「basic pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

By reducing or expanding data to the basic stationary image data in a time series and varying the y direction position of the image whose magnification change one after another lie a simple harmonic motion, an image display showing an image (pattern for example) as if it were rotating in y and z virtual planes perpendicular to the screen 11 of a display 12 is realized.例文帳に追加

時系列的に前記基本静止画像データに対しデータを縮小又は拡大する加工を施すと共に、その逐次倍率変化する画像のｙ方向位置を単振動的に変化させることにより、表示装置１２の画面１１と直交するｙｚ仮想平面内を画像（例えば図柄）が公転運動して見えるような画像表示を実現する。 - 特許庁

The fusible basic material is provided with through holes at positions corresponding to the arrangement of joint terminals provided on an article being jointed and at least one position of the wiring pattern is exposed to the inner surface of at least one through hole.例文帳に追加

本発明の実装構造体は、配線パターンに対応した２次元パターンを持った導電性の配線層とこれを狭持する融着基材を備え、融着基材には接合物に設けられている接合端子の配置に対応した位置に貫通孔が形成され、配線パターンの少なくとも１箇所が少なくとも１つの貫通孔の内面に露出した構造とする。 - 特許庁

Same number of table pointers in a pattern control board 32b, a lamp control board 34, and a sound control board 35 correspond to basic fluctuation patterns 1 to 9 transmitted from the main control board 30, and a plurality of display patterns, lighting patterns and sound patterns are stored according to respective point numbers by matching with one another.例文帳に追加

主制御基板３０から送信されてくる基本変動パターン１〜９のそれぞれに対して、図柄制御基板３２ｂ、ランプ制御基板３４及び音制御基板３５において、それぞれ、同数のテーブルポインタが対応し、各ポイント値に対応して、複数の表示パターン、点灯パターン、音パターンがそれぞれ整合を取りながら記憶されている。 - 特許庁

A structure composed by diffusion-bonding a thin metal sheet 102 having an annular pattern 201 and a bridge part 202 onto a metal fiber sheet 101 composed by forming a metal fiber into a sheet-like shape is employed for this electrode 103 for a fuel cell used for a flat stack type fuel cell having a structure where a basic unit cells are flatly arranged and connected in series to one another.例文帳に追加

基本単位セルが平面的に並べられて直列接続された構造を有する平面スタック型の燃料電池に利用される燃料電池用電極１０３として、金属繊維を板状に成形した金属繊維シート１０１上に環状パターン２０１とブリッジ部２０２を備えた薄板金属１０２を拡散接合させた構造を採用する。 - 特許庁

In the method for manufacturing a semiconductor device, a resist film is formed on a substrate whose surface has steps and has a sticking or penetrated organic removing liquid using the chemically amplified photoresist composition to which a basic compound has been added by 1-100 mmol per 100 g base resin and a resist pattern is formed by exposing a prescribed region of the resist film.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、表面に段差を有するとともに有機剥離液が付着若しくは染み込んだ基板上に、ベース樹脂１００ｇ当たり塩基性化合物を１〜１００ｍｍｏｌ添加した化学増幅型フォトレジスト組成物を用いてレジスト膜を成膜し、前記レジスト膜の所定の領域を露光することによってレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The composition for cured film pattern formation comprises a combination of an alkali development type photocurable-heat curable composition containing no heat curing catalyst, preferably a photocurable-heat curable composition containing an epoxy resin as a heat curable component and an oxetane compound with a developer comprising an aqueous solution of a basic curing catalyst comprising a quaternary ammonium compound which generates a hydroxy anion.例文帳に追加

硬化皮膜パターン形成用組成物は、熱硬化触媒を含有しないアルカリ現像型の光硬化性・熱硬化性組成物、好ましくは熱硬化性成分としてエポキシ樹脂とオキセタン化合物を含有する光硬化性・熱硬化性組成物と、ヒドロキシアニオンを生成する第４級アンモニウム化合物からなる塩基性硬化触媒の水溶液からなる現像液との組合せからなる。 - 特許庁

Among SMEs, on the other hand, which make up for shortages of business resources through divisions of labor and business collaboration with local enterprises, the emphasis on "proximity to related enterprises" is certainly not falling and the role of industrial clusters in reducing invisible costs such as time and labor is as important as ever. There has thus been no decline in the basic pattern of clusters giving rise to clusters (Fig. 2-3-7).例文帳に追加

一方、経営資源の不足を、地域内企業間の分業体制や事業提携等で補っている中小企業について見ると、「関連企業への近接性」を重要視する度合いは決して低下しておらず、時間や手間などの目に見えないコストを削減するという産業集積の役割は依然として重要であり、集積が集積をもたらす基本的な構図は失われていないことが分かる（第2-3-7図）。 - 経済産業省

A process of transcribing decorative patterns on textile by applying transcription material layered on a flexible base sheet, consisting of dyes, pigments, film-forming polymers, …a catalyst activated by the heat emitted from cross bonding reactions in which the catalyst comprises: a base of a mono-basic organic compound having pKa of less than 3.50 in water at 20oC and A base of a monobasic organic compound having pKa of over 3.75 in water at 20oC. Characterized in that layered transcription material is pressed against the textile while being heated, flexible base sheet except the layer attached to the textile is removed, and the textile is heated at higher temperature to fix the transcribed pattern. 例文帳に追加

織物生地の装飾加工法及び転写材料染料又は顔料、フィルム形成性重合体、交叉結合反応用の熱によって活性化されうる触媒よりなる転写層を可撓性基材シート上に有する転写材料であって、該触媒が、20℃の水溶液中で3.50以下のpKaをもつ有機塩基との塩、及び20℃の水溶液中で3.75以上のpKaをもつ有機塩基との塩よりなる転写材料の転写層を加熱しながら織物生地に押し付け、織物生地に付着した層を残して可撓性基材シートを除去し、次いで織物生地を高温に加熱して転写を固定することを特徴とする織物生地の装飾加工方法。 - 特許庁