「chemical processing method」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method of measuring the lifetime of a silicon wafer by a microwave light electric conductive vibration decay method, the electric charge charged on the silicon wafer surface is maintained in the fixed state by performing chemical passivation processing so as to control surface recombination.例文帳に追加

シリコンウェーハをマイクロ波光導電減衰法によりライフタイムを測定する方法において、表面再結合を抑制するためにケミカルパシベーション処理し、シリコンウェーハ表面に帯電した電荷を一定状態に維持する。 - 特許庁

To provide an electrolytically phosphating chemical-conversion treatment method which can miniaturize the facility, can control the reaction, and can place the apparatus so as to be incorporated in a workpiece processing line and combined with other mechanical facilities, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

設備の小型化・反応の制御を可能とし、部品加工ラインの中に組み込み、他の機械設備と連結して設置し得る電解リン酸塩化成処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method capable of executing high-performance LSI processing by suppressing dishing with a less usage quantity of polishing slurry in a chemical mechanical polishing of a film to be processed of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の被加工膜等の化学機械研磨において、低い研磨液の使用量でかつディッシングを抑制し、高性能のＬＳＩ加工を行う事ができる研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for processing a housing member of mask blank, suitable for a mask blank having a chemical amplification resist mask and keeping stable resist performance for forming a desired mask pattern.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜を形成したマスクブランクスに好適で、所望のマスクパターンを形成するための安定したレジスト性能を維持できるマスクブランクス収納用部材の処理方法等を提供する。 - 特許庁

To provide a separating method of a sample component enabling a component to be easily separated, as a pre-analysis processing performed for discrimination or chemical structural analysis of compositions contained in a mixture.例文帳に追加

混合物に含まれる組成の判別や化学構造解析のために行われる分析前処理として、構成成分を簡便に分離することのできる、試料成分の分離方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing method and processing equipment thereof, in which even if any hydrophobic surface comes out on a surface of a processed substrate by supplying a few volume of chemical on the processed substrate, it is possible to form a liquid film without generating any droplet causing a particle.例文帳に追加

少量で薬液を被処理基板上に供給して、被処理基板表面に疎水面が出て来ても、パーティクルの原因となる液滴にならずに液膜を形成させることのできる基板処理方法及びその装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a piezoelectric element that realizes a stable ramen mode vibration by processing an LQ2T-cut crystal substrate having a crystal azimuth, which have had difficulty of processing such as punching by a chemical etching method, to have a prescribed shape with high accuracy in a short time and to provide a manufacturing method for the piezoelectric element.例文帳に追加

化学的エッチング方法では打ち抜き等の加工が困難とされていた水晶の結晶方位を有するＬＱ２Ｔカット水晶基板に対して、短時間に精度よく所定形状に加工することにより、安定したラーメモード振動を実現する圧電素子及びこの圧電素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode foil for an electrolytic capacitor includes an etching step with an aluminum foil, an immersion step in which the aluminum foil is immerged in a processing liquid at least once, a thermal treatment step, and a chemical formation step.例文帳に追加

電解コンデンサ用電極箔を製造するにあたっては、アルミニウム箔に対するエッチング工程、アルミニウム箔を処理液に１回以上浸漬する浸漬工程と、熱処理工程、および化成工程を行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a transparent conductive base for a touch panel laminating a crystalline transparent conductive film excellent in pen sliding resistance, chemical resistance, and moisture and heating resistance, without performing an annealing processing after forming the film.例文帳に追加

成膜後のアニーリング処理を行う事無く、耐ペン摺動性、耐薬品性、耐湿熱性に優れた結晶質の透明導電膜を積層させたタッチパネル用透明導電性基材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of preparing a lithographic printing plate by processing with an aqueous solution having a buffer function in which the lithographic printing plate exhibits good stain resistance, maintains the good stain resistance even when preserved for a long period of time, and is excellent in printing durability and chemical resistance.例文帳に追加

緩衝能を有する水溶液による処理によって、耐汚れ性が良好で、長期保存しても耐汚れ性が低下せず、耐刷性、耐薬品性に優れた平版印刷版の作製方法を提供すること。 - 特許庁

