「align mark」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To precisely align a relative position between an object to be transferred with a mark or pattern and a stamper without forming any alignment marks on the object to be transferred with a mark or pattern in an imprinting method and apparatus.例文帳に追加

インプリント方法及び装置において、被転写体にアライメントパターンを設けることなく、被転写体とスタンパとの相対位置を高精度に合わせることを可能にする。 - 特許庁

To align an object to be inspected with high accuracy be reducing the position detecting error caused by the asymmetry of a diffraction grating- like mark.例文帳に追加

回折格子状マークの非対称性による位置検出誤差を低減し、被検物の位置合わせを高精度に行う。 - 特許庁

To align relative positions of a focus detecting area mark on a finder screen and a focus detection area in a focus detecting optical system with each other.例文帳に追加

ファインダ画面上の焦点検出エリアマークと焦点検出光学系における焦点検出エリアの相対位置を一致させる。 - 特許庁

To align while absorbing the local distortion of an inspecting workpiece, even when a pattern which serves as a positioning mark is not present.例文帳に追加

位置決めマークとなり得るようなパターンが存在しない場合でも、検査ワークの局所的な歪みを吸収しつつ位置合わせを行う。 - 特許庁

A sufficient contrast is secured between the alignment mark 1 and its surrounding environment, so that inspection and measurement facilities easily recognize the alignment mark 1 as a unique mark and then an error in alignment mark recognition is prevented to accurately align the wafer.例文帳に追加

アライメントマーク１とその周囲環境との間において十分なコントラストを確保できるため、検査・測定設備がアライメントマーク１をユニークマークとして容易に認識することができるので、アライメントマーク認識不良を防止してウェハのアライメントを正確に実施することができる。 - 特許庁

In the alignment mark Sm composed of a mask mark Mm given to a mask M having a specified pattern and of a work mark Wm given to a substrate W so as to align the mask and the substrate, the work mark is composed of a first reference mark Km_1 formed as penetrating the substrate and of a second reference mark Km_2 formed near the first reference mark and not penetrating the substrate.例文帳に追加

所定のパターンを備えるマスクＭに設けたマスクマークＭｍと、基板Ｗに設けたワークマークＷｍとにより前記マスクおよび前記基板の整合作業を行う整合マークＳｍにおいて、前記ワークマークは、その基板に貫通して形成した第一基準マークＫｍ_1と、この第一基準マークの近傍で前記基板に非貫通に形成した第二基準マークＫｍ_2とから構成される整合マークとした。 - 特許庁

To stably align even a slip original printed in intermediate colors without requiring any timing mark.例文帳に追加

タイミングマークが不要で、かつ、中間色で印刷された帳票原稿も安定して位置あわせを行える画像処理装置の実現を課題とする。 - 特許庁

An alignment mark formed of the red layer 5 is read with the infrared ray to align the blue layer 7, the green layer 9, and the black matrix 14 when they are patterned.例文帳に追加

赤色層５により形成されたアライメントマークを赤外線で読み取り、青色層７、緑色層９、ブラックマトリクス１４のパターニング時のアライメントを行う。 - 特許庁

To inexpensively form a mark showing the position of a probe to a cantilever with high precision, without laboring, and to accurately align the leading end position of the probe with the target measuring start position of a sample using the mark.例文帳に追加

探針の位置を示すマークを、手間をかけずに安価且つ高精度にカンチレバーに形成すると共に、該マークを利用して探針の先端位置を試料の狙った測定開始位置に対して正確に位置合わせすること。 - 特許庁

To accurately align a mask with a substrate by supporting the substrate so as not contact with the mask without applying a tension to it, and by precisely detecting a position of a mark for detecting the positions of the substrate and the mask.例文帳に追加

基板にテンションをかけずにマスクと非接触に支持して、基板とマスクの位置検出用マークの位置を正確に検出して、高精度にアライメントすること。 - 特許庁

A write DMAC detects the restart mark, inserts a padding in order to align the words of data in the succeeding strip to be successively outputted and transfers it to a memory.例文帳に追加

ライトＤＭＡＣはこのリスタートマークを検出すると、後続して出力される次のストリップのデータをワードアラインするため、パディングを挿入し、それをメモリに転送する。 - 特許庁

To easily and accurately align a laser line beam to a ground mark set to a floor surface by only turning an adjusting knob without moving a device placed on the floor surface.例文帳に追加

床面に置いた装置を移動させることなく、調整ツマミを回すだけで、床面に設定された地墨にレーザーライン光を容易にかつ正確に合わせること。 - 特許庁

A mark is also provided on a surface of the stem not opposing to the electrode to align the electrode with the stem, thereby fabricating the electron gun by integrating the stem with the electrode.例文帳に追加

また、ステムにおいて電極と対向しない面にマークを設けて、電極とステムの位置合わせを行い、ステムと電極を一体化して電子銃を製造することにした。 - 特許庁

To quickly align a recognition mark to efficiently conduct teaching work.例文帳に追加

認識マークの位置合わせを迅速に行ってティーチング作業を効率よく行うことができる電子部品実装用装置における認識マークのティーチング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To accurately align a recording pattern center with a rotary axis on front and back sides of a disk without forming any alignment mark in a medium to be transferred in manufacturing of a disk substrate.例文帳に追加

ディスク基板の製造において、被転写媒体にアライメントマークを設けることなく、記録パターン中心と回転軸をディスクの表裏で正確に位置合せすること。 - 特許庁

At this time, the aligning mark is detected with rough accuracy and only at the time of detecting large positional deviation over 20 nm, aligning mark is detected accurately to align the reticule and the wafer, based on the result.例文帳に追加

