「array development」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To reduce the consumption power of a semiconductor device by deleting unwanted, regions of the formation of transistors in its embedded array by slightly extending its development term.例文帳に追加

僅かな開発期間延長で、エンベディッドアレイ中のトランジスタの不要領域を削除することにより消費電力を低減する。 - 特許庁

To parallel execution of the processing of a microprocessor concerning realize a network interface and the processing of an FPGA for instruction by preventing the development cost-up of a gate array and the prolongation of the development period.例文帳に追加

ゲートアレイの開発コストの上昇および開発期間の長期化を回避し、ネットワークインタフェースについてのマイクロプロセッサの処理と命令用ＦＰＧＡの処理との並列的な実行を実現する。 - 特許庁

As a result, the columnar spacers 5b of a prescribed height and the contact holes 7 are integrally formed on the array substrate 11a by one time of the exposure and development.例文帳に追加

これにより、１回の露光現像により、所要高さの柱状スペーサ５ｂとコンタクトホール７がアレイ基板１１ａに一括形成できる。 - 特許庁

Upon receipt of a request for the control of a development bias voltage, the control device performs setting for allowing time out interruption in a timer array unit (S11 and S12).例文帳に追加

現像バイアス電圧の制御の要求を受付けると、タイマアレイユニットのタイムアウト割込みが可能となるよう設定する（Ｓ１１、Ｓ１２）。 - 特許庁

To provide the structure of a semiconductor integrated circuit device, and its fabricating method, in which the period of development can be shortened and the cost of development can be reduced at the time of enlarging the scale of a gate array type semiconductor integrated circuit device.例文帳に追加

ゲートアレイ型半導体集積回路装置の大規模化に際して、開発期間の短縮と開発費用の削減が可能な、半導体集積回路装置の構造及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

A light emitting part 10 is provided with: LED arrays 21 to 26 which make the blades 11 perform color development; and an LED array 27 for making an operation display part 12 perform color development, the operation display part 12 being positioned at the upper part of the display unit 3a in the main body of the ticket issuing machine 1.例文帳に追加

発光部１０は、ブレード１１を発色させるＬＥＤアレイ２１〜２６と、券売機１本体における表示器３ａの上方に位置する稼働表示部１２を発色させるＬＥＤアレイ２７と、を有している。 - 特許庁

The method for manufacturing a forming die for forming a micro-lens array sheet comprises a resist film forming process, an exposure/development process, an etching process and a resist film removal process.例文帳に追加

マイクロレンズアレイシート形成用成形型の製造方法は、レジスト膜形成工程と、露光・現像工程と、エッチング工程と、レジスト膜の除去工程とを備えている。 - 特許庁

To suppress an increase in leak current in a semiconductor integrated circuit with a gate array structure because of the trend for the gate length to become shorter due to the development in the fine machining technique.例文帳に追加

ゲートアレイ構造の半導体集積回路において、微細加工技術の進展によりゲート長が短くなる傾向があり、それに伴うリーク電流の増加を抑える。 - 特許庁

Since the development of an FPGA is more inexpensive than that of a gate array in general, the FPGA converting the HDLC synchronous system without changing the LSI (gate array) for performing the two layer processing is developed and it is connected to the line side of the LSI performing the two layer processing.例文帳に追加

一般的にゲートアレイの開発よりもＦＰＧＡの開発は低コストで済むので、レイヤ２処理を行うＬＳＩ（ゲートアレイ）は変更せずにＨＤＬＣ同期方式を変換するＦＰＧＡを開発し、レイヤ２処理を行うＬＳＩの回線側に接続する。 - 特許庁

To provide an image forming device where the service life of an LD array can be prolonged by focusing on a toner save mode where the amount of toner attached to an electrostatic latent image in development is reduced.例文帳に追加

現像の際、静電潜像に付着されるトナー量を低減させるトナーセーブモードに着目し、ＬＤアレイの寿命を延ばすことが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In the LED array exposure device, a beam area correction relative to a variation in the area of a beam of each LED light-emitting element which is transmitted through a lens array overlaps weighting for adjusting beam area correction in accordance with the degree of a development bias, in order to correct a quantity of light.例文帳に追加

ＬＥＤアレイ露光装置において、レンズアレイを透過した各ＬＥＤ発光素子のビーム面積のばらつきに対するビーム面積補正と、現像バイアスの程度に応じてビーム面積補正の大小を調節する重み付けとが、光量補正に重畳される。 - 特許庁

To provide an effective and cost-effective manufacturing process and a device making use of the result of a new development to make it possible to position a chip by a three-dimensional array on a printed circuit substrate.例文帳に追加

チップをプリント回路基板上に３次元アレイで配置することを可能にする新しい開発の結果を利用する、効率的および費用効果的な製造プロセスおよび装置を提供すること。 - 特許庁

In a TFT array substrate (10) of the reflective electrooptic device, an irregularity-forming layer (13a) for forming an irregular pattern (8g) on a light reflection film (8a) is formed by half exposure, development, and heating performed for a photosensitive resin (13).例文帳に追加

反射型電気光学装置のＴＦＴアレイ基板（１０）において、光反射膜（８ａ）に凹凸パターン（８ｇ）を付与するための凹凸形成層（１３ａ）は、感光性樹脂（１３）に対するハーフ露光、現像、および加熱により形成される。 - 特許庁