To obtain a method for chemical-polishing a metal mask by laser processing which can suppress deviation of the amount of polishing due to the size of an opening part and can obtain an uniform amount of polishing compared to electrolytic polishing for a component having a complicated shape or a minute structure.例文帳に追加

電解研磨と比べて、複雑な形状や微小な部品、は開口部の大小による研磨量の偏りがなく、均一した研磨量が得られるレーザ加工によるメタルマスクの化学研磨方法を得る。 - 特許庁

To provide an effective method of obtaining a surface of high quality by removing a layer deteriorated by processing from the surface of a silicon carbide single crystal wafer which has been rough-lapped for chemical stability, and then finish polishing.例文帳に追加

本発明は、荒研磨(ラップ)した化学的に安定な炭化珪素単結晶ウェハ表面から加工変質層を除去して仕上げ研磨(ポリッシュ)することで、高品質な表面を得る効果的な方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electroless plating method in which a plurality of sheet substrates are stored in a rack, each rack is immersed in liquid chemical for processing, and any irregular plating caused by insufficient liquid draining is not generated.例文帳に追加

ラックに複数枚の枚葉基板を収容し、ラック毎に薬液に浸漬して処理する無電解めっき方法において、液切り不足によるめっきムラを発生させない無電解めっき処理方法を提供する。 - 特許庁

To improve heat resistance, chemical resistance, water repellency, low friction resistance, and dust peelability without damaging a filtration performance, regarding a filter surface processing method using finer nanofibers for fibers of cut fibers.例文帳に追加

本発明はカットファイバーの繊維をより細かいナノファイバーを使用したフィルタ表面加工方法に関し、過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method to effectively perform decellular processing from collected living tissue without using chemical substances with cell toxicity, a decellular living tissue scaffold, and a living tissue regeneration material prepared using the obtained decellular tissue scaffold as a carrier.例文帳に追加

細胞毒性のある化学物質を使用することなく、採取した生体組織からより効果的に脱細胞化処理する方法を提供し、脱細胞化された脱細胞化生体組織スキャホールドを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a metallic material for a plastic working, which is capable of forming a lubrication film of a metallic soap on the metallic material by a chemical reaction on the metallic material, without performing a phosphate processing.例文帳に追加

リン酸塩処理を行なわず、金属材料上での化学反応によって金属石鹸の潤滑皮膜を金属材料上に形成することが可能な、塑性加工用金属材料の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for semiconductor device and a semiconductor manufacturing apparatus, with which costs are reduced by stable chemical reaction and polishing and the reduction of processing time and man-hours and cost are reduced by simplifying control.例文帳に追加

安定した化学反応と研磨加工、及び、処理時間、工数の削減による低コスト化、制御の簡易化による低コスト化を図る半導体装置の製造方法及び半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

The method is for improving physical and chemical characteristics of one or more of ^18F-fluoro-deoxy-glucose (^18F-FDG) solutions such as reduction of radiolysis and an autoclave processing capability.例文帳に追加

本発明は、放射線分解の低減やオートクレーブ処理能力など、^１８Ｆ−フルオロ−デオキシ−グルコース（^１８Ｆ−ＦＤＧ）−溶液の１またはそれ以上の物理的／化学的特徴を改良する方法に関する。 - 特許庁

To provide a method of setting combination of prohibition against supply, capable of preventing accidental mixing between chemical liquids causing danger of accidental mixing and saving time and effort for selection therefor, and to provide a computer program and a substrate processing apparatus.例文帳に追加

混触に危険を伴う組合せとなる薬液の混触を防止することができ、かつ、そのための設定作業に手間を要しない、供給禁止組合せ設定方法、コンピュータプログラムおよび基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of eliminating the problem of environmental pollution caused by disposal of dump liquid which is electrolyte liquid containing free sulfuric acid exhausted after chemical treatment at manufacturing process of a lead-acid storage battery, by re-using the dump liquid as electrolyte liquid for chemical reaction or by processing it so as to be used as an electrolyte liquid for manufacturing a battery.例文帳に追加

鉛蓄電池の製造過程で、化成処理後排出せしめた遊離硫酸電解液、即ち、ダンプ液を廃棄することなく、これを、化成用電解液として再利用したり、電池製造用電解液として使用できるよう処理し、ダンプ液の廃棄による環境汚染問題を解消する処理法を提供する。 - 特許庁

