「basic pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The pattern of the design 20 is one where basic unit forms connect to each other and continue vertically and horizontally, or one where lines of a prescribed width cross each other and continue vertically and horizontally.例文帳に追加

絵柄２０のパターンは、基本単位の形状が互いに接して縦横に連続しているもの、または、所定幅のラインが互いに交差して縦横に連続しているものである。 - 特許庁

To obtain a copolymer having an excellent focal depth margin and excellent line-end foreshortening resistance without impairing basic properties as a resist such as a pattern shape, dry-etching resistance, heat resistance, etc., and a radiation-sensitive resin composition.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なうことなく、焦点深度余裕に優れると共に、ラインエンドフォアショートニング耐性に優れる。 - 特許庁

To provide a video recording and reproducing device capable of surely setting a basic point for reproducing a moving picture while skipping a moving picture about the moving picture of a television program or the like broadcasted in a fixed pattern.例文帳に追加

一定のパターンで放送されるテレビ番組等の動画について、動画を飛ばして再生するための基点を確実に設定することができる録画再生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pneumatic tire which can effectively reduce a noise caused by a block basic pattern while chamfering relating to a block is suppressed to a necessary minimum limit.例文帳に追加

ブロックに対する面取り加工を必要最小限に止めながらブロック基調パターンに起因する騒音を効果的に低減することを可能にした空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁

This inspection device determines right/wrong of the sound by comparing the sound waveform data of the sound recorded by the microphone 2 with sound waveform data of a basic pattern of the sound stored corresponding to the command.例文帳に追加

マイクロフォン２により録音されたサウンドのサウンド波形データとコマンドに対応して記憶されたサウンドの基本パターンのサウンド波形データとを比較し、サウンドの良否を判定する。 - 特許庁

According to the configuration, since the basic pattern detection precision is calculated with providing an ordinary copy function or the like, the labor of a manager maintaining the detection precision can be reduced.例文帳に追加

この構成によれば、通常の複製機能等の提供に伴って、基礎パターンの検出精度を算出するため、検出精度を維持する管理者の労力を軽減することができる。 - 特許庁

As for a price in housing design, the housing simulation system automatically calculates and presents the price of a house when a designer selects the basic pattern of the housing outline and in-house layout.例文帳に追加

住宅の設計における価格について、設計者が住宅外形の基本パターンと住宅内の間取りを選択することにより、自動的に住宅価格を計算提示する。 - 特許庁

A conductive layer 2 is formed uniformly on the surface of an insulating basic material 1, and an oxide film 4 is formed in the unwanted region of the conductive layer 2, other than a region for forming a required wiring pattern.例文帳に追加

絶縁基材１面に一様に導電層２を形成し、導電層２に於ける所要の配線パタ−ンを形成する領域以外の不要な領域に酸化膜４を形成する。 - 特許庁

To provide a method for producing ladderproof fabrics suitable for making fabrics comprising a basic pattern with yarns arranged parallel to one another, that have an improved appearance and surface feel.例文帳に追加

改良された外観と表面感触を有する、互いに平行に配置される編み糸を有する基本パターンからなる布地を作るのに適した無伝線布地の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in resolution and line edge roughness without spoiling basic physical properties as a resist, such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.例文帳に追加

パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なうことなく、解像度およびラインエッジラフネスに優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A basic metallic compound in which the pH of the aqueous solution or water-dispersed solution is ≥7.5 at 25°C such as calcium carbonate and calcium oxide is added to a lost pattern using foamed plastics.例文帳に追加

炭酸カルシウム、酸化カルシウム等の水溶液又は水分散液のｐＨが２５℃で７．５以上である塩基性の金属化合物を、発泡プラスチックを用いた消失模型用に添加する。 - 特許庁

First, a plurality of basic patterns of a first optical unit 31 are exposed to a wafer 5 under the defocusing state, and change is measured in residual amount of film of the resist on the wafer 5 in the exposed pattern region.例文帳に追加

まず、第１の光学部３１の複数の基本パターンをウェハ５にデフォーカス状態にて露光し、露光されたパターン域での上記ウェハ５のレジストの残膜量変化を測定する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency particularly to ArF excimer laser light and excellent in basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

特にＡｒＦエキシマレーザーに対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide the optimal price pattern at a plurality of points of time under the consideration of price elasticity or factors affecting basic demands across a plurality of points of time(plurality of time buckets) at present and in the future.例文帳に追加

