「chemical-etching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

the act of etching metal or glass with a chemical 例文帳に追加

薬品を使って金属やガラスに彫刻をすること - EDR日英対訳辞書

WET CHEMICAL ETCHING METHOD UTILIZING MAGNETISM例文帳に追加

磁気利用湿式化学エッチング方法 - 特許庁

CHEMICAL ETCHING METHOD FOR ALULMINA CERAMICS例文帳に追加

アルミナセラミックスのケミカルエッチング方法 - 特許庁

ELECTRIC DISCHARGE PROCESSING HEAD FOR CHEMICAL ETCHING SUPPORT SYSTEM例文帳に追加

化学エッチング支援放電加工ヘッド - 特許庁

A chemical wet etching by alkali or acid and a physical dry etching such as a sputter etching are used as the etching method.例文帳に追加

エッチング法としてはアルカリや酸による化学的湿式エッチング、スパッタエッチングなどの物理的ドライエッチングが使用される。 - 特許庁

To provide a chemical etching method for alumina ceramics by which etching can effectively be performed.例文帳に追加

エッチングを効果的になし得るアルミナセラミックスのケミカルエッチング方法を提供する。 - 特許庁

To facilitate the execution of the control of etching conditions such as an etching rate, etching depth and an etching surface smoothening degree in an etching reaction stage on the spot and to enable wet chemical etching of a higher degree.例文帳に追加

エッチング速度、エッチング深さ、および、エッチング表面平滑度などのエッチング条件の制御をエッチング反応過程においてその場で行うことを容易とし、より高度な湿式化学エッチングを可能とする。 - 特許庁

CHEMICAL ETCHING METHOD FOR IMPACT PLATE FOR GOLF CLUB HEAD例文帳に追加

ゴルフ・クラブ・ヘッド用打撃プレートの化学的エッチング方法 - 特許庁

ETCHING FOIL FOR ALUMINUM ELECTROLYTIC CAPACITOR AND CHEMICAL CONVERSION FOIL THEREOF例文帳に追加

アルミ電解コンデンサ用エッチング箔及びその化成箔 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR PRECIPITATING COPPER CHLORIDE CONTAINED IN CHEMICAL ETCHING WASTE WATER例文帳に追加

化学エッチング廃液に含有される塩化銅の析出方法及び装置 - 特許庁

LIQUID CHEMICAL DEVICE, ETCHING DEVICE, AND METHOD OF MANAGING CONCENTRATION OF ETCHANT例文帳に追加

薬液装置およびエッチング装置ならびにエッチング液濃度の管理方法 - 特許庁

COMBINED ELECTRIC DISCHARGE MACHINING METHOD AND DEVICE EQUIPPED WITH CHEMICAL ETCHING FUNCTION例文帳に追加

ケミカルエッチング作用具備の複合放電加工法及び装置 - 特許庁

TREATMENT METHOD FOR COPPER ETCHING WASTE LIQUID, AND CHEMICAL USED THEREFOR例文帳に追加

銅エッチング廃液の処理方法及びそれに使用する薬剤 - 特許庁

Hydrofluoric acid is preferably used for the chemical etching.例文帳に追加

なお、化学エッチングにはフッ化水素酸を用いるのが好ましい。 - 特許庁

A defective bump is removed from a wafer through chemical etching.例文帳に追加

不良バンプをウェーハから化学エッチングにより取り除く。 - 特許庁

Then, etching is conducted for the substrate 1 by dry etching of a chemical etching mode by chlorine-based gas using the nickel layers 4 as protective layers (e).例文帳に追加

続いて、ニッケル層４を保護層として、塩素系ガスによる化学エッチンブモードのドライエッチングにより、基板１をエッチングする（ｅ）。 - 特許庁

To provide an etching processing apparatus and an etching method for suppressing an increase in moisture concentration in an etching liquid when replenishing a constituent liquid chemical to the etching liquid including at least one constituent liquid chemical and water.例文帳に追加

少なくとも一の成分薬液と水とを含むエッチング液に一の成分薬液を補給する際の、エッチング液中の水分濃度の上昇を抑制できるエッチング処理装置およびエッチング方法を提供する。 - 特許庁