To provide catalyst-aided chemical processing method and apparatus which can process hard-to-process materials, especially, SiC, GaN, etc. whose importance as electronic device materials is increasing these days, with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens μm.例文帳に追加

難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数１０μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工することが可能な触媒支援型化学加工方法及び加工装置を提供する。 - 特許庁

A biochemical and/or a biological-mechanical processing method of old waste and remaining trash in which processing of the trash and the old waste as they are independently of their depth is promoted, managed, controlled and monitored in association with their chemical and biochemical characteristics is provided.例文帳に追加

ごみ及び古い廃棄物の深さはないそのままでの処理を、その化学的及び生化学的特性に関連して、促進し、管理し、制御し、監視することによる、古い廃棄物および残ったごみに対する生化学的および／または生物学的‐機械的処理方法。 - 特許庁

To provide a method of matting surface coating compositions while also improving moisture and chemical resistance of the compositions; to provide a method of processing a substrate by using the surface coating compositions; and to provide the substrate coated with such a surface coating compositions.例文帳に追加

本発明は表面被覆用組成物をつや消しし、そしてその組成物の耐湿および耐化学性を高める方法、ならびにその表面被覆用組成物で基体を処理する方法、およびそのような表面被覆用組成物で被覆した基体を提供する。 - 特許庁

In the chemical vapor deposition method, a dielectric material is formed in a trench formed on a substrate, where the method includes a step of generating water vapor by bringing hydrogen gas and oxygen gas into contact with a water vapor generation catalyst, and providing the water vapor to a processing chamber.例文帳に追加

基板上に形成されたトレンチ内に誘電体材料を形成する化学気相堆積法であって、水素ガス及び酸素ガスを水蒸気生成触媒と接触させることにより水蒸気を生成して、水蒸気を処理チャンバに提供するステップを含む。 - 特許庁

In a laser processing method irradiating with laser beam a processed word in which chemical composition of at least adjacent two layers are different and a portion provided for a plurality of hole processing of a surface layer is removed, reflecting light from the processed work is detected regarding first irradiated laser beam, and that laser processing is stopped when detecting value deviated from a required value.例文帳に追加

少なくとも隣接する２層の化学組成が異なり、表層の複数の穴加工を行う部分を除去した被加工物へレーザ光を照射するレーザ加工方法であって、初めに照射されたレーザ光について被加工物からの反射光を検出し、所望の検出値から外れる場合にレーザ加工を中止するレーザ加工方法を行う。 - 特許庁

To solve problems of not meeting future requirements of edge shape and nano-topography and not suited for processing of a wafer of 450 mm in substrate diameter of a double-sided polishing method known in this technical field and performed before a finish CMP (Chemical Mechanical Polishing) polishing.例文帳に追加

当該技術分野で公知の仕上げのＣＭＰ研磨の前の両面研磨法は、エッジ形状およびナノトポグラフィーの将来的な要求を満たさず、且つ基板直径４５０ｍｍを有するウェハの加工に適していない。 - 特許庁

This method for producing the rice cracker comprises including in rice cracker modified starch obtained by using together for tapioca starch a chemical processing treatment by crosslinking and a treatment of sodium hypochlorite with effective chlorinity of 300-1,000 ppm.例文帳に追加

米菓の製造に際し、タピオカ澱粉に架橋による化工処理と３００〜１０００ｐｐｍの有効塩素量の次亜塩素酸ソーダ処理とを併用処理することにより得られた化工澱粉を米菓に含有させる方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a floor material having a cork layer as an upper layer and the composite floor material obtained thereby and to form a protective film on the surface of the cork layer at the time of molding processing to enhance the chemical resistance and gloss of the cork layer at the same time.例文帳に追加

上層の表面にコルク層を有する床材の製造方法とそれによって得られる複合床材であって、成形加工時、コルク層の表面に保護膜を形成して耐薬品性と光沢とを同時に向上させる。 - 特許庁

To provide a method and device for eliminating the conventional drawback of a chemical vapor deposition that a vaporized metal film is deposited on an insulating member in a processing chamber to degrade insulation to reduce instability of the plasma.例文帳に追加

