「chemical processing method」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a processing method of a substrate which inhibits a damage caused by a local electrification to a region where a chemical solution is discharged on a substrate surface.例文帳に追加

基板表面の薬液が吐出される領域への局所的な帯電によるダメージを抑制する基板の処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate improved to structuralize the substrate without using a wet or dry chemical etching process.例文帳に追加

ウエット又はドライケミカルエッチングプロセスを用いることなくサブストレートを構造化することに対して、改善されたサブストレートの処理方法を提案する。 - 特許庁

Embodiments described herein generally provide a method for processing metals disposed on a substrate in a chemical mechanical polishing system.例文帳に追加

本発明の実施形態は、一般的に、化学機械研磨システムにおいて基板上に配設された金属を処理するための方法を提供する。 - 特許庁

The system and method comprise recovering germanium from MCVD processing wastes by carrying out a chemical conversion from a solid cake product.例文帳に追加

固体ケーキ生成物から化学的転化を行うことにより、ＭＣＶＤ加工廃棄物からゲルマニウムを回収する新規なシステム及び方法。 - 特許庁

To provide an improved system and method for processing a negative photographic film which avoids the conventional problems that a processing time is long, that chemical throughput is high and that energy efficiency is bad, and accomplishes processing which is approximate to real time, is efficient chemical processing or has high energy efficiency.例文帳に追加

本発明は、処理時間が長く、化学的な処理量が多く、エネルギー効率が悪い従来の問題を回避する、リアルタイムに近似であるか、無駄のない化学的処理であるか、又は高エネルギー効率である処理を達成することを特徴とする、改良されたネガ写真フィルムの処理システム及びその方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an etching processing apparatus and an etching method for suppressing an increase in moisture concentration in an etching liquid when replenishing a constituent liquid chemical to the etching liquid including at least one constituent liquid chemical and water.例文帳に追加

少なくとも一の成分薬液と水とを含むエッチング液に一の成分薬液を補給する際の、エッチング液中の水分濃度の上昇を抑制できるエッチング処理装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processor and a substrate processing method with which the number of units can be reduced and waste of chemical can be prevented.例文帳に追加

機器点数を減らすことができるとともに薬液の無駄を防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for processing a substrate which realizes the formation of a desired resist pattern by suppressing the reaction of a chemical amplification type resist film and a conductive film.例文帳に追加

化学増幅型レジスト膜と導電性膜との反応を抑制して、所望のレジストパターンの形成を実現する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a glass substrate for an information recording medium, that reduces variation in thickness of a chemically strengthened layer in every substrate following chemical strengthening processing.例文帳に追加

化学強化処理後の基板毎の化学強化層の厚みのばらつきを低減できる、情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reproduction processing method of a dust collection filter and a filter reproduction system which does not require post-processing of chemicals and exhaust gas processing after thermal decomposition, and is applicable for a filter material without chemical corrosion resistance wherein running cost is low.例文帳に追加

薬品の後処理や熱分解後の排気ガス処理が不要であり、薬品耐食性がないフィルタ材質にも適用可能で、ランニングコストが低い、集塵フィルタの再生処理方法及びフィルタ再生システムを提供する。 - 特許庁

The molded article 17 of the chemical heat storage material is produced by a method for producing the molded article 17 of the chemical heat storage material comprising a preparation step for preparing a mixed material by mixing the particles 15 of the chemical heat storage material with the resin and a heat processing step for forming the porous material 14 of the resin by heating the mixed material.例文帳に追加

化学蓄熱材粒子１５と樹脂とを混合して混合材料を調製する調製工程と、前記混合材料を加熱して前記樹脂の多孔質体１４を形成する熱処理工程と、を有する化学蓄熱材成形体１７の製造方法により製造される。 - 特許庁

To provide a substrate wet processing apparatus that prevents contamination of chemicals, avoids risk of fire, and comprises a heating part within a chemical bath, and a method of heating chemicals for substrate processing using the apparatus.例文帳に追加

ケミカルの汚染を防止すると同時に、火災の危険のない、薬液槽内に加熱部を備える基板湿式処理装置及び該装置を使用した基板処理用ケミカルの加熱方法を提供する。 - 特許庁

To provide a temporary fixing material capable of fixing a substrate temporarily onto a support at a low temperature and having resistance to a chemical, and to provide a processing method of a substrate using the temporary fixing material, and an electronic component obtained by the processing method.例文帳に追加

