「after exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

PLATE MATERIAL PROCESSOR AND AFTER EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

板材処理装置及び後露光装置 - 特許庁

SHEET MATERIAL CONVEYER AND AFTER EXPOSURE DEVICE例文帳に追加

シート材搬送装置及び後露光装置 - 特許庁

After the exposure, development is performed (b).例文帳に追加

露光を行った後、現像を行う（ｂ）。 - 特許庁

After the exposure, the resist film on which a latent image is formed is heated.例文帳に追加

露光後、潜像が形成されたレジスト膜を加熱する。 - 特許庁

After the detection, the control circuit measures the exposure start time.例文帳に追加

検出後、制御回路が露光開始時間を計時する。 - 特許庁

After the periphery of the exposure region is masked by a masking device 3, exposure is performed.例文帳に追加

そして、マスキング装置３により露光領域周囲をマスキングした上で、露光を実行する。 - 特許庁

The second module performs a step for cleaning the wafer and a post-exposure bake step after the exposure step.例文帳に追加

第２モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程及び露光後ベーキング工程を行う。 - 特許庁

After predetermined processing (steps T3-T5) when exposure processing is started, the substrate is moved to a predetermined exposure position (step T6).例文帳に追加

所定の処理（ステップＴ３〜Ｔ５）の後、露光処理がスタートする（ステップＴ５）。 - 特許庁

The post-treatment module performs a wafer cleaning step and a post-exposure bake step after the exposure step.例文帳に追加

後処理モジュールは、露光後にウエハを洗浄する工程、及び露光後ベーキング工程を行う。 - 特許庁

CAMERA FOR BOTH EXPOSURE AND ELECTRONIC EXPOSURE WHICH ENABLES FILM REWRITE-IN BY DELAYING FILM REWINDING AFTER LAST EXPOSURE例文帳に追加

最終露光後のフィルム巻き戻しを遅延させフィルム再書込を可能とするフィルム露光、電子露光併用カメラ - 特許庁

The liquid immersion lithography exposure apparatus uses fluid 26 during the exposure process, and can eliminate not all of the fluid 26 but a part of it after exposure.例文帳に追加

液浸リソグラフィ露光装置は、露光プロセス中に流体２６を利用し、露光後に、流体２６の全部ではないが、その一部を除去可能である。 - 特許庁

After an exposure through the use of the exposure mask is made, development is made in which a resist film is left in existence in an exposure region narrower than a diameter of a liquid droplet in width.例文帳に追加

露光マスクを用いて露光を行った後、現像して液滴の径よりも幅の細い露光領域にレジスト膜を残存させる。 - 特許庁

To provide a camera for both film exposure and electronic exposure in which image magnetic rewrite-in on a film strip adjacent to a finally exposed frame is attained by delaying the rewinding of the film after the last exposure.例文帳に追加

最終露光後、フィルム巻き戻しを遅延させフィルム再書込を可能とするフィルム露光、電子露光併用カメラを提供する。 - 特許庁

Exposure is carried out as divided into three steps after each movement is stopper and the quantity of exposure light in each step is controlled to 1/3 of a specified quantity of exposure light.例文帳に追加

露光は各移動の停止後に３段階に分割して行ない、１回の露光量は所定の露光量の１／３とした。 - 特許庁

First, among the plurality of transferring paths of the exposure apparatus, the transferring path for carrying out heat-treatment before exposure and the heat-treatment after exposure is determined.例文帳に追加

まず、露光装置の複数の搬送経路の中から、露光前加熱処理および露光後加熱処理を実施するための搬送経路が決定される。 - 特許庁

The exposure apparatus includes: moving to an exposure position by mechanical operations of a light-shielding mask or a substrate stage on the basis of the information about a medium to be exposed by referring to a position set by a single alignment; stopping at the set exposure position; and carrying out exposure, after moving to the exposure position, under exposure conditions calculated by an exposure condition calculating mechanism.例文帳に追加

被媒体情報をもとに、１回のアライメントで設定した位置を基準として、遮光マスク又は基板ステージの機械動作によって露光位置へ移動し、設定した露光位置で停止し、露光位置に移動した後、露光条件算出機構で算出された露光条件をもとに露光を行う。 - 特許庁

After performing exposure correction for adjusting the exposure for a photoreceptor drum (step S101), an exposure comparator compares calculated exposure with the lowest exposure (step S102).例文帳に追加

感光体ドラムの露光量を調整するための露光量補正が行われた後（ステップＳ１０１）、露光量比較器は、算出された露光量を最低露光量と比較する（ステップＳ１０２）。 - 特許庁