化学蒸着において、処理室内部の絶縁部材に蒸着金属のフィルムが蒸着して絶縁性を悪化し、プラズマのあって性を低下させるという従来の欠点を解消する方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing deinked pulp of printed wastepaper, which has a cleaning process in a post-processing of an ink-release process, significantly reduces the used amount of an alkaline chemical and has slight unreleased ink.例文帳に追加

インキ剥離工程の後工程に洗浄工程を有する、印刷古紙の脱インキパルプの製造方法において、アルカリ性薬品の使用量を大幅に削減した上で、未剥離インキの少ない脱インキパルプ製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method capable of preventing the occurrence of downtime in replacing chemicals in a reservoir tank, and maintaining the temperature of a chemical to be supplied to a substrate at a constant exact time.例文帳に追加

貯留槽内の薬液の交換時におけるダウンタイムの発生が防止され、かつ基板に供給される薬液の温度を正確に一定に保つことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

DATA PROCESSING METHOD AND DEVICE FOR CALCULATING CHEMICAL SUBSTANCE DISCHARGING QUANTITY OR THE LIKE AND COMPUTER READABLE RECORDING MEDIUM WITH ITS PROGRAM RECORDED例文帳に追加

化学物質排出量等算出計算のためのデータ処理方法、化学物質排出量等算出計算するプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体、および化学物質排出量等の算出計算処理装置 - 特許庁

To provide a deposition method for a silicon oxide film by a chemical vapor deposition (CVD) method, which can form a silicon oxide containing fewer OH groups without performing extra modification process such as thermal treatment or chlorine processing after the deposition of the silicon oxide film.例文帳に追加

ＣＶＤ法によるシリコン酸化膜の成膜方法であって、シリコン酸化膜成膜後に熱処理または塩素処理などの別の改質工程を行わずとも、ＯＨ基の含有量が抑えられたシリコン酸化膜を成膜することができるシリコン酸化膜の成膜方法を提供する。 - 特許庁

The surface of a tubular member main body 1 is covered with plural tape-like protecting films 5 such as photosensitive films or masking tapes, and the tubular member main body outer surfaces exposed from windows between the protecting films 5 are polished by a chemical polishing method, a shot blast processing method or the like.例文帳に追加

管状部材本体１の表面にテ−プ状の複数本の感光性フィルム、マスキングテープ等の保護膜５が被着され、保護膜５間の窓部６から露出した管状部材本体１の外側表面を化学研摩方法やショットブラスト加工等で研摩される。 - 特許庁

The method of processing the unused agricultural chemical is characterized in that a solvent is added to the solid-state unused agricultural chemical including a halogen compound to extract an organic halogen compound into the solvent to separate from a solid body, and in that the organic halogen compound extracted in the solvent is decomposed by an alkali metal for dehalogenation.例文帳に追加

使用残農薬の処理方法の発明であって、ハロゲン化合物を含む固形状の使用残農薬に溶媒を添加して溶媒中に農薬中の有機ハロゲン化合物を抽出して固形分から分離し、溶媒中に抽出された有機ハロゲン化合物をアルカリ金属によって分解し脱ハロゲン化処理することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit board using the laminate of the metal layer and the polyimide film has a process for cleaning and removing, after a treatment with a chemical etching agent, an altered layer generated by the chemical etching agent and performing treatment with an acid aqueous solution when the polyimide film is subjected to an etching processing.例文帳に追加

金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 - 特許庁

This is a processing method to make stable solidified state, namely to detoxicate, by decompose and separate hazardous compounds (heavy- metal, metalloid and halogenated compounds) with chemical reactions by means of a chemical solvent (diazonium salt), followed by recombination (recrystallization) using a solvent (graphite for instance) or the like, which causes no decomposition nor fission by UV light or visible light.例文帳に追加

化学溶剤（ジアゾニウム塩）を用いて，有害化合物（重金属化合物，半金属化合物，ハロゲン化物）を化学反応により分解，分離し，次に溶剤等（例えばグラファイト等）によって，再結合化（再結晶化）を計り．安定固化状態にする処理法，即ち，無害処理化する処理法で，紫外線，可視光線による分解，分裂が起こらない処理法ある。 - 特許庁

