「atomic position」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To extend a lifetime of a working probe used for a mechanical removal process with an atomic force microscope and to reduce a drift in a probe position during working.例文帳に追加

原子間力顕微鏡による機械的な除去加工で加工用の探針の寿命を延ばし、加工中の探針位置のドリフトの低減を実現する。 - 特許庁

The region 24 including the hole formed in process of machining is scanned to detect the position 26 of the hole by detecting the secondary ion signal of the same atomic species as the entered ions again, and the moving distance of the position of the hole is found by comparing the hole position at the previous time with the hole position at this time to consider it as a drift amount.例文帳に追加

加工の途中で形成した穴を含む領域２４を走査し、再び入射イオンと同じ原子種の二次イオン信号を検出して穴の位置２６を検出し、前回の穴の位置と今回の穴の位置を比較して穴の位置の移動量を求め、これをドリフト量と見なす。 - 特許庁

A static eliminator 4 and a charge monitor 3 are arranged and the charge monitor 3 is controlled on the basis of the position of the probe 2 of the atomic force microscope by a monitor position control means 7 so as to measure the charge quantity in the periphery of the position of the probe 2 of the sample 1.例文帳に追加

除電装置４と、帯電モニタ３を配置し、原子間力顕微鏡の探針２の位置に基づいて、試料１の探針２の位置周辺の帯電量が測定されるように帯電モニタ３をモニタ位置制御手段７により制御する。 - 特許庁

The manganese atoms in the zinc sulfide lattice is at a symmetric and nonequilibrium lattice position during the film formation, but has atomic positions which are stable in terms of energy, after undergoing thermal treatment.例文帳に追加

硫化亜鉛格子中のマンガン原子は、成膜時には非平衡な対称的な格子位置にあるが、加熱処理によってエネルギー的に安定な原子配置を取る。 - 特許庁

To provide a photo-electron measuring method and a system capable of reducing the error of the atomic position by shortening a measuring time and by enlarging correction effect relative to distortion of an atomic image caused by anisotropy of electron scattering, and requiring the use of no special facility.例文帳に追加

測定時間を短く、かつ、電子散乱の異方性による原子像の歪みに対する補正効果を大きくすることにより原子位置の誤差を小さくすることができ、かつ、特別な施設を使用する必要がない、光電子測定方法及びシステムを提供する。 - 特許庁

The high Si-concentration region has the maximum peak of the Si atomic concentration, and this concentration along the thickness direction of the glass plate reduces continuously from the maximum peak position to the surface of the glass plate and the above central position.例文帳に追加

前記Ｓｉ高濃度領域は、Ｓｉ原子濃度の最大ピークを有し、前記ガラス板の厚さ方向に沿ったＳｉ原子濃度は、前記最大ピーク位置からガラス板のガラス表面および前記中心位置まで連続的に減少する。 - 特許庁

To provide CFI type zeolite containing no aluminum at a position other than that in the skeleton and having excellent performance as a catalyst by lowering the atomic ratio of silicon atoms to aluminum atoms in the CFI type zeolite skeleton.例文帳に追加

ＣＦＩ型ゼオライト骨格のケイ素とアルミニウム原子の原子比を下げ、骨格外アルミニウムを含まない、触媒として優れた性能を有するＣＦＩ型ゼオライトを提供する。 - 特許庁

The distance between hydroxy groups of the glycol is substantially same to or more than the inter atomic distance of an atom directly bonded to the carbon atom on the 3rd position of the xanthene skeleton and an atom directly bonded to the carbon atom on the 6th position of the xanthene skeleton.例文帳に追加

前記グリコールは、水酸基間距離が、蛍光染料のキサンテン骨格の３位の炭素原子に直接結合した原子とキサンテン骨格の６位の炭素原子に直接結合した原子との原子間距離とほぼ同等以上である。 - 特許庁

In the glass plate, a Si high concentration region where the concentration ratio of the Si atomic concentration (atom%) to the Si atomic concentration (atom%) in the center position in the thickness direction of the glass plate is higher by 5% or more is formed in a depth range of >0 and ≤30 nm along the thickness direction from the glass surface.例文帳に追加

ガラス板には、ガラス板の厚さ方向の中心位置におけるＳｉ原子濃度（原子％）に対するＳｉ原子濃度（原子％）の濃度比率が５％以上高いＳｉ高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って０より大きく３０ｎｍ以下の深さの範囲に形成されている。 - 特許庁