現在及び将来の複数時点（複数タイムバケット）に亘る価格弾力性や基礎需要へ影響を及ぼす要因を考慮した、複数時点の最適な価格パターンを得る。 - 特許庁

The East Asian production network that developed as companies found optimal locations has a basic pattern, with labor-intensive processes conducted in regions where wages are low.例文帳に追加

企業立地の最適化の進展により形成された東アジアの工程間分業ネットワークは、労働集約的な工程を賃金が安い地域で行うことを基本的な形態としている。 - 経済産業省

In the microlens array in which several microlenses ML are irregularly formed so as to be different from a basic pattern by which each of the apex intervals of microlenses adjacent with each other is the same interval L or are formed to have regularity in terms of probability distribution, the apex positions T of all microlenses are within a circle having the radius of ≤0.3L by centering the apex position in the basic pattern.例文帳に追加

複数のマイクロレンズＭＬが、相互に隣接するマイクロレンズの頂点間隔を全て等間隔Ｌとした基本パターンとは異なるように不規則に又は確率分布的な規則性をもって形成されたマイクロレンズアレイにおいて、全てのマイクロレンズの頂点位置Ｔが、上記基本パターンにおける頂点位置を中心とした０．３Ｌ以下の半径を有する円内に位置するようにする。 - 特許庁

Thus, since a designated parameter to be designated for generating a basic pattern that the present image processing apparatus can detect, can be easily acquired and designated, detection precision of a pattern having a complicated shape can be easily maintained and improved.例文帳に追加

この構成によれば、本画像処理装置が検出可能な基礎パターンを生成するために指定されるべき指定変数を容易に取得し、指定することができるため、複雑な形状を有するパターンの検出精度を容易に維持、向上させることができる。 - 特許庁

Then, the present mental state of the user is detected, the state transfer pattern having the basic mental state adapted for the detected present mental state is selected, and the guided hospitality operational content is read out following the state transfer pattern, and successively performed.例文帳に追加

そして、ユーザーの現在精神状態を検出するとともに、その検出された現在精神状態に適合する基点精神状態を有した状態推移パターンを選択し、状態推移パターンに従い誘導もてなし動作内容を読み出して順次行なわせる。 - 特許庁

Thereby, correction variation is performed in which a rotation amount obtained by adding a rotation amount at each rotational speed of the basic correction variation pattern and a rotation amount at each rotational speed of the variable correction variation pattern is set as a correction rotation amount at each rotational speed.例文帳に追加

それにより、基本補正変動パターンにおける各回転速度での回転量と、可変補正変動パターンにおける各回転速度での回転量とを加算して得られる回転量を各回転速度での補正回転量とした補正変動が実行される。 - 特許庁

In this metal pattern forming method, a plating layer with a thickness of 1 μm or smaller is formed on the surface of the silver thin film pattern formed on a support using a neutral or basic copper plating bath and electroplating for a thickness increase is further applied to the surface of the plating layer.例文帳に追加

支持体上に形成された銀薄膜パタン上に中性、あるいは塩基性の銅めっき浴により厚さ１μｍ以下のめっき層を形成した後、さらに厚付のための電解めっきすることを特徴とする金属パタンの形成方法。 - 特許庁

To provide a vehicle light that is configured to form an additional light distribution pattern additionally by emission light from an additional lens formed integrally at the surrounding of a convex lens against a basic light distribution pattern, in which the shape of the convex lens and the additional lens is simplified.例文帳に追加

基本配光パターンに対して、凸レンズの周囲に一体的に形成された付加レンズからの出射光により付加配光パターンを付加的に形成するように構成された車両用灯具において、凸レンズおよび付加レンズの形状を簡素化する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for an ArF excimer laser which excels in basic physical properties as a resist, such as transparency, sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern profile, in particular, excels in solubility in a resist solvent, and reduces the roughness on a pattern side wall after development.例文帳に追加

透明性、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減するＡｒＦエキシマレーザー用感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A sound collating means 4 collates the time series of feature vectors with a standard pattern for a speech basic unit stored in a standard pattern storage means 5, and a word evaluating means 6 evaluates a recognition object on the basis of the collation result.例文帳に追加

音響照合手段４において、該特徴ベクトルの時系列と、標準パタン格納手段５に格納されている音声基本単位に対する標準パタンを照合し、単語評価手段６において、前記照合結果に基づいて認識対象を評価する。 - 特許庁

