「atomic beam」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

HIGH SPEED ATOMIC BEAM SOURCE DEVICE AND WORKING DEVICE HAVING IT例文帳に追加

高速原子線源装置およびこれを具備する加工装置 - 特許庁

ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION APPARATUS UTILIZING NEUTRAL BEAM AND ATOMIC LAYER VAPOR DEPOSITION METHOD UTILIZING THE APPARATUS例文帳に追加

中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法 - 特許庁

To provide an atomic oscillator with high precision that suppresses light quantity dependency of a laser beam incident on an atomic cell.例文帳に追加

原子セルに入射するレーザー光の光量依存性を抑えた高精度の原子発振器を提供すること。 - 特許庁

The method includes a step of irradiating the sample with a neutral atomic beam or ion beam, and a step of irradiating the sample with radiation after the irradiation of the sample with the neutral atomic beam or ion beam and analyzing the electrons from the sample.例文帳に追加

試料に中性原子線又はイオン線を照射する過程と、中性原子線又はイオン線の照射後に、試料に対して放射線を照射し、試料からの電子を分析する過程とを含む。 - 特許庁

FAST ATOM RADIATION SOURCE AND FAST ATOMIC BEAM DISCHARGING METHOD AND SURFACE REFORMING DEVICE例文帳に追加

高速原子線源および高速原子線放出方法ならびに表面改質装置 - 特許庁

PARTICLE REMOVAL METHOD, MINUTE TWEEZER APPARATUS, ATOMIC FORCE MICROSCOPE, AND CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS例文帳に追加

パーティクル除去方法、微小ピンセット装置、原子間力顕微鏡および荷電粒子ビーム装置 - 特許庁

A coherent light having a wavelength conformed to or positively or negatively detuned from the atomic resonance line of a prescribed kind of atom constituting the atomic beam is emitted to the atomic beam to perform the movement control by the laser cooling of the atom.例文帳に追加

原子ビームに対して該原子ビームを構成する所定の種類の原子の原子共鳴線と一致もしくは正または負に離調した波長を備えたコヒーレント光を照射し、該所定の種類の原子のレーザー冷却による運動制御を行う。 - 特許庁

Combination and reference intensities of a neutral atomic beam and an ion beam are stored for various elements, and, when a target sample contains such an element (Yes in S3), the intensities of the neutral atomic beam and ion beam originating in the specific element are determined and the intensity ratio is calculated (S4).例文帳に追加

各種元素について中性原子線とイオン線との組み合わせや基準強度を記憶しておき、目的試料がこうした元素を含む場合には（Ｓ３でＹｅｓ）、その特定元素に由来する中性原子線とイオン線との強度を求めてその強度比を算出する（Ｓ４）。 - 特許庁

The atomic and molecular beam may be given either of before and after the formation of the semiconductor micro structure.例文帳に追加

原子・分子線の照射は、半導体微細構造を形成する前後のいずれか一方でもよい。 - 特許庁

In the defect repairing device using an ion beam, a blank defect hard to repair is observed with AFM(atomic force microscope) or the like.例文帳に追加

イオンビームを用いた欠陥修正装置では修正し難い白欠陥に対してAFM等で観察する。 - 特許庁

METHOD FOR PHOTOMASK DEFECT CORRECTION USING COMPOSITE APPARATUS OF CONVERGENCE ELECTRON BEAM DEVICE AND ATOMIC FORCE MICROSCOPE例文帳に追加

集束電子ビーム装置と原子間力顕微鏡との複合装置を用いたフォトマスク欠陥修正方法 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for generating an atomic beam, where the efficiency for extraction high and flow rate can be regulated by a vacuum device that has a simple structure, and which can be applied to many atomic species and are used to generate an atomic beam of high flow rate.例文帳に追加

簡単な構成の真空装置により、高い取出し効率で、流量の調整が可能であると共に、多くの原子種に対して適用可能であるようにした、高流量の原子ビームを発生させるための原子ビーム発生方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide a neutral-beam-utilizing atomic layer vapor deposition apparatus wherein a workpiece is irradiated with a neutral beam formed by neutralizing a radical flux, i.e., an ion beam, generated by converting a second gas into a plasma, and to provide an atomic layer vapor deposition method utilizing the apparatus.例文帳に追加

第２の反応ガスをプラズマ化して発生されたラジカルのフラックス、すなわち、イオンビームを中性ビーム化して被処理基板に照射するようにした中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for calibrating an atomic functioning apparatus including electromagnetic coils by using optical pumping of a light beam.例文帳に追加