To provide a development processing method of photosensitive planographic printing plate that improves development unevenness of a photosensitive planographic printing plate provided with a hydrophilic layer on a plastic film support, improves development unevenness even when a photosensitive layer capable of chemical-less processing is especially provided on the hydrophilic layer and achieves an excellent plate life.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に親水性層を設けた感光性平版印刷版の現像ムラを改善し、特に該親水性層上にケミカルレス処理が可能な感光層を設けた場合においても、現像ムラが改善され、且つ優れた耐刷性が得られる感光性平版印刷版の現像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method for a lithographic printing plate having a hydrophilic layer and an image forming layer formed on a plastic film substrate, by which a non-image part is easily removed by use of a chemical-less processing liquid to which an alkaline agent is not added, and printing contamination caused by insufficient removal is eliminated.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に親水性層、画像形成層が設けられた平版印刷版の処理方法において、アルカリ剤の添加されていないケミカルレス処理液による非画像部の除去が容易で、除去が不十分な事による印刷汚れが発生しない平版印刷版の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tempered glass which has, when manufacturing a glass plate, the surface strengthened to such an extent that the processing efficiency after glass formation is not affected and the glass surface before chemical strengthening is not easily scratched, and to provide a method for manufacturing the tempered glass.例文帳に追加

ガラス板の製造の際に、ガラス成形後の加工処理の効率に悪影響を与えず、化学強化する前のガラス表面に傷が付き難い程度にガラス表面が強化された強化ガラスと、この強化ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer wiring substrate and its manufacturing method, and a laser drill device for removing dross generated in a hole opening end for via hole formation by means of laser drill processing, without having to use special processes such as physical polishing and chemical polishing.例文帳に追加

ビアホール形成用の孔開口端に発生するドロスの除去を物理研磨や化学研磨等の専用工程を用いることなくレーザードリル加工で行う多層配線基板及びその製造方法、並びにレーザードリル装置を提供する。 - 特許庁

The processing method for the inner layer circuit board used for the multilayer printed board includes a process of roughing by blast the surface of a copper circuit formed on the inner layer circuit board, and consecutively roughing by immersion the surface of a copper circuit using a chemical roughing solution.例文帳に追加

多層プリント配線板に用いられる内層回路基板の処理方法において、内層回路基板に形成された銅回路表面をブラスト粗化、続いて化学粗化液により浸漬粗化する工程を有する内層回路基板の処理方法。 - 特許庁

To provide a processing method of aquatic organisms capable of efficiently preventing the generation of putrefaction odor of aquatic organisms, requiring no addition of a separate coagulant by functioning a putrefaction odor preventing chemical as a coagulant in coagulation treatment of latter stage and realizing reduction of the cost for a putrefaction odor prevention countermeasure and the processing cost and simplification of the processing, and an apparatus.例文帳に追加

効率よく水生生物の腐敗臭の発生を防止するとともに、腐敗臭防止薬剤を後段の凝集処理において凝集剤としても機能させることができるようにして別途凝集剤を添加することを不要化し、腐敗臭防止対策と処理費用の低減、処理の簡素化をともに達成可能な水生生物の処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a pre-processing method for an abrasive pad, which reduces a time until a prescribed polishing speed is obtained and stabilized when a new pad is mounted, that is a time required for break-in process, resulting in the increased operating rate of a chemical-mechanical polishing device.例文帳に追加

新しい研磨パッドを装着した時の所定研磨速度に達して安定化するまでの時間、すなわちブレークイン処理に要する時間を短縮し、化学機械研磨装置の稼動率を向上させることができる研磨パッドの前処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a filter like a bag filter of a dust collector requiring heat resistance and a filter surface processing method capable of enhancing chemical resistance, water repelling property, low friction resistance or dust detaching property.例文帳に追加

本発明は集塵機のバグフルタのような耐熱性を必要とされるフィルタ及びフィルタ表面加工方法に関し、濾過性能を損なわずに耐熱性、耐薬品性、撥水性、低摩擦抵抗、ダスト剥離性を向上することができるようにすることを目的とする。 - 特許庁