The charged particle beam aligner comprises an exposure section 100 for irradiating a resist film on which the electrification prevention film is deposited with charged particle beams for exposure; and a wafer treatment section 160 after the exposure for treating a wafer after the exposure.例文帳に追加

荷電粒子ビーム露光装置は、帯電防止膜が被着されたレジスト膜に荷電粒子ビームを照射して露光を行う露光部１００と露光後のウエハを処理する露光後ウエハ処理部１６０とを有する。 - 特許庁

A standard exposure video signal 1091 after the flaw correction is combined with a non-standard exposure video signal 1092 after the flaw correction to produce a combined video signal 1101.例文帳に追加

キズ補正後の標準露光映像信号1091と、キズ補正後の非標準露光映像信号1092を合成し、合成映像信号1101を生成する。 - 特許庁

The photoresist 1a after exposure is developed and patterned (Fig. 2 (c)).例文帳に追加

露光後のフォトレジスト１ａを現像してパターニングする（図２（ｃ））。 - 特許庁

After the resist is coated on a semiconductor, a pattern is formed by exposure.例文帳に追加

半導体上にレジストを塗布し、露光によりパターンを形成する。 - 特許庁

After the exposure operation is over, the substrate is lifted and isolated from the substrate table.例文帳に追加

露光動作が終了したら、基板を持ち上げて、基板テーブルから離す。 - 特許庁

The measurement of the film thickness is performed before and after the perimeter exposure processing of the wafer W.例文帳に追加

膜厚の測定は，ウェハＷの周辺露光処理の前後に行う。 - 特許庁

The plate is directly provided for use in an on-press printer after the exposure.例文帳に追加

刷版は露光の後にオンプレス印刷機での使用に直接供される。 - 特許庁

After detection of exposure of the shield film 102, etching is stopped directly.例文帳に追加

遮光膜１０２の露出を検出した後、直ちにエッチングを停止させる。 - 特許庁

In 1 of 3 tested animals after exposure for up to 4 hours例文帳に追加

４時間以内の暴露で試験動物３匹中１匹以上に - 経済産業省

An after exposure baking process (temperature cycle) for a substrate is implemented within prescribed hours after pattern transfer.例文帳に追加

基板の露光後ベーク工程（温度サイクル）は、パターン転写後の所定の時間内に実施される。 - 特許庁

The degassing unit DG subjects a substrate to a degassing treatment after an edge exposure treatment by an edge exposure unit EEW and before an exposure treatment by an exposure apparatus 6.例文帳に追加

エッジ露光部ＥＥＷによるエッジ露光処理後であって露光装置６による露光処理前に、脱ガスユニットＤＧにより基板の脱ガス処理が行われる。 - 特許庁

An exposure condition deciding section 22 decides an exposure condition on the basis of an image signal level for each synchronous cycle, and feeds the exposure condition back to exposure control of a frame after the synchronous cycle.例文帳に追加

露光条件決定部２２は同期周期毎の画像信号レベルに基づいて露光条件を定め、当該露光条件を同期周期後のフレームの露光制御にフィードバックさせる。 - 特許庁

After the exposure amount of the diffraction light L1 reaches the saturation exposure amount Esat and before the exposure amounts of the diffraction lights L-1 and L2 exceed the critical exposure amount Ecri, the radiation of the reproducing illumination light L is finished.例文帳に追加

回折光Ｌ１の露光量が、飽和露光量Ｅsat に達した後、かつ、回折光Ｌ−１やＬ２の露光量が、臨界露光量Ｅcri を超える前に、再生用照明光Ｌの照射を終了する。 - 特許庁

The exposure of the imaging device (1) and the exposure of the imaging device (2) are finished after the lapse of an exposure time period based on a result of AE arithmetic operation from start of the exposure of the imaging device (1) and the imaging device (2).例文帳に追加

撮像素子（１）及び撮像素子（２）の露光開始からＡＥ演算の結果に基づいた露光時間経過後にそれぞれ露光を終了する。 - 特許庁

The exposure sequence judgement part detects a period until the finishing time of the exposure sequence shown by the non-exposure information after the X contact judgement part detects the conduction of the X contact as the exposure sequence period of the camera.例文帳に追加

露光シーケンス判定部は、Ｘ接点判定部がＸ接点の導通を検出してから、非露光情報が示す露光シーケンスの終了時点までの期間をカメラの露光シーケンス期間として検出する。 - 特許庁

A dummy substrate to be used for alignment processing is carried from an exposure unit to a substrate processing device, immediately before or immediately after alignment processing has been carried out for adjusting an exposure position of a pattern image in the exposure unit, corresponding to liquid immersion exposure.例文帳に追加