低温で基材を支持体上に仮固定でき、かつ薬液に対する耐性を有する仮固定材、前記仮固定材を用いた基材の処理方法、および前記処理方法によって得られる電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device by which toxic chemical substance or a waste material containing the chemical substances or contaminated with the chemical substances can be decomposed into nontoxic substance under milder conditions than those of conventional processing techniques without discharging any harmful compounds into the environment during processing.例文帳に追加

毒性を有する化学物質、この化学物質を含むか又はこの化学物質により汚染された廃棄物を、従来の処理技術よりももっと穏やかな条件の下で、しかも処理の過程で有害な化合物を一切環境中に排出することなしに、無毒な物質にまで分解することのできる方法、及び装置の提供すること。 - 特許庁

In the liquid processing method, the chemical and rinse liquid are supplied to a workpiece and processing is performed through the multiple valve 10 provided with a chemical supply valve 11a, a rinse liquid supply valve 12a and a discharge valve 11b and a washing liquid supply pipe 5 for guiding the chemical C and the rinse liquid R through the multiple valve 10 to the workpiece W.例文帳に追加

液処理方法は、薬液供給バルブ１１ａと、リンス液供給バルブ１２ａと、排出バルブ１１ｂを有する多連バルブ１０と、多連バルブ１０を経た薬液Ｃおよびリンス液Ｒを被処理体Ｗに向かって案内する洗浄液供給管５を介して、被処理体に薬液およびリンス液を供給して処理する。 - 特許庁

The processing method for a chemical-less negative lithographic printing plate is characterized in that a chemical-less negative lithographic printing plate including a hydrophilic layer, an image forming layer containing a photosensitive polymer, and an over layer, at least in this order on a plastic film substrate is subjected to a developing process with a chemical-less processing liquid in the presence of a chelating agent.例文帳に追加

プラスチックフィルム支持体上に、親水性層と、感光性ポリマーを含有する画像形成層、更にオーバー層を少なくともこの順に有するケミカルレスネガ型平版印刷版の処理方法において、ケミカルレス処理液による現像処理をキレート剤の存在下で行うことを特徴とするケミカルレス平版印刷版の処理方法。 - 特許庁

The method for producing a cover glass for a display device includes a shape processing step (S1) of processing a blank of glass for a display device into a glass plate of a given shape, a washing step (S2) of washing the glass plate, and a chemical strengthening step (S3) of subjecting the washed glass plate to chemical strengthening.例文帳に追加

ディスプレイ装置用カバーガラスの製造方法は、ディスプレイ装置用ガラスの素板から所定の形状のガラス板に加工する形状加工工程（Ｓ１）と、ガラス板を洗浄する洗浄工程（Ｓ２）と、洗浄したガラス板に化学強化を行なう化学強化工程（Ｓ３）と、を備える。 - 特許庁

To obtain a single wafer cleaning apparatus and cleaning method in which the cost of chemical and the quantity of waste liquid are reduced while improving environmental issues by realizing in-plane uniformity of substrate processing process and shortening of processing time using a minimum necessary quantity of chemical.例文帳に追加

本発明は、基板加工プロセスの面内均一化および処理時間短縮化を必要最小限の薬液使用量で実現して薬液コスト・廃液量の低減化および環境問題の改善を図る枚葉式洗浄装置および枚葉式洗浄方法を得る。 - 特許庁

To provide a catalytic chemical processing method and apparatus using magnetic fine particles capable of processing a difficult-to-process workpiece, especially SiC, GaN, etc. with high processing efficiency and with high precision based on a processing principle utilizing a catalytic action enabling the chemical reaction introducing no lattice defect into the surface of the workpiece, and capable of obtaining a crystallographically excellent processed surface.例文帳に追加

本発明は、被加工物表面に格子欠陥が導入されない化学的な反応が可能な触媒作用を利用した加工原理に基づき、難加工物、特にＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ高精度に加工することができ、結晶学的に優れた加工面が得られる磁性微粒子を用いた触媒化学加工方法及び装置を提案する。 - 特許庁

To provide a chemical processing method of glass substrates capable of obtaining various glass substrates for FPD having high planarity while reducing the thickness.例文帳に追加

板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁

To provide a chemical processing method for a glass substrate which is capable of yielding the glass substrate for various kinds of FPDs having high flatness while reducing the thickness of a sheet.例文帳に追加

板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁

To provide physical and/or chemical pretreatment method for vegetable prior to processing, including no complicated process that increase the total expense associated with vegetable production.例文帳に追加