To provide an LED array exposure device capable of greatly reducing density variations and streaks by taking development bias correction into account for correction of a quantity of light and correction of the area of a beam, and to provide an image forming apparatus having the exposure device.例文帳に追加

光量補正とともに、ビーム面積の補正に現像バイアスに対する補正を加味することにより、濃度むらやスジを大幅に低減することが可能なＬＥＤアレイ露光装置及びそれを備えた画像形成装置を提供する。 - 特許庁

In a TFT array substrate (10) of the reflective electrooptic device, an irregularity-forming layer (13a) for forming an irregular pattern (8g) on a light reflection film (8a) is formed by, half exposure, development, and heating performed for a photosensitive resin (13).例文帳に追加

反射型電気光学装置のＴＦＴアレイ基板（１０）において、光反射膜（８ａ）に凹凸パターン（８ｇ）を付与するための凹凸形成層（１３ａ）は、感光性樹脂（１３）に対するハーフ露光、現像、および加熱により形成される。 - 特許庁

When using video device or an optical switching element array 50 as a picture display device, a silicon containing resist is applied on resin layers 35, 36 in order to separate an individual micro optical element 3 composing an individual pixel, then exposure and development are performed, and thus a resist layer 37 is formed.例文帳に追加

映像デバイスあるいは画像表示装置としての本例の光スイッチング素子アレイ５０を用いる場合に、個々の画素を構成する個々のマイクロ光学素子３を分離するため、樹脂層３５および３６の上にシリコン含有レジストを塗布し、露光及び現像を行いレジスト層３７を形成する。 - 特許庁

An acrylic UV curing type resin 145 is applied on the other surface of the base material layer 144 and is irradiated with UV rays from the side formed with the light shielding patterns 142, and the unexposed portions are removed by performing development processing and thereby the lens array sheet 14 having unit lenses 141 is manufactured.例文帳に追加

基材層１４４の他の面にアクリル系紫外線硬化型樹脂１４５を塗布し、遮光パターン１４２が形成されている側から紫外線を照射し、未露光部分を現像処理して除去することにより、単位レンズ１４１を有したレンズアレイシート１４を製造する。 - 特許庁

To provide a liquid detergent that exhibits excellent deterging-removability of stains such as a development residue, is free from environmental problems and does not deteriorate even by an air shower operation without, a method for forming a colored image using the liquid detergent, a manufacturing method of a color filter, and a manufacturing method of an array substrate with a color filter.例文帳に追加

現像残渣等の汚れの洗浄除去性に優れ、環境問題が無く、空シャワー運転でも劣化しない洗浄処理液、該洗浄処理液を用いた着色画像の形成方法、カラーフィルターの製造方法、及び、カラーフィルター付きアレイ基板の製造方法を提供。 - 特許庁

Therefore, even in the case of a memory cell array 36 constituted of partitions consisting of blocks of which the memory capacity and the number are not uniform, redesign and correction of the command state machine 26 are not required, and quantity of work required for verification of state transition is reduced, and development of kinds of devices by cut-down can be performed easily and in a short time.例文帳に追加

したがって、メモリ容量と数とが均等ではないブロックで成るパーティションで構成されたメモリセルアレイ３６の場合でもコマンドステートマシン２６の再設計や修正が不用になり、且つ、状態遷移の検証に要する作業量が減り、カットダウンによる機種展開を容易に且つ短時間に行うことができる。 - 特許庁

To provide a color image forming device that maintains the better color image quality, even when optimizing control of the color developer adhesion quantity control by means of adjusting development bias voltage is difficult, owing to unsatisfactory developing function of respective developing device by minimizing the change of color tone on the final color printing image, regardless of the array order of the respective developing device.例文帳に追加

各現像器の配列順序に関わらず、最終的なカラー印字画像の色調の変化を最小限度に抑え、また、各現像器の現像機能が不十分で現像バイアス電圧の調整による色現像剤付着量の適正化コントロールが困難な場合でも、より良いカラー画像品質を維持するカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

On a TFT array substrate 10 of the reflection type electrooptic device 100, an unevenness formation layer 6g in the same layer the a data line 6a is formed in a specified pattern below a light reflecting film 8a and a photosensitive resin layer 7a is formed of photosensitive resin 7 above it by half-exposure through an exposure mask 200, development, and heating.例文帳に追加

反射型電気光学装置１００のＴＦＴアレイ基板１０において、光反射膜８ａの下層側には、データ線６ａと同層の凹凸形成層６ｇが所定のパターンで形成され、その上層には、感光性樹脂７に対して、露光マスク２００を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って感光性樹脂層７ａを形成してある。 - 特許庁

The substrate for array usable when immobilizing a material for capturing a detection target substance on the surface of a carrier insoluble in a solution and having impermeability of the solution, adding a specimen solution containing the detection target substance to allow the immobilized capturing material to capture the substance, and detecting the capturing condition visualized by color development, includes a white whole substrate or a white site to which the capturing material is immobilized.例文帳に追加

溶液不溶性かつ溶液不透過性の担体表面に検出対象物質を捕捉する物質を固定化し、該検対象物質を含む検体溶液を添加し、固定化した捕捉する物質に捕捉させ、その捕捉の状態を発色による可視化により検出する際に用いるアレイ用基板であって、基板全体又は、捕捉物質が固定化された部位が白色であるアレイ用基板。 - 特許庁