光ビームの光ポンピングを用い、電磁コイルを備える原子機能装置を較正する方法を提供する。 - 特許庁

Even when the laser beam emitted from a laser beam source 10 changes in luminous intensity, the intensity of the laser beam incident on the atomic cell 20 can be held constant through a transmitted liquid quantity-varying means 40, disposed between the laser beam source 10 and the atomic cell 20, and a transmitted light quantity control circuit 41 controlling the transmitted liquid quantity-varying means.例文帳に追加

レーザー光源１０から射出されるレーザー光の発光強度が変化しても、レーザー光源１０と原子セル２０との間に位置した透過光量可変手段４０およびそれを制御する透過光量制御回路４１によって原子セル２０に入射するレーザー光の強度を一定にできる。 - 特許庁

To provide a simple and versatile method for making an ion beam carry a high current, as to an ion beam generating device used for a device for analyzing an atomic arrangement on a surface and an interface by using a helium ion beam.例文帳に追加

ヘリウムイオンビームを用いて、表面・界面の原子配列を解析する装置に用いるイオンビーム発生装置に関し、簡便で汎用性のあるイオンビームの大電流化方法を提供する。 - 特許庁

The aerial wiring of the metal deposited film, which becomes unnecessary after correction, is removed by ion beam etching or AFM (atomic force microscope) scratch processing.例文帳に追加

修正後不要となった金属デポジション膜空中配線をイオンビームエッチングまたはAFMスクラッチ加工で除去する。 - 特許庁

The glass for laser beam machining contains titanium in an atomic, colloidal or ionic form and has a composition in the following range.例文帳に追加

本発明のレーザ加工用ガラスは、チタンを原子、コロイドまたはイオンの形態で含み、次のような範囲の組成を有する。 - 特許庁

By implanting operation of an ion beam, an amount of wear of the ion beam current detecting plate is integrated in an integrating circuit 11 from ion beam current amount converted into a parameter signal in an arithmetic circuit 9, time when the ion beam current detecting plate receives the ion beam, an accelerating voltage value of the ion beam and an atomic mass number of ion.例文帳に追加

イオンビーム１の注入動作により、演算回路にてパラメータ信号に変換したイオンビーム電流量、イオンビーム電流検出板２がイオンビーム１を受けた時間、イオンビーム１の加速電圧値およびイオンの質量数から、積算回路１１にてイオンビーム電流検出板２の削れ量を積算する。 - 特許庁

Erasure is performed by irradiating the region made amorphous with the pulse laser beam to return the region to an original atomic-molecular arrangement state.例文帳に追加

また、パルスレーザをアモルファス化した領域に照射して当初の原子・分子配列状態に復帰させて、消去を行う。 - 特許庁

An atomic oscillator comprises a laser diode 1 emitting a linearly polarized beam 11; and a quarter-wave plate 2 that polarizes incident light according to an incident circularly polarized beam 12.例文帳に追加

原子発振器は、直線偏光ビーム１１を放出する、レーザダイオード１と、入射する光を入射円偏光ビーム１２に従って偏光させる４分の１波長板２とを備えている。 - 特許庁

By utilizing the neutral-beam-utilizing atomic layer vapor deposition apparatus and the atomic layer vapor deposition method utilizing the apparatus, it is possible to practice the steps without damages due to charging.例文帳に追加

本発明による中性ビームを利用した原子層蒸着装置及びこの装置を利用した原子層蒸着方法を利用することによって、チャージングによる損傷なしに工程を実行することができる。 - 特許庁

The retardation compensation element includes a layer 62 having a plurality of holes 62b formed by obliquely irradiating an inorganic film 62a with at least one of an ion beam, atomic beam, molecular beam and plasma beam, the holes having a longitudinal direction obliquely intersecting the surface 62s of the inorganic film 62a and along the irradiation direction D of the beam.例文帳に追加

無機膜６２ａに対して、イオンビーム、原子ビーム、分子ビーム、プラズマビームのうち少なくとも一つのビームを斜めから照射することで、無機膜６２ａの表面６２ｓに対して斜めに交差しかつビームの照射方向Ｄに沿った長手を有する複数の空孔６２ｂが形成された層６２を含む。 - 特許庁

The sample is irradiated with a metastable atomic beam, subjected to spin polarization in the magnetic field to generate a sample current and the surface magnetism of the sample, is measured by measuring the changes in the sample current, when the direction of the spin polarization of the metastable atomic beam, used for irradiating the sample, is changed.例文帳に追加

磁場中においてスピン偏極させた準安定原子ビームを試料に照射し、試料電流を発生させ、試料に照射する準安定原子ビームのスピン偏極の向きを変えたときの試料電流の変化を測定することで試料表面の磁性計測を行う。 - 特許庁

In a Faraday cup 2 for measuring an electron beam, tantalum or a heavy metal material having an atomic number larger than that of tantalum is used, and a Faraday cup structure having a high aspect ratio is composed, so that electron beam measurement capable of preventing large beam leakage even for a fine and highly accelerated electron beam 1 can be realized.例文帳に追加