In this case, the liquid chemical of the high etching speed of the first oxidized film is used in the etching of the first step, and the liquid chemical of a low etching speed is used in the etching of a second step.例文帳に追加

ここで、第１ステップのエッチングで、第１の酸化膜のエッチング速度の大きな化学薬液が用いられ、第２ステップのエッチングで、エッチング速度の小さい化学薬液が用いられる。 - 特許庁

The etching method for performing etching by immersing a glass substrate W to be etched in an etching chemical liquid L previously obtains relation of a temperature increase amount of the etching chemical liquid L and an etching amount of the base substance to be etched during etching.例文帳に追加

エッチング薬液Ｌに被エッチング基体であるガラス基板Ｗを浸漬してエッチングを行うエッチング方法であって、エッチングの際のエッチング薬液Ｌの温度上昇量と被エッチング基体のエッチング量との関係を予め得ておく。 - 特許庁

Etching liquid as chemical 16 is put in a chemical processing tank 15 connected to a chemical circulation device 18.例文帳に追加

薬液循環装置１８と結合された薬液処理槽１５は、薬液１６としてエッチング液が入る。 - 特許庁

A bonding plane of a polytetrafluoroethylene part of the composite is etched (chemical etching, electron beam etching, laser etching, or plasma etching), before an uncured mixed material is coated thereto.例文帳に追加

未硬化混合材の塗布前に、コンポジットのポリテトラフルオロエチレン部分の結合面をエッチング（化学的エッチング、電子-ビームエッチング、レーザーエッチング、又はプラズマエッチング）する。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer etching apparatus which can improve an etching rate better than that of a prior art, can perform every etching process by a wet etching method with higher accuracy and can further include a chemical solution collecting system.例文帳に追加

従来よりもエッチング速度を向上させ、全てのエッチングをウェットエッチングで高精度に行ない、さらに薬液の回収システムを含めた半導体ウェハエッチング装置を得る。 - 特許庁

Chemical etching is performed by immersing A2,000-type aluminum alloy into an etching tank in which a phosphoric acid-based treatment liquid is filled.例文帳に追加

リン酸をベース組成に含む処理液を満たしたエッチング槽にＡ２０００系アルミニウム合金を浸漬して化学エッチングを行う。 - 特許庁

The material is removed by lapping and polishing, chemical etching, plasma etching, or laser abrasion, for example.例文帳に追加

この材料の除去は、例えば、ラッピング及び研磨、化学的エッチング、プラズマエッチングまたはレーザアブレーションによって行う。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a guide wire satisfying the operability and the strength by taperedly etching a core material by chemical etching.例文帳に追加

化学エッチングによりコア材ワイヤーをテーパ・エッチングして、操作性および強度を満足するガイドワイヤーの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method to manufacture a microfabricated object by fabricating the surface of a fluorite by chemical etching using ICP or RIE dry etching.例文帳に追加

蛍石の表面をＩＣＰ又はＲＩＥドライエッチングを使用した化学的エッチングで加工して微細加工物を製造する方法を提供する。 - 特許庁

For plasma-etching an opening in the BARC with a large negative etching bias, a polymerizing chemical, such as CHF_3, is utilized.例文帳に追加

大きな負のエッチングバイアスにより、ＢＡＲＣに開口部をプラズマエッチングするには、ＣＨＦ_３等の重合化学物質を利用する。 - 特許庁

To reduce an amount of use of chemical necessary for etching by surely determining timing of an etching end.例文帳に追加

エッチングエンドのタイミングを確実に判別し、エッチングに必要な薬液の使用量を低減する。 - 特許庁

ETCHANT FOR CHEMICAL SEMICONDUCTOR FILM AND METHOD OF ETCHING, AND METHOD OF COLLECTING AND TREATING WASTE LIQUID例文帳に追加

化合物半導体膜のエッチング液、エッチング方法および廃液の処理回収方法 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING MATERIAL SURFACE BY FOCUSING ELECTRONIC BEAM INDUCED CHEMICAL REACTION例文帳に追加

材料表面を集束電子ビーム誘導化学反応によってエッチングするための方法 - 特許庁

Then, the metal thin film 2 is removed by chemical etching except for a region under the conductor pattern 4.例文帳に追加

