「chemical processing method」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a chemical solution recovering method and a board processing device, wherein the lifetime of a filter can be prolonged for removing a chemical solution to be repeatedly used for a board processing or a contaminant in the chemical solution.例文帳に追加

基板処理に繰り返し使用される薬液やその薬液中の異物を除去するためのフィルタの寿命を長期化できる薬液回収方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an exhaust gas processing method and a plasma processing method and apparatus, which can improve the processing capability of a chemical reaction generating means for processing an unreaction gas or by-product.例文帳に追加

未反応ガスや副生成物を処理する化学反応生起手段の処理能力を向上させることができる排気処理方法、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for recovering and reusing phosphate chemical processing liquid, in which the accumulation of unnecessary components in a chemical processing vessel is prevented and a concentrating process is smoothly performed.例文帳に追加

化成処理槽中の不要成分の蓄積を防ぎ、且つ濃縮工程を円滑に行うりん酸塩化成処理液の回収再利用方法方法を提供する。 - 特許庁

In the method, it is preferable that the glass substrate is almost vertically arranged in the chemical processing liquid, and an ascending flow is produced in the chemical processing liquid by bubbles.例文帳に追加

この方法において、ガラス基板を化学加工液中に略垂直配置し、気泡により化学加工液中に上昇液流を生じさせていることが好適である。 - 特許庁

To provide a wafer processing method that includes a wafer processing process of executing liquid chemical processing, heating treatment or processing accompanied by heat generation, and is capable of reliably processing a wafer without breakage or the like.例文帳に追加

薬液処理、加熱処理又は発熱を伴う処理を施すウエハ処理工程を有し、破損等することなく確実にウエハを処理できるウエハの処理方法を提供する。 - 特許庁

CHEMICAL ENGINEERING PROCESSING TOWER DEVICE WITH LIQUID REDISTRIBUTOR, AND MANUFACTURING METHOD OF LIQUID REDISTRIBUTOR FOR USE THEREIN例文帳に追加

液再分布器付化工処理塔装置及び当該装置に用いる液再分布器の製作方法 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a biochip capable of performing stably chemical patterning processing.例文帳に追加

安定して化学的なパターニング処理を行うことができるバイオチップの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical liquid processing apparatus capable of substantially carrying out both shower method and puddle method by switching over the method suitally.例文帳に追加

適宜切り替えることによりシャワー方式とパドル方式との両方を実質的に行なえる薬液処理装置を提供する。 - 特許庁

The method for processing the housing member of a mask blank, having a chemical amplification resist film, is carried out by eliminating from the member chemical substances which block the chemical amplification effect of the chemical amplification resist.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜を有するマスクブランクスを収納するための部材の処理方法であって、化学増幅型レジストの化学増幅効果を阻害する化学物質を上記部材から除去する処理を施す。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which can inhibit dripping of residual chemical around a tip section of a spray nozzle on a processing target film.例文帳に追加

スプレノズルの先端部付近に残留した薬液の被処理膜上への滴下を抑制できる基板処理装置及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

ACTIVE MATERIAL FOR NICKEL ELECTRODE OF ALKALINE BATTERY, ALKALINE BATTERY AND INITIAL CHEMICAL PROCESSING METHOD OF ALKALINE BATTERY例文帳に追加

アルカリ蓄電池用ニッケル電極活物質、アルカリ蓄電池およびアルカリ蓄電池の初期化成処理方法 - 特許庁

To provide a method for applying a stretch processing to a wool fiber product, by which the chemical stretch processing can be applied to the wool fiber product in a state not liable to cause the generation of a stink from the product without needing a large amount of a chemical agent.例文帳に追加

多量の化学薬品を必要とせず、製品から悪臭が発生するおそれもない化学的な羊毛繊維製品のストレッチ加工方法を提供する。 - 特許庁

The quality evaluating/process monitoring method of the chemical membrane evaluates the quality of the membrane from an appearance of a crystal of the chemical membrane, and monitors processing stages.例文帳に追加