電子ビーム計測用ファラディカップ（２）において、タンタルもしくはタンタル以上の原子番号の大きな重金属材料を用い、かつアスペクト比の高いファラディカップ構造をとることにより微細でも高加速電子ビーム（１）に対してもビーム漏えいの少ない電子ビーム計測が可能となる。 - 特許庁

To provide a high speed atomic beam source device preventing flow of gas into a gap between an anode and a cathode, and provide a working device having it.例文帳に追加

アノードとカソードとの間の間隙にガスを流入せしめない高速原子線源装置およびこれを具備する加工装置を提供する。 - 特許庁

Accordingly, a window 10 formed of the material having the atomic number smaller than metal is used for the emitting port of the electron beam, whereby the distribution of an electron beam irradiation device minimized in energy loss can be realized.例文帳に追加

従って金属よりも原子番号の小さい物質からなる窓１０を電子線の出射口に用いることによりエネルギー損失の少ない電子線照射装置の提供を実現できる。 - 特許庁

Further, the discharge container 1 is provided with a gas supply port 4 for introducing gas necessary for generating plasma in the container, and a beam discharge hole 5 which is a discharge part for discharging the atomic beam.例文帳に追加

さらに、放電容器１には、容器内でプラズマを発生させるために必要なガスを導入するガス供給口４、および電子ビームを放出する放出部であるビーム放出孔５を設ける。 - 特許庁

When an electron beam is emitted to a material having an atomic number smaller than metal, the energy loss by the interaction with the electron beam is reduced, compared with the case of metal, to reduce the generation of heat or X-ray.例文帳に追加

金属よりも原子番号の小さい物質に電子線が照射されると、電子線との相互作用によるエネルギー損失が金属の場合と比べて低下し、熱やＸ線の発生が減少する。 - 特許庁

The alignment film is scanned in a second direction with the atomic beam traveling from above the alignment film to a second region to form a second domain in the second region.例文帳に追加

配向膜の上部から第２領域に向かう原子ビームを配向膜に対して第２方向にスキャンニングして第２領域に第２ドメインを形成する。 - 特許庁

Further, in the other implementation case, the ion beam generating device comprises a molecular ion source, an atomic ion source, and a switching element for selecting one of the two ion sources.例文帳に追加

更に他の実施例では、イオンビーム発生装置は分子イオン源と、原子イオン源と、２つのイオン源の１つを選択するスイッチング素子とを含む。 - 特許庁

The acting way of the force with charged electrophoretic particles fixed on a substrate by an atomic force microscope, having the charged electrophoretic particles fixed on its cantilevered beam.例文帳に追加

帯電泳動粒子を片持ち梁に固定化した原子間力顕微鏡で、基板上に固定化された帯電泳動粒子との力の働き方を測定する。 - 特許庁

The temperature control calculator 13 controls the temperatures of the molecular beam generators 10a/10b, so that a measurement result of the atomic absorptive film-formation monitor 8 becomes the control target value of the atomic absorptive film-formation monitor 8 calculated from a remaining amount of a molecular beam source calculated from measurement results of the vacuum gauges 14a/14b.例文帳に追加

温度制御演算器１３は、原子吸光式成膜モニタ８の測定結果が、真空計１４ａ・１４ｂの測定結果から算出した分子線源の残量より算出した原子吸光式成膜モニタ８の制御目標値となるように、分子線発生部１０ａ・１０ｂの温度を制御する。 - 特許庁

In order to form the outermost protective layer by ion beam support, direct ion beam support growth is adopted or oxygen or nitrogen and aluminum or titanium are mixed on the atomic level by ion beam support with the exception of the case of ruthenium.例文帳に追加

この多層系は、イオンビームサポートにより最外層保護層を作るために、保護層の直接のイオンビームサポート成長によるかまたはルテニウムの場合を除いてイオンビームサポートにより原子レベルで酸素または窒素とアルミニウムまたはチタンをミックスすることにより作り出される。 - 特許庁

The method for forming various kinds of semiconductor thin films includes irradiating the substrate simultaneously with a semiconductor molecule beam evaporated from the vapor deposition unit 5, and the atomic beam emitted from the gas dissociation irradiation unit 6.例文帳に追加

蒸着装置５より蒸発した半導体分子ビームと、気体解離照射装置６より射出した原子ビームを、基板上に、同時に照射することによって多種類の半導体薄膜を作製する。 - 特許庁

In the case of making raw material gas into plasma to form a thin film, to etch, and the like, atomic beams are irradiated to the raw material gas made into plasma, and atomic radical density in plasma is measured from the difference of atomic beam intensity before and after penetrating plasma to control plasma.例文帳に追加