By using Y type zeolite with the atomic ratio of silicon atoms to aluminum atoms lower than 25 in the molar ratio for an aluminum source as a raw material to manufacture CFI type zeolite, CFI type zeolite containing no aluminum at the position other than that in the skeleton, of which the atomic ratio of silicon atoms to aluminum atoms in the zeolite skeleton is equal to or lower than 30 in the molar ratio is manufactured.例文帳に追加

ＣＦＩ型ゼオライト製造のためのアルミナ源として、ケイ素とアルミニウム原子の原子比がモル比で２５未満のＹ型ゼオライトを原料とすることによって、ゼオライト骨格のケイ素とアルミニウム原子の原子比がモル比で３０以下であり、骨格外アルミニウムを含まないＣＦＩ型ゼオライトを製造する。 - 特許庁

To provide a probe position control method which enables more accurate observation or operation by correcting the change of the relative position of a sample and a probe during observation or operation in a scanning type probe microscope (SPM) or an atomic manipulator (operation) by excluding the effect of a heat drift or the like, and a probe position control device.例文帳に追加

熱ドリフト等の影響を排除し、走査型プローブ顕微鏡(SPM)や原子マニピュレータ(操作)装置において、その観察又は操作の間に試料とプローブの相対位置が熱により変化するのを補正して、より正確な観察又は操作を可能にする位置制御方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

In the formula, R^1 is a lower alkyl group, R^2 is a substituted or unsubstituted lower alkyl group, X is a nitroso group at 2-, 3- or 4-position, and Y is an atomic symbol N or NH.例文帳に追加

一般式（Ｉ）：（式中、Ｒ^１は低級アルキル基、Ｒ^２は、置換若しくは非置換低級アルキル基、Ｘは２−、３−または４−位におけるニトロソ基、Ｙは原子記号Ｎ若しくはＮＨである。） - 特許庁

The X-ray diffraction intensity is subjected to Fourier transformation to calculate a function that represents atomic position in the oxide causing a molten component, a molten phase and a crystalline phase of the oxide causing the molten component are discriminated from a peak value of the function that represents the atomic position, and the structure of the oxide is evaluated by simultaneously evaluating the structures of the molten phase and the crystalline phase.例文帳に追加

そして、そのＸ線回折強度をフーリエ変換して、溶融成分を生じさせた酸化物中の原子配置を表す関数を求め、当該原子配置を表す関数のピーク値から、前記溶融成分を生じさせた酸化物の溶融相及び結晶性の相を判別し、該溶融相および該結晶性の相の構造を同時に評価することにより、酸化物の構造を評価する。 - 特許庁

Fig.(c) shows a state wherein each grid-like analytical point (shown by white circle) set in an analytical area R in Fig.(a) is correlated with each position in a reflected electron image (higher atomic number portion is shown by a black color) corresponding to an analytical area in Fig.(b).例文帳に追加

（ａ）の分析領域Ｒに設定されているグリッド状の分析点（白丸で示す）と（ｂ）の分析領域に対応した反射電子像（原子番号の高い部分を黒く表示）の位置を対応させた状態が（ｃ）である。 - 特許庁

To provide an atomic-absorption-type rate monitor for accurately detecting the rate of an evaporation metal particle or the like for a long time regardless of the number, accurately controlling the rate, and individually and accurately detecting the rate at an arbitrary position.例文帳に追加

蒸発金属粒子等のレートを多少に係わらず長時間に亘り正確に検出でき、正確なレート制御を行え、任意の位置でそのレートを個別に正確に検出できる原子吸光式レートモニターを提供する。 - 特許庁

When a region 24 including a minute reference hole 23 previously formed by an ion beam in a place other than a machining region 25 in a shading film 21 on a glass substrate 22, the position 23 of the hole is memorized by detecting a secondary ion signal of the same atomic species as entered ions injected into the substrate instead of detecting the secondary ion signal of atomic species included in a base film.例文帳に追加

ガラス基板上２２の遮光膜２１に被加工領域２５以外の場所にあらかじめイオンビームで形成しておいた微細な参照穴２３を含む領域２４を走査するときに、下地膜に含まれる原子種の二次イオン信号を検出するのではなく、基板に注入された入射イオンと同じ原子種の二次イオン信号を検出し、穴の位置２３を記憶しておく。 - 特許庁

To provide a construction work support system, which can easily grasp information about a position and a variety of items concerning the position in a large-scale closed space such as in an atomic power plant under construction, by means of IC tags set at respective points in the construction field, to thereby efficiently carry out the construction work and monitoring thereof.例文帳に追加