野菜生産に関する総費用を上昇させる複雑な工程を含まない、加工前の野菜の物理的および／または化学的前処理法を提供すること。 - 特許庁

To provide a transport method of a transport object substance including a hydrate forming chemical and water easy in handling in a use site or a processing site.例文帳に追加

利用サイトあるいは加工サイトでの取扱いを容易とする水和物生成薬剤と水とを含む被輸送物質の輸送方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which the inside of a substrate surface of a circular disk is uniformly washed in a washing treatment by mixing and discharging a compressed gas and a treating chemical.例文帳に追加

円形基板を加圧された気体と処理薬液を混合し吐出させて洗浄処理において、基板面内を均一に洗浄する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical processing method for a glass substrate capable of obtaining a glass substrate for various kinds of FPDs (Flat Panel Displays) having high flatness as the substrate is made thin.例文帳に追加

板厚を薄くしつつ平坦性の高い各種ＦＰＤ用ガラス基板を得ることができるガラス基板の化学加工方法を提供することを主たる目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for modified starch which can acquire sufficient bleaching effect without changing characteristics of starch in modified starch to which chemical processing has been given.例文帳に追加

化学的加工処理が施された加工澱粉において、澱粉の性質を変化させずに十分な漂白効果を得ることが可能な加工澱粉の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for producing a high-strength cold-rolled steel sheet which has excellent chemical-processing property and corrosion-resistance after electrostatic-deposition coating even in the case of a comparatively high content of Si.例文帳に追加

Ｓｉ含有量が比較的多い場合でも優れた化成処理性及び電着塗装後の耐食性を有する高強度冷延鋼板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method implemented by computer for processing transactions regarding chemical products includes the reception of transaction data including product identifiers from clients by a server.例文帳に追加

化学製品に関するトランザクションを処理するためのコンピュータによって実施される方法は、サーバがクライアントから製品識別子を含むトランザクションデータを受け取ることが含まれる。 - 特許庁

To provide a method for forming a non-chromium black chemical film having excellent corrosion resistance and uniform appearance of a metallic member formed of zinc or a zinc alloy with a single processing solution.例文帳に追加

亜鉛や亜鉛合金の金属部材に耐食性に優れた均一な外観を有するノンクロム黒色化成皮膜を単一処理液で形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing an adamanthyl (meth)acrylates useful as a raw material for high functional polymers such as LED sealants and chemical amplification type photoresist resins for fine processing.例文帳に追加

微細加工用の化学増幅型フォトレジスト樹脂やＬＥＤ封止剤などの高機能性ポリマー原料として有用なアダマンチル（メタ）アクリレート類の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a pellet of high quality without any chip or stress by an economical method at the time of dividing a semiconductor wafer by chemical etching processing.例文帳に追加

化学的エッチング処理によって半導体ウェーハを分割する場合において、欠けやストレスのない高品質なペレットを経済的な方法にて形成することを可能にする。 - 特許庁

The microfabrication processing method is characterized by storing and using the microfabrication processing agent of aqueous solution containing at least one kind of hydrofluoric acid or ammonium fluoride in a range of a chemical temperature of 5 to 15°C for a predetermined period, and by carrying out a microfabrication of a workpiece in the range of the chemical temperature in case of using the microfabrication processing agent.例文帳に追加

微細加工処理方法は、フッ化水素酸、又はフッ化アンモニウムの少なくとも何れか一種を含む水溶液の微細加工処理剤を薬液温度５〜１５℃の範囲で所定期間保管しつつ使用し、かつ、前記微細加工処理剤の使用の際には、前記薬液温度の範囲内で被加工物を微細加工することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a system and a method for processing a substrate in which the quality of the substrate can be enhanced, processing cost can be reduced by enhancing recycling rate of chemical, and the facility can be simplified.例文帳に追加

基板の品質を向上することができるとともに、薬液の再生率の向上による処理コストの低減化を図りかつ設備の簡略化を図ることができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a lining processing method of a printed wiring board wherein neglect property until lamination and adhesive property of resin and a copper foil are improved without depending on resin grade, and harrowing phenomenon is not generated, and to provode a lining substrate formed by the lining processing method, and chemical coarsening liquid used for the lining processing.例文帳に追加

積層までの放置特性、および樹脂と銅箔との接着性を樹脂グレードによらず優れたものとし、かつハローイング現象を発生させることのないプリント配線板の内層処理法、該内層処理方法により作製された内層回路基板、および該内層処理に用いる化学粗化液を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a nanotube, capable of selectively processing the tip part of the nanotube into a fixed shape by an extremely simple method without using a chemical wet process, especially processing the tip part of the nanotube into a shape useful as an electronic element such as a field-effect electron gun, etc.例文帳に追加