原料ガスをプラズマ化して被処理体に原料ガス成分の薄膜を成膜したり、被処理体をエッチング処理する際に、プラズマ化した原料ガスに対して原子光発生装置から原子光を照射し、プラズマ透過前の基準原子光の強度とプラズマを透過した原子光線の強度に基づいてプラズマ中における原子状ラジカル密度を測定する。 - 特許庁

To attain a large S/N ratio while stabilizing a base line, in a double beam type atomic absorption spectrophotometer.例文帳に追加

ダブルビーム方式の原子吸光分光光度計において、ベースライン安定性を実現しつつ、大きなＳ／Ｎを達成することができる原子吸光分光光度計を提供する。 - 特許庁

To enable the correction of black defect in which also the riverbed is not generated in the practical throughput by combining a defect correcting device using an ion beam and an atomic force microscope(AFM).例文帳に追加

イオンビームを用いた欠陥修正装置と原子間力顕微鏡(AFM)を組み合わせることで、実用的なスル−プットでリバーベッドも無い黒欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

A means for irradiating the Cs atoms with a collimation laser beam having a frequency close to the frequency of the Cs atoms is provided in parallel to an atomic waveguide in the direction of launching.例文帳に追加

セシウム原子に対し，その打ち上げ方向の原子導波路と平行に，セシウム原子の周波数に近い周波数のコリメーションレーザ光を照射する手段を設ける。 - 特許庁

A far-infrared pulse laser beam is made to enter a target, consisting of a low atomic number substance, thereby high-speed electrons caused by resonance absorption phenomenon is generated; and this high-speed electrons are made to collide with a high atomic number substance, thereby characteristic X-rays of short-pulse high luminance point-like light source is generated.例文帳に追加

遠赤外パルスレーザー光を低原子番号物質からなるターゲットに入射させることにより共鳴吸収現象に起因する高速電子を発生させ、該高速電子を高原子番号物質に衝突させることにより、短パルス高輝度点光源の特性Ｘ線を発生させる。 - 特許庁

METHOD OF FORMING MULTI-DOMAINS ON ALIGNMENT FILM WITH ATOMIC BEAM, METHOD FOR MANUFACTURING WIDE-FIELD-ANGLE LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME, WIDE-ANGLE-OF-FIELD LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND LIQUID CRYSTAL ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加

原子ビームで配向膜にマルチドメインを形成する方法、これを利用した広視野角液晶表示装置の製造方法、広視野角液晶表示装置及び液晶配向装置 - 特許庁

When a standard sample contains the same element, similarly, the intensities of the neutral atomic beam and ion beam are determined and the intensity ratio is calculated (S5 and S6), and the degree of the influence of the physical interference or ionization interference is evaluated based on the difference between both intensity ratios (S7).例文帳に追加

また、標準試料が同じ元素を含む場合には、同様に中性原子線とイオン線との強度を求めてその強度比を算出し（Ｓ５、Ｓ６）、両者の強度比の差に基づいて物理干渉やイオン化干渉の影響の程度を評価する（Ｓ７）。 - 特許庁

Then, annihilation gamma-rays from a positron releasing core created from the nuclear reaction between the charged particle beam irradiated to the object 51 to be irradiated and the atomic nucleus inside the object 51 to be irradiated are detected, and the position of arrival of the actually applied charged particle beam is detected.例文帳に追加

また、被照射体５１に照射された荷電粒子線と被照射体５１内の原子核との核反応によって生成されたポジトロン放出核からの消滅γ線を検出し、実際に照射された荷電粒子線の到達位置を検出する。 - 特許庁

In the method of correcting a photomask defect, after making an electrical continuity in an isolated pattern by a metal deposition film 7 by use of an electron beam or a helium ion beam generating from a gas field ion source, the defect 3 is corrected; and after the correction, the metal deposition film 7 is physically removed by an AFM (atomic force microscope) scratch working probe 9.例文帳に追加

電子ビームまたはガスフィールドイオン源から発生するヘリウムイオンビームを用いた金属デポジション膜7で孤立したパターンに導通を作ってから欠陥3を修正し、修正後金属デポジション膜7をAFMスクラッチ加工探針9で物理的に除去する。 - 特許庁

Using a sapphire slightly-tilted substrate having an off-angle of 0.5° or less, a plurality of nitride semiconductor films having flatness in an atomic scale are fabricated by a molecular beam epitaxy method to manufacture a nitride semiconductor device.例文帳に追加

オフ角が０．５度以下であるサファイヤ微傾斜基板を用い、分子線エピタキシー法により複数の窒化半導体膜を原子スケールで平坦な膜を作製して窒化物半導体素子を製造する。 - 特許庁