原子力プラント建設等の大規模閉空間内での位置及びその位置に関連する各種情報を、建設現場の各ポイントに設置したＩＣタグにより、簡単に把握できるようにし、効率よく建設作業や作業管理等を行えるようにした建設作業支援システムを提案することを目的とする。 - 特許庁

The atom position fixing device detects a change amount of a frequency of the probe 10 based on an inter-atomic force acting between the probe 10 and the atom 50 by vibrating the probe 10 or the atom 50 on the surface of the specimen in two directions parallel to the surface of the specimen.例文帳に追加

探針１０又は試料表面の原子５０を試料表面と平行な２方向に振動させ、探針１０と原子５０との間に作用する原子間力に基づく探針１０の周波数の変化量を検出する。 - 特許庁

Then, annihilation gamma-rays from a positron releasing core created from the nuclear reaction between the charged particle beam irradiated to the object 51 to be irradiated and the atomic nucleus inside the object 51 to be irradiated are detected, and the position of arrival of the actually applied charged particle beam is detected.例文帳に追加

また、被照射体５１に照射された荷電粒子線と被照射体５１内の原子核との核反応によって生成されたポジトロン放出核からの消滅γ線を検出し、実際に照射された荷電粒子線の到達位置を検出する。 - 特許庁

When the position of a probe 2 is changed by atomic force or the like operating between a measurement object and the probe 2, the displacement is transferred to a PZT 4 through Si single crystal 1 for deforming the PZT 4, thus generating voltage between a lower electrode 3 and an upper electrode 5.例文帳に追加

測定物体と探針２の間に働く原子間力等により探針２の位置が変化すると、その変位はSi単結晶１を介してＰＺＴ４に伝わり、ＰＺＴ４を変形させるので、下部電極３と上部電極５間に電圧が発生する。 - 特許庁

When the surface form of the substrate 21 is measured in the measurement range of four quarters whose one side is 5μm by using an atomic force microscope, the number of ridges of textures which are observed at a position higher than the average line of measured roughness curve by 1.5nm is 200 or less.例文帳に追加

同情報記録媒体用ガラス基板２１の表面形状を、原子間力顕微鏡を使用し、１辺が５μｍ四方の測定範囲内で測定したとき、測定された粗さ曲線の平均線よりも１．５ｎｍ高い位置で観測されるテクスチャーの尾根の数は２００個以下である。 - 特許庁

In the tempered glass, the region of high Si concentration in which the concentration ratio of an Si atomic concentration (atom%) to that in the central position of the tempered glass in its thickness direction is higher than 5%, is formed in the range of depth of >0 to ≤30 nm along the thickness direction from the glass surface.例文帳に追加

強化ガラスには、強化ガラスの厚さ方向の中心位置におけるＳiの原子濃度（原子％）に対するＳiの原子濃度（原子％）の濃度比率が５％以上高いＳｉ高濃度領域が、ガラス表面から厚さ方向に沿って０より大きく３０ｎｍ以下の深さの範囲に形成される。 - 特許庁

This spent fuel storage rack constituted so that a plurality of square tube-shaped cells are formed by combining a plurality of diaphragms 1, 2, 3 and that each spent atomic fuel is erected and arranged in each cell has a constitution wherein each fuel is arranged on the position shifted from the center in the horizontal direction of each cell.例文帳に追加

複数の仕切板１、２、３を格子状に組み合わせて複数の角筒状のセルを形成し、各セル内に１個ずつ使用済み原子燃料を立てて配置するように構成された使用済み燃料貯蔵ラックにおいて、各燃料が各セルの水平方向の中心からずれた位置に配置されるように構成されている。 - 特許庁

The black defect correction technique of the mask comprises recognizing the position of a black defect section of the mask by an atomic force microscope (AFM), moving the probe of the AFM upward of the black defect position, and removing the black defect by electrochemical reaction in the state of interposing an electrolyte between the probe and the black defect section as both electrodes and further comprises confirming the removal of the black defect by the AFM.例文帳に追加

本発明のマスク黒欠陥修正手法は、原子間力顕微鏡によってマスクの黒欠陥部位置を把握し、前記黒欠陥位置上方に前記原子間力顕微鏡の探針を移動させ、前記探針と前記マスク黒欠陥部を両電極とし電解液を介在させた状態で電気化学的反応により前記黒欠陥を除去するものであって、更に前記原子間力顕微鏡によって前記黒欠陥の除去を確認するものである。 - 特許庁