化成皮膜の皮膜評価／工程監視方法としては、化成皮膜の結晶の外観から皮膜品質の良否を評価したり処理工程を監視する。 - 特許庁

This manufacturing method also includes a step (S5) of chemically processing the wafer in a desired chemical processing time and a step (S6) of measuring the final film thickness of the processed film after processing.例文帳に追加

また、ウエハを所望の薬液処理時間で薬液処理する工程（ステップＳ５）と、処理後における被処理膜の最終膜厚を測定する工程（ステップＳ６）を有する。 - 特許庁

To provide a liquid chemical recycling method capable of simply adjusting components in a liquid chemical required in a process of treating a silicon wafer surface in an used liquid chemical used in the process and obtaining a process performance equal to that of an unused liquid chemical even with the liquid chemical after recycle processing, and a device used in the method.例文帳に追加

シリコンウェーハ表面を処理するプロセスで使用した使用済み薬液において、前記プロセスに必要な薬液中の成分を簡易に調整し、リサイクル処理後の薬液でも未使用薬液と同等のプロセス性能を得ることが可能な薬液リサイクル方法および該方法に用いる装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method capable of preventing or reducing the attachment of a processing liquid including a chemical liquid or a rinse liquid on a surface of a processing liquid supply nozzle that supplies the processing liquid.例文帳に追加

薬液又はリンス液よりなる処理液を供給する処理液供給ノズルの表面への処理液の付着を防止或いは低減することができる液処理装置及び液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wood processing device and a wood processing method which adjust the depth of the wood to be immersed into a chemical for wood preservation, efficiently process the wood with the chemical for wood preservation, and further achieve the uniformization of the processing range of the chemical to the wood at a low cost.例文帳に追加

木材保存用の薬液に浸漬させる木材の深さを調整して該木材を木材保存用の薬液で効率的に処理する共に、前記木材への前記薬液の処理範囲の均一化を図る木材処理装置及び木材処理方法を低コストで提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing system and a substrate processing method capable of efficiently removing a chemical liquid for stripping and saving a manufacturing cost.例文帳に追加

ストリップ薬液を効率的に除去して、製造原価を節減することができる基板処理システム及び基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for processing a mist of a sterilization liquid in a plastic container which facilitates processing of the mist of a chemical agent used for sterilization.例文帳に追加

殺菌に用いる薬剤のミストの処理を容易としたプラスチック容器の殺菌液ミストの処理方法および装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method, with which contamination of a substrate can effectively be removed by efficiently using chemical and a use amount of chemical can be reduced.例文帳に追加

薬液を効率的に用いて基板の汚染を効果的に除去することができ、これにより薬液の使用量を少なくすることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processor and a substrate processing method, capable of preventing chemical from staying in a reception member for receiving chemical which disperses from a substrate.例文帳に追加

基板から飛散する薬液を受けるための受け部材における薬液の滞留を防止することができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate case suppressing occurrence of a crack and bending in a substrate, and to provide a processing method of a chemical processing on the substrate by using the case.例文帳に追加

基板に割れや反りが発生することを抑制できる基板ケース及びそれを用いて基板に薬液処理を施す処理方法を提供する。 - 特許庁

The method for manufacturing the shirt includes: processing a front body of the shirt 10 so as to hardly make stain by chemical water-repelling and oil-repelling finish.例文帳に追加

化学的な撥水および撥油加工で染みになりにくくなるように、シャツ１０の前身頃を加工する。 - 特許庁

HOMOGENEOUS SIMPLE ELEMENT COLOR-DEVELOPING CONCENTRATE, ITS PREPARATION, PHOTOGRAPHIC PROCESSING CHEMICAL KIT AND PHOTOGRAPHIC IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加

