクを低減することができる。 - 特許庁
The Al-doped GaInAs active layer 4 is made by performing the growth of GaInAs so as to be doped with Al by mixing TMA as a second material including Al into the first material consisting of TMG(trimethyl gallium), TMIn, and AsH3 used for the growth of GaInAs.例文帳に追加
Al添加GaInAs活性層4は、GaInAsの成長に用いられるTMG、TMIn、AsH_3 からなる第1の原料に、Alを含む第2の原料としてのTMAを混入して、Alが添加されるようにGaInAsの成長を行うことにより形成する。 - 特許庁
Leads LDc, LDg are bent after one-side ends of the leads LDc, LDg are fixed to a printed wiring substrate SBp, the printed wiring substrate SBp is introduced into a case HD and other ends of the leads LDc, LDg are joined to terminals TMc, TMg of the case HD.例文帳に追加
リード線LDc,LDgの一端をプリント配線基板SBpに固着した後にリード線LDc,LDgを屈曲させ、プリント配線基板SBpをケースHD内に導入し、ケースHDの端子TMc,TMgにリード線LDc,LDgの他端を接合する。 - 特許庁
Travelling information is read (S10) and, when a mode is switched from one mode to another (S12 affirmation) at the time of deceleration of a vehicle (S11 affirmation), an actual engine brake torque Tenga is calculated (S13 to S15) from a clutch stroke Cst, an actual engine torque Teng and a given map, to gradually change the regeneration torque Tmg in view of the magnitude thus calculated.例文帳に追加
走行情報を読み込み(S10)、車両減速時(S11肯定)に、一方から他方のモードへ切り替えられた場合(S12肯定)、クラッチストロークCst、実エンジントルクTeng、所定マップより実際のエンジンブレーキトルクTengaを算出し(S13〜S15)、この大きさを考慮して回生トルクTmgを徐々に変化させる(S16〜S18)。 - 特許庁
The voltage sensor 15 of this fault diagnoser computes the output Pac1 of an AC motor 6 based on three-phase AC voltage commands vu^*, vv^* and vw^* of an inverter 4, and current detected values iu, iv and iw of the current sensors 9a-9c, and computes the output Pac2 of the AC motor 6 based on a torque command Tmg and motor rotational speed ω.例文帳に追加
電圧センサ診断部15は、インバータ4の3相交流電圧指令値vu^*,vv^*,vw^*、および、電流センサ9a〜9cの電流検出値iu,iv,iwに基づいて、交流モータ6の出力Pac1を算出するとともに、トルク指令値Tmg、および、モータ回転速度ωに基づいて、交流モータ6の出力Pac2を算出する。 - 特許庁
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