その後、導体パターン４下の領域を除いて金属薄膜２を化学エッチングにより除去する。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR CLEANING AND ETCHING INDIVIDUAL WAFER BY UTILIZING WET CHEMICAL PHENOMENA例文帳に追加

湿式化学現象を利用して、個々のウエハを洗浄かつエッチングする方法と装置 - 特許庁

Based on measurements of the thickness measurement apparatus, the etching equipment stops the supply of the chemistry chemical.例文帳に追加

エッチング装置は、膜厚測定装置の測定結果に基づいて、化学薬液の供給を停止する。 - 特許庁

To reduce an amount of used chemical while controlling etching in wet processing of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置のウェット処理において、エッチングを制御しながら薬液使用量を削減する。 - 特許庁

To easily and precisely perform glass etching without using any hazardous chemical.例文帳に追加

危険性の高い薬品を用いずに簡便かつ精密にガラスエッチングを行う。 - 特許庁

To reduce undesired etching by using chemicals to improve the quality of chemical processing.例文帳に追加

薬液による不所望なエッチングを低減して、薬液処理の品質を向上する。 - 特許庁

If the deposition of polishing scrap by polishing is much, degreasing, etching and chemical polishing may be performed.例文帳に追加

但し、研磨による研磨カスの付着が多い場合は、脱脂、エッチング、化学研磨を行ってもよい。 - 特許庁

It is possible to reproduce a defective bump and to improve yield of bump manufacturing through chemical etching.例文帳に追加

化学エッチングによって、不良バンプを再生でき、そしてバンプ製造の歩留まりを向上できる。 - 特許庁

To provide a conductive composition excelling in durability against chemical etching.例文帳に追加

本発明の目的は、化学エッチングに対する耐久性が優れる導電組成物を提供することである。 - 特許庁

METHOD OF SIMULTANEOUSLY TREATING WASTE COPPER ETCHING SOLUTION AND WASTE RESIST SOLUTION AND CHEMICAL AGENT FOR USE THEREIN例文帳に追加

銅エッチング廃液とレジスト廃液を同時に処理する方法及びそれに使用する薬剤 - 特許庁

METHOD FOR ETCHING MATERIAL SURFACE USING CHEMICAL REACTION DERIVED BY FOCUSED ELECTRONIC BEAM例文帳に追加

集束された電子ビームによって誘導された化学反応を用いた材料表面のエッチング方法 - 特許庁

Etching is executed by using phosphoric acid, a chemical compound or mixture containing the phosphoric acid.例文帳に追加

エッチングにあたっては、燐酸、または燐酸含む化合物もしくは混合物を用いてエッチングを行う。 - 特許庁

The method for etching a silicon semiconductor wafer, after lapping with use of a chemical includes steps of filling an etching bath with an alkali chemical including caustic soda (NaOH) and caustic potash (KOH), immersing the silicon semiconductor wafer into the alkali chemical, alkali etching the surface of the silicon semiconductor wafer to make the thickness 30 μm or less, and treating the wafer with an acid chemical, prior to the alkali etching step.例文帳に追加

ラッピング後のシリコン半導体ウェーハを薬液によりエッチングする方法において、エッチング槽内に苛性ソーダ（ＮａＯＨ）及び苛性カリ（ＫＯＨ）からなるアルカリ薬液を満たし、シリコン半導体ウェーハをそのアルカリ薬液に浸漬し、シリコン半導体ウェーハの表面を３０μｍ以下アルカリエッチングし、しかも、そのアルカリエッチングの処理前に酸薬液で酸処理する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING HEXAVALENT IRON ION SOLUTION, CHEMICAL CONVERSION TREATING AGENT AND CHEMICAL CONVERSION TREATMENT METHOD FOR MAGNESIUM ALLOY AND METHOD FOR ETCHING SURFACE OF RESIN例文帳に追加

六価鉄イオン溶液製造方法及びマグネシウム合金の化成処理剤及び処理方法並びに樹脂表面のエッチング方法。 - 特許庁

Its chemical solubility improves, electroless etching is made possible, and deterioration in a chemical film by low purity is not caused.例文帳に追加

化学溶解性が向上し、無電解でのエッチングが可能になり、低純度による化成皮膜の劣化も招かない。 - 特許庁