その際、位置合わせマークの検出を粗い精度で行い、20nmを超える大きな位置ずれが検出されたときにのみ、位置合わせマークの検出を高精度で行って、その結果に基づいてレチクルとウェハーの位置合わせを行う。 - 特許庁

A mark for indicating mounting positions and directions of terminals of a plurality of circuit components on the circuit substrate is formed to align the direction of the circuit component indicated by the mark, so as to coincide with the solder dipping direction.例文帳に追加

回路基板上の複数の回路部品のマウント位置と回路部品の端子の方向とを表示するマークを設けて、マークによって表示される当該回路部品の当該方向を半田浸漬方向に合致するように揃える。 - 特許庁

A control system plays roles to perform an initial alignment of these detectors on the alignment mark pattern on the substrate and to dynamically align the frame and substrate during a lithograph process.例文帳に追加

制御システムは、基板上の位置合わせマーク・パターンの上でこれらの検出器の初期位置決めを行うことと、リソグラフィ工程中にフレームと基板を動的に位置合わせする役割を担う。 - 特許庁

The mask support stages 12 and 12 are driven and controlled by a control unit 31 on the basis of the detection signals outputted from the mark detectors 21 and 21 to align the surface photomask 14 and the backside photomask 15.例文帳に追加

マーク検出器２１，２１からの検出信号に基づいて、制御部３１によってマスク支持ステージ１２，１２の駆動を制御させて表フォトマスク１４および裏フォトマスク１５の位置合わせを行なう。 - 特許庁

To eliminate the need of retreat of an image acquisition device during exposure to shorten the tact time by acquiring an image of an alignment mark to align a mask and a substrate without covering a part of a pattern of the mask with the image acquisition device.例文帳に追加

マスクのパターンの一部を画像取得装置で覆うことなく、アライメントマークの画像を取得して、マスクと基板との位置合わせを行い、露光時の画像取得装置の退避を不要にして、タクトタイムを短縮する。 - 特許庁

A servo layer 114v in the volume-type medium 100v reflects at least a part of a red-light beam Lr, having a wavelength different from the wavelength of the blue-light beam Lb and irradiated in order to align the position of the blue-light beam Lb on the three-dimensional mark recording layer 111v with the position of an optional target mark.例文帳に追加

また体積型メディア１００ｖのサーボ層１１４ｖは、立体マーク記録層１１１ｖにおける青色光ビームＬｂの位置を任意の目標マーク位置に合わせるために照射され青色光ビームＬｂとは波長の相違する赤色光ビームＬｒの少なくとも一部を反射させる。 - 特許庁

A center positioning wafer with an alignment mark drawn thereon is prepared, the center positioning wafer is placed on a wafer mount base in an exposure optical system by using an aligner to align the center position between the center positioning wafer and a glass mask.例文帳に追加

アライメントマークを入れたセンター位置決定用ウエハを用意し、アライナーを用いて、露光用光学系におけるウエハ載置台にセンター位置決定用ウエハを載置するとともに、センター位置決定用ウエハとガラスマスクのセンター位置を合わせる。 - 特許庁

To easily align the center of a laser spot with the center of the mark on the target with high accuracy at the time of marking work by improving the target for a laser planer for emitting a laser beam of a parallel pencil of light rays.例文帳に追加

平行光線束のレーザビームを出射するレーザプレーナ用ターゲットを改良して、墨出し作業時にレーザスポットの中心を高精度にターゲット上の的の中心や基準線に容易に一致させることができるようにする。 - 特許庁

To perform mode change-over operation in the power-on state in Fig.(C), the power/mode selection switch 17 is turned in the vertical direction while holding the switch at the mode selection position, to make the indicator 17a align with a mode mark showing a desired operation mode to be changed over to.例文帳に追加

電源がオンした状態でモード切替を行う場合は、電源・モード選択スイッチ１７をモード選択位置に保持した状態で上下方向に回動操作し、指標１７ａを切り替えたい操作モードを示すモードマークに合わせる（Ｃ）。 - 特許庁

A center mark FMc is formed on the connection electrode part 21 of the flexible board 20 connected to the panel terminal part 11 of the liquid crystal panel 10 in addition to existing end marks for alignment FMa and FMb arranged at both ends of the electrode part 21, and alignment is performed to align the mark FMc with the panel center position Pc of the terminal part 11.例文帳に追加

液晶パネル１０のパネル端子部１１に接続されるフレキシブル基板２０の接続電極部２１に、その両端に配置される既存の位置合わせ用の端部マークＦＭａ，ＦＭｂに加えて中心マークＦＭｃを形成し、この中心マークＦＭｃをパネル端子部１１のパネル中心位置Ｐｃに合わせ込むようにして位置合わせする。 - 特許庁

A template includes a pattern portion 12 that is provided on a substrate 10 and corresponds to a pattern transcribed to the wafer; and an alignment mark portion 11 that is provided on the substrate 10, is used to align with the wafer, and has a higher refractive index than that of the substrate 10.例文帳に追加

本実施形態のテンプレートは、基板１０上に設けられ、ウェハに転写されるパターンに対応するパターン部１１と、基板１０上に設けられ、ウェハとの位置合わせに用いられ、基板１０の屈折率より高い屈折率を有するアライメントマーク部１１と、を含む。 - 特許庁