均質な単品要素発色現像濃縮物、その調製方法、写真処理薬剤キット及び写真画像生成方法 - 特許庁

To obtain a method for inexpensively manufacturing a chemical liquid for processing of a solar cell and containing alkali carbonate and water.例文帳に追加

炭酸アルカリと水から成る太陽電池加工用薬液の安価な製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A planarization process (d) by a chemical and mechanical polishing method or etch back method is introduced before the removal of the resist mask 4 used for processing tracks.例文帳に追加

トラック加工に用いたレジストマスク４の除去前に化学的機械研磨法あるいはエッチバック法による平坦化工程（ｄ）を導入する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for processing an abandoned chemical weapon artillery having a small size, high safety at a low cost capable of processing bombing by mistake of the chemical weapon artillery by a complete control and safely recovering a chemical agent filled in the artillery.例文帳に追加

化学兵器砲弾の誤爆を完全に制御して処理することができ、さらには砲弾内部に充填されている化学剤も安全に回収することができる小型で、安価でかつ安全性の高い遺棄兵器砲弾外壁の処理装置と処理方法を提供する。 - 特許庁

Basically, the method comprises a processing that a partial region of the semiconductor wafer 10 becomes a state where it goes within and without a face of chemical 16.例文帳に追加

基本的には、半導体ウェハ１０の一部領域が薬液１６面内外に出入りする状態となる処理を含む。 - 特許庁

CHEMICAL CONVERSION PROCESSING METHOD FOR FORMING TRIVALENT CHROMIUM CHEMICALLY-PROCESSED COATING FILM HAVING EXCELLENT HEAT CORROSION-RESISTANCE ON ZINC OR ZINC-ALLOY PLATING例文帳に追加

亜鉛又は亜鉛合金めっき上に加熱耐食性の良い３価クロム化成処理皮膜を形成するための化成処理方法 - 特許庁

To provide a processing method for a substrate that suppresses local damage to a region on a surface of the substrate to which a chemical are discharged.例文帳に追加

基板表面の薬液が吐出される領域への局所的なダメージを抑制する基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

The processing effects such as chemical composition analysis, chemical species concentration, depth profile, measurement and mapping of homogeneous characteristics, purity, and reactivity can be monitored by an optical spectroscopic method.例文帳に追加

例えば、化学的組成分析、化学種濃度、深さ輪郭、均質特性測定及びマッピング、純度、並びに反応性のような処理効果が、光学的分光分析法によって監視され得る。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which the installation space of a valve provided to each chemical supply source is reduced, and to provide a substrate processing method, a program, and a storage medium.例文帳に追加

各薬液供給源に設けられるバルブの設置スペースを小さくすることができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus, a substrate processing method, a program, and a storage medium which reduce installation spaces of valves provided in respective chemical-liquid supply sources.例文帳に追加

各薬液供給源に設けられるバルブの設置スペースを小さくすることができる基板処理装置、基板処理方法、プログラムおよび記憶媒体を提供する。 - 特許庁

To provide an electron beam processing method and an electron beam processing system in which deterioration in the k value of an insulating film and lowering of chemical resistance can be suppressed.例文帳に追加

絶縁膜のｋ値の悪化や耐薬品性の低下を抑制することができる電子ビーム処理方法及び電子ビーム処理装置を提案することを目的としている。 - 特許庁

To provide cleaning processing method and apparatus capable of suppressing the amount of consumption of a chemical agent by efficiently supplying the chemical agent to a surface of a substrate, and a cleaning processing method capable of reducing cleaning marks (watermarks) generated in the surface of the substrate.例文帳に追加

薬剤を効率的に基板表面に供給することでその消費量を抑制することができる洗浄処理方法および装置、ならびに基板の表面に発生する洗浄痕（ウォーターマーク）を低減することが可能な洗浄処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wafer having excellent surface properties by effectively suppressing the uneven reactivity that is problematic in surface processing by conventional diffusion controlling processes such as wet processing, in a wafer surface processing method involving chemical processing.例文帳に追加