To provide an optical unit for a vehicle headlight can make light intensity of a prescribed region within a prescribed light distribution pattern formed by superimposing an additional light distribution pattern formed by one of the reflecting surfaces on a basic light distribution pattern formed by the other lower than light intensity around the prescribed region.例文帳に追加

一方の反射面により形成される基本配光パターンに他方の反射面により形成される付加配光パターンを重畳させることにより形成される所定配光パターン中の所定領域の光度を、該所定領域周囲の光度よりも低下させることが可能な車両前照灯用光学ユニットを提供する。 - 特許庁

After a projected pattern layer 2, wherein a plurality of conductive particles are partially fused within the layer, is formed by printing the ink of conductive composition including the conductive particles and binder resin in the form of a pattern on a transparent basic material 1, a metal layer 3 is formed as an electromagnetic wave shielding material 10, by electrolytic plating on the front surface of the projected pattern layer.例文帳に追加

透明基材１上に、導電性粒子とバインダ樹脂を含む導電性組成物のインキをパターン状に印刷して、層内部で複数の導電性粒子が部分的に融合している凸状パターン層２を形成した後、この凸状パターン層の表面に電解めっきで金属層３を形成して電磁波シールド材１０とする。 - 特許庁

A reference elapsed time is calculated when the pattern for alignment is formed on a conveying belt so as to correct positional deviation, the pattern for alignment of basic color is formed on each of a plurality of photoreceptor drums, and the pattern for alignment on the photoreceptor drum is detected, then the positional deviation is corrected based on a result of the detection and the reference elapsed time.例文帳に追加

搬送ベルト上に位置合わせ用パターンを形成して位置ずれを補正した際に基準経過時間を算出し、基本色の位置合わせ用パターンを複数の感光体ドラムの夫々に形成し、その感光体ドラム上の位置合わせ用パターンを検出し、その検出結果と基準経過時間とに基づいて、位置ずれを補正する。 - 特許庁

The drive patterns are not stored, but a drive pattern generating part 10 generates a drive pattern signal on the basis of a basic signal in real time and transmits the drive pattern signal to an actuator 14 to thereby change the shape of an accessory 140 (160) of the communication terminal or a member constituting the communication terminal 100 itself, and notify the user of an event that occurs.例文帳に追加

駆動パターンを記憶しておくのではなく、基礎信号を基にして、駆動パターン生成部１０にて駆動パターン信号をリアルタイムで生成し、駆動パターン信号をアクチュエータ１４に伝え、これにより、通信端末の付属物１４０（１６０）、または、通信端末１００自体を構成する部材の形状を変化させて、発生したイベントをユーザに報知する。 - 特許庁

To provide a program that a player can set basic parameters (figure and personality) about a character to be grown up to enjoy various growing pattern of the same character.例文帳に追加

育成すべきキャラクタについての基本的なパラメータ（容姿や性格など）を使用者自身で設定することができるようにして、同じキャラクタであっても、様々な育成パターンを楽しむことができるようにする。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic performances required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape and free of occurrence and increase of foreign matter in resist storage.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、レジスト保管時に異物の発生、増加が起こらない。 - 特許庁

To reduce packing and transportation costs by shortening the depth of a casing without damaging a basic installation pattern where a storage device is arranged with a space in the backside of an electronic device.例文帳に追加

電子機器の背部に間隔を隔てて記憶装置を配備するという基本的な設置パターンを損なうことなく、筐体の奥行寸法をさらに短くして梱包費用や搬送費用を削減する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which has high sensitivity and no substrate dependence and which provides excelling profile shape, even when a basic substrate is used, and to provide a pattern forming method that uses the positive resist composition.例文帳に追加

高感度であり、基板依存性がなく、塩基性基板を用いた場合でもプロファイル形状の優れたポジ型レジスト組成物及びこのポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する - 特許庁

After the light emitting material having a plurality of colors adheres by a second mask through a first mask arranged so as to adhere to the basic body closely, the second mask is removed, and a pattern of a back face electrode adheres by the first mask.例文帳に追加

基体に密着配置した第一のマスクを介して第二のマスクにより複数色の発光材料を付着した後、第二のマスクを取り去り、第一のマスクで背面電極のパターンを付着する。 - 特許庁

To test a semiconductor circuit, first, a basic format for test pattern including at least one argument and a test program for testing a semiconductor circuit to be tested is created and stored in a testing device.例文帳に追加

半導体回路のテスト方法は、まず、少なくとも１つの引数と、テスト対象の半導体回路のテストを行うためのテストプログラムとを含むテストパタンの基本フォーマットを生成し、テスト装置内に記憶する。 - 特許庁