液浸露光対応の露光ユニットにおいてパターン像の露光位置を調整するアライメント処理を行う直前または直後に、アライメント処理に使用するダミー基板を露光ユニットから基板処理装置に搬送する。 - 特許庁

After setting an exposure correction value D_BV_SKY depending on the number of blocks of sky blue sky_num, that exposure correction value is reflected on exposure setting during exposure.例文帳に追加

そして、空色のブロック数ｓｋｙ＿ｎｕｍに応じて露出補正値Ｄ＿ＢＶ＿ＳＫＹを設定した後、この露出補正値を露光時の露出設定に反映する。 - 特許庁

The exposing device EX is equipped with a first exposure station ST 1 and a second exposure station ST 2 capable of exposing a photosensitive substrate P and a control system CONT for controlling the exposure in such a manner that after the first exposure is performed in the first exposure station ST 1, the photosensitive substrate P undergoing the first exposure is continuously subjected to second exposure at the second exposure station ST 2.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、感光基板Ｐを露光可能な第１露光ステーションＳＴ１及び第２露光ステーションＳＴ２と、第１露光ステーションＳＴ１で第１の露光を行った後、この第１の露光を行った感光基板Ｐに対して第２露光ステーションＳＴ２で第２の露光を連続して行うように制御する制御系ＣＯＮＴとを備えている。 - 特許庁

Before the original disk is taken out from the device after the exposure, the surface temperature of the original disk is increased to another temperature, e.g. the temperature of Post Exposure Bake(PEB), and the original disk is taken out from the device after its holding for a certain period.例文帳に追加

また、露光後に原盤を装置から取り出す前に別の温度、例えば露光後ベーク（ＰＥＢ(Post Exposure Bake)）の温度、まで原盤表面温度を上げ、一定時間保持した後、装置から原盤を取り出す。 - 特許庁

A position deviation and an image of a risk control pattern predicted after multiple exposure of masks used for the multiple exposure are obtained, and an image after overlay exposure by the masks is predicted based on the above image and position deviation information.例文帳に追加

多重露光に用いられる各マスクの多重露光後に予測される危険管理パターンの像、並びに位置偏差を取得し、前記像と位置偏差情報を元に各マスクによる重ね露光後の像を予測する。 - 特許庁

To shorten the time required for reducing hydrophobicity after liquid immersion exposure while the hydrophobicity of a film surface in liquid immersion exposure is increased.例文帳に追加

液浸露光時において被膜表面の疎水性を高くしつつ、液浸露光後における疎水性の低下に要する時間の短縮を図ること。 - 特許庁

The detector array performs scanning through an exposure slit to measure the intensity immediately before or after each exposure.例文帳に追加

この検出器配列は、露光スリットを通してスキャンし、各露光の直前または直後のスリットの強度を測定する。 - 特許庁

To suppress the yellowing of a resin or a composition itself with time or after heat exposure or light exposure in a reactive silicon group-containing urethane-based resin.例文帳に追加

反応性珪素基含有ウレタン系樹脂において、経時、熱暴露あるいは光暴露後の樹脂又は組成物自体の黄変を抑えること。 - 特許庁

A video signal composition means 1080 composites the standard exposure video signal 1060 and the non-standard exposure video signal 1070 after the gain adjustment.例文帳に追加

ＯＢレベル調整後の標準露光映像信号1060とゲイン調整後の非標準露光映像信号1070を、映像信号合成手段1080で合成する。 - 特許庁

The gain of the non-standard exposure video signal 1070 after OB level adjustment is adjusted depending on the exposure time ratio.例文帳に追加

ＯＢレベル調整後の非標準露光映像信号1070に対して、露光時間比に応じてゲイン調整をする。 - 特許庁

After exposure, a treatment process is used to neutralize the effect of undesirable elements that are diffused into the resist layer 14 during immersion exposure.例文帳に追加

露光の後で、液浸露光中にレジスト層１４中に拡散した望ましくない成分による影響を中和するのに、処理ステップが使用される。 - 特許庁

After optimization alignment operation conditions of the exposure device B are determined, the second wafer is fed to the exposure device B.例文帳に追加

露光装置Ｂの最適化アライメト作業条件が決定した後に２枚目のウエハを露光装置Ｂに投入する。 - 特許庁

A quantity of pre-transfer exposure is controlled by a photoreceptor potential after exposure and by transfer voltage of an ATVC constant-current-control.例文帳に追加

転写前露光量を、露光後の感光体電位やＡＴＶＣの定電流制御の転写電圧によって制御する。 - 特許庁