化学処理を伴うウェーハ表面処理方法において、従来のウェット処理等、拡散律速型処理による表面処理で問題視されていた反応ムラを効果的に抑制し、表面性状に優れたウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and apparatus, which sufficiently processes a substrate surface while a usage of chemical is suppressed.例文帳に追加

薬液の使用量を抑えつつ基板表面を良好に処理することができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide device and method for treating a substrate, free from dry processing in an ambience polluted by chemical liquid contained in cleaning fluid, and preventing the substrate from being contaminated.例文帳に追加

洗浄液に含まれる薬液の汚染雰囲気中で乾燥処理を行うことがなく、基板が汚染されることを防止する。 - 特許庁

To provide a chemical processing method of a glass substrate capable of producing various glass substrates for FPD having high flatness with reduced thickness.例文帳に追加

板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition method for depositing a tungsten film on a substrate arranged in a substrate processing chamber while preventing fluorine contamination.例文帳に追加

基板処理チャンバに配置される基板上にフッ素汚染を防止しながらタングステン膜を堆積させるための化学気相成長法。 - 特許庁

In the processing system and method for chemical treatment of substrate, the system includes a chemical treatment chamber placed under temperature control, and a substrate holder for supporting the substrate placed under the temperature control independent of chemical treatment.例文帳に追加

化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。 - 特許庁

In a processing system and a method for chemical treatment of a substrate, the system comprises: a chemical treatment chamber placed under temperature control; and a substrate holder for supporting the substrate placed under the temperature control independent of the chemical treatment.例文帳に追加

化学的に基板を処理するための処理システムおよび方法であって、この処理システムは、温度制御される化学的処理チャンバと、化学的処理に対して独立して温度を制御される、基板を支持するための基板ホルダとを備えている。 - 特許庁

To suppress concentration fluctuation of chemical immediately after an injection valve is opened and to stabilize a surface processing in a device and a method for opening the injection valve, injecting chemical to high pressure fluid, obtaining processing fluid and performing the prescribed surface processing on a surface of a workpiece by using processing fluid.例文帳に追加

注入バルブを開いて高圧流体に薬液を注入して処理流体を得るとともに、該処理流体を用いて被処理体の表面に対して所定の表面処理を施す装置および方法において、注入バルブを開いた直後での薬液の濃度変動を抑えて表面処理の安定化を図る。 - 特許庁

To provide a wafer processing tank made of quartz glass that is easily manufactured even when a large-sized type applicable to a large-diameter, and has a structure which withstands water pressure of a chemical solution reservoired in the processing tank, reduces the amount of the chemical solution, and supplies the chemical solution to a large-area wafer surface, and to provide a method of manufacturing the wafer processing tank.例文帳に追加

大口径のウエハーに対応可能な大型の処理槽であっても製作が容易であり、処理槽内に蓄えられる処理薬液による水圧にも耐え、薬液の量を削減できかつ効率よく薬液を大面積のウエハー表面に流れるような構造を有する石英ガラス製ウエハー処理槽及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

In the rustproof-processing method of a heat exchanger, the heat exchanger which is flux-brazed by the Nocolock (R) brazing method is subjected to surface treatment with lithium treatment liquid of ≥pH7 containing lithium, subjected to cerium chemical conversion treatment with solution of cerium chemical conversion treatment of pH1.5-3 containing cerium, and thereafter, subjected to zirconium chemical conversion with solution of zirconium chemical conversion treatment of pH3-5 containing zirconium.例文帳に追加

ノコロックろう付け法によりフラックスろう付けした熱交換器を、リチウムを含有するｐＨ７以上のリチウム処理液で表面処理した後、セリウムを含有するｐＨ１．５〜３のセリウム化成処理液でセリウム化成処理し、その後、ジルコニウムを含有するｐＨ３〜５のジルコニウム化成処理液でジルコニウム化成処理する熱交換器の防錆処理方法である。 - 特許庁