A correlation operation part 2 calculates, by a sampling period SP, the correlation value between a series of digital data, outputted from a filter processing part 13, and predetermined basic waveform data indicating the waveform pattern of idle signals.例文帳に追加

相関演算部２は、フィルタ処理部１３から出力される一連のデジタルデータと空線信号の波形パターンを示す所定の基本波形データとの相関値をサンプリング周期ＳＰで算出する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic solid state properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, and being useful as a chemical amplification type resist.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Then, basic dither masks BD0 to BD4 considered to obtain excellent dot dispersibility even if the assumed positional deviation arises are formed for every assumed positional deviation assumption pattern.例文帳に追加

そして、想定した位置ずれ想定パターン毎に、想定する位置ずれが生じた場合においても良好なドット分散性が得られるように考慮した基本ディザマスクＢＤ０〜ＢＤ４を生成する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transpar ency to a radiation, ensuring few development defects and excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、特に現像欠陥が極めて少なく、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The basic or acidic aqueous solution 70 for pH adjustment penetrates into the deformed part of the surface of the resist 10 and improves the shape of a resist pattern.例文帳に追加

これによりレジスト１０の表面の形状が劣化した部分にＰＨ濃度の調整のための塩基性又は酸性の水溶液７０が混入して、レジストパターン形状を改善することができる。 - 特許庁

An antenna device has a first antenna element 21 operated in a basic mode and an antenna element 22 having an annular pattern structure surrounding the first antenna element 21 and being operated in a higher mode.例文帳に追加

基本モードで動作する第１のアンテナエレメント部２１と、この第１のアンテナエレメント部２１を囲むような環状パターン構造を有し、高次モードで動作するアンテナエレメント部２２とから構成される。 - 特許庁

The correction current is formed by selectively combining waveform current components constituting a plurality of bases to respectively correct a plurality of basic beam landing pattern components.例文帳に追加

補正電流は、複数の基本となるビームランディングパターン成分を夫々補正するための複数の基本となる波形電流成分を基に之ら波形電流成分を選択的に組み合わさた補正電流とする。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency for radiation, excellent basic performances as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching durability, pattern profile, and suitable as a chemical amplification type resist having high resolution property in a fine pattern region.例文帳に追加

放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れるとともに、微細パターン領域での高い現像性を有する化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition adaptable to a short-wavelength radiation typified by far UV capable of meeting progress of scale down in an integrated circuit device, having high transparency to radiations and excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, pattern profile and line edge roughness of a pattern.例文帳に追加

集積回路素子における微細化の進行に対応しうる遠紫外線に代表される短波長の放射線に適応可能で、放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターンプロファイル、パターンのラインエッジラフネス等のレジストとしての基本物性に優れる。 - 特許庁

A CPU 160 of a printer 100 divides image data of a target window into blocks of 8×8 pixels, calculates a coefficient group representing a change in a pixel value in each block and selects from an edge pattern table 181 a basic edge pattern approximating a change shape of the coefficient group.例文帳に追加

プリンタ１００のＣＰＵ１６０は、注目ウィンドウの画像データを８画素×８画素のブロックに分割し、このブロックごとに、画素値の変化を表す係数群を算出し、その係数群の変化形状に近似する基本エッジパターンをエッジパターンテーブル１８１から選出する。 - 特許庁

A speech element/prosody control section 23 moves the approximate shape of a basic pitch pattern, that is produced by a prosody production section 22, along a frequency axis direction in parallel while holding the shape, searches speech elements for every synthesis unit to compute an evaluation value and obtains an overall evaluation value of the entire deformed pitch pattern.例文帳に追加

素片・韻律制御部２３は、韻律作成部２２で作成された基本のピッチパターンの概形を保持したまま周波数軸方向に平行移動させ、合成単位毎に音声素片をサーチして評価値を計算し、変形ピッチパターン全体の総評価値を求める。 - 特許庁

A basic pattern 8 being a light-transmitting region where a projection image by an exposure device is formed in the size corresponding to the resolution limit is combined with an auxiliary pattern 10 that shields part of the light-transmitting region against light and divides the residual light-transmitting region into a plurality of partial light-transmitting regions 16.例文帳に追加

露光装置による投影像が解像限界に応じた大きさに形成される透光領域である基本パターン８に、透光領域内の一部を遮光して残りの透光領域を複数の部分透光領域１６に分割する補助パターン１０を合成する。 - 特許庁