化学的なウェットプロセスを用いることなく、極めて簡便な方法によりナノチューブの先端部を選択的に所定の形状に加工することができ、特に、ナノチューブの先端部を電界効果型電子銃等の電子素子として有用な形状に加工することができるナノチューブの加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a catalyst-aided chemical processing method, by which hard-to-process materials, especially SiC, GaN, or the like, whose importance as electronic device materials increases these days, can be processed with high processing efficiency and high precision even for a space wavelength range of not less than several tens of μm.例文帳に追加

難加工物、特に近年電子デバイスの材料として重要性が高まっているＳｉＣやＧａＮ等を、加工効率が高く且つ数十μｍ以上の空間波長領域にわたって精度が高く加工する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silane cross-linking polyethylene molding having stable cross-link characteristics, and excellent in creep resistance, heat resistance, chemical resistance and the like, in continuous extrusion molding processing.例文帳に追加

連続した押出成形加工において、安定した架橋特性を有し、耐クリープ性、耐熱性、耐薬品性等に優れたシラン架橋ポリエチレン成形体の製造法を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate processing method that allows a coating film to be uniformly and highly precisely flattened without applying a high-load process such as chemical mechanical polishing, and to provide an apparatus therefor.例文帳に追加

化学機械研磨のような高負荷プロセスを経ることなく、均一かつ高精度な塗布膜の平坦化を図れるようにした基板処理方法及びその装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device that reduces the amount of side etching of wet etching processing while maintaining cleanness of a chemical, and a wet etching device.例文帳に追加

本発明は、薬液の清浄度を保ちつつ、ウエットエッチング処理のサイドエッチング量を低減させる半導体装置の製造方法及びウエットエッチング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING MEANS TO REMOVE MALODOROUS SUBSTANCE SUCH AS AIR POLLUTION, A CHEMICAL ODOR, CEDAR POLLENS BY PROCESSING ZINC AND TITANIUM INTO ZEOLOTE GRANULES BY CATALYST REDUCTION SINTERING AND APPLYING THE MATERIAL TO NONWOVEN FABRIC例文帳に追加

沸石粒状に亜鉛、チタンを触媒還元焼結加工し、その素材を不織布に塗布し、空気汚染や化学物質臭、杉花粉など悪臭物質除去の製造方法 - 特許庁

To provide a substrate processor and a substrate processing method with which occurrence of a watermark can be prevented and pure water or chemical can efficiently be supplied to a surface of a substrate.例文帳に追加

ウォーターマークの発生を防止するとともに、基板の表面に純水または薬液を効率よく供給することが可能な基板処理装置および基板処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an improved method and apparatus for chemical mechanical processing of metal and barrier materials which increases substrate throughput while maintaining improved planarization efficiency.例文帳に追加

改善された平坦化効率を維持しつつ基板スループットを増大することができるような、金属及びバリヤ物質を化学機械処理するための改良された方法及び装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a waste liquid processing method in a semiconductor manufacturing process in which even when the use quantity of chemical fluctuates, solidification is prevented from being generated in the discharge piping of mixed waste liquid.例文帳に追加

薬液の使用量が変動しても混合廃液の排出配管において固化を生じさせない半導体製造工程における廃液処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a stamper for manufacturing optical recording media by forming an oxide film providing an exfoliated face after electroplating without using a processing chemical so as to suppress increase in the surface roughness.例文帳に追加

処理薬液を用いずに電解メッキ後の剥離面を供する酸化膜を形成し、表面粗度の増加を抑制した光学記録媒体製造用スタンパの製造方法を提供する。 - 特許庁

Regarding the method where a glass substrate is dipped into a chemical processing liquid, and the whole or a part of the surface in the glass substrate is processed, the chemical processing liquid comprises an anionic surfactant or an aminic amphoteric surfactant preventing the resticking of reaction products such as fluorides to the surface of the glass substrate, and grinding is performed at a processing speed of ≤10 μm/min.例文帳に追加

ガラス基板を化学加工液に浸漬してガラス基板表面の全部または一部を加工する方法であって、化学加工液がフッ化物等の反応生成物がガラス基板表面に再付着することを防止する陰イオン系界面活性剤またはアミン系両性界面活性剤を含有し、１０μｍ／分以下の加工速度で研磨加工する方法である。 - 特許庁