「chemical-etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for forming a negative type pattern free of swelling and excellent in resolution while having a chemical structure transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser beam and having high dry etching resistance.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線領域において透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

Next, by using chemical dry etching (CDE) method or the like, the polycrystal silicon film pattern 108 is isotropic etched from both sides direction and thus the gate electrode layer 115 is formed.例文帳に追加

次に、ケミカルドライエッチング（ＣＤＥ）法等を用い、多結晶シリコン膜パターン１０８を両側面の方向から等方性エッチングし、ゲート電極層１１５を形成する。 - 特許庁

The capacitor element is formed by winding an anode electrode foil with an oxidized film on its surface and a cathode electrode, with a separator holding a solid electrolyte in-between (etching to impregnation: chemical polymerization).例文帳に追加

表面に酸化皮膜が形成された陽極箔と、陰極箔とを、固体電解質を保持するセパレータを介して巻回したコンデンサ素子を形成する（エッチング〜含浸・化学重合）。 - 特許庁

Further, the 2nd transparent conductive film 12 is selectively etched, so a wet etching process using chemical liquid to selectively etch the 2nd transparent conductive film 12 is added to prevent the 2nd transparent conductive film 12 from peeling.例文帳に追加

また、第２の透明導電性膜１２を選択的にエッチングする薬液でのウェットエッチング処理を追加することにより、第２の透明導電性膜１２の膜剥がれを防止することができる。 - 特許庁

The film to be etched is irradiated with an ultraviolet light having a wavelength longer than 200 nm via the chemical from a second lamp 1b of the lamp house 2 for wet etching.例文帳に追加

ランプハウス２の第２のランプ１ｂから薬液を介して被エッチング膜に、２００ｎｍよりも長い波長の紫外光を照射しながらウェットエッチングする。 - 特許庁

To provide a method for providing films having improved characteristics such as an etching rate, the concentration of hydrogen, and stress as compared to the films by thermal chemical vapor deposition.例文帳に追加

熱化学気相堆積の膜に比較してエッチング速度、水素濃度、およびストレスなどの改善された特性を有する膜を与える方法の提供。 - 特許庁

A technique selected from a group comprising mechanical, chemical, (laser) optical, electric and photo-etching techniques is preferably applied for forming the pit or the groove on the support.例文帳に追加

前記支持体上へのピット又は溝の形成には、好ましくは機械的、化学的、（レーザ）光学的、電気的及びフォトエッチング技術からなる群から選択される技術が適用される。 - 特許庁

This method for electroless plating includes dividing a precipitation process into several steps, and removing the catalyst of the part in which the plated layer has not been formed, between every steps by either one or both of washing or chemical etching.例文帳に追加

また、無電解メッキの処理において、メッキ析出を複数の段階に分け、各段階の中間工程でメッキ層が形成されない部分の触媒を洗浄及び化学的エッチングのいずれか一方または両方によって除去する。 - 特許庁

By forming the resistor 2A using a semiconductor process (lithography, etching and chemical-mechanical polishing or the like), the work dimension errors of the width and film thickness of the resistor 2A are reduced.例文帳に追加

上記抵抗体２Ａを半導体プロセス（リソグラフィ、エッチングおよび化学的機械的研磨等）を用いて形成することで、抵抗体２Ａの幅および膜厚の加工寸法誤差を低減できる。 - 特許庁

Elimination of the oxide film 13 can be performed by e.g. chemical etching, ultrasonic cleaning using hotwater, treatment which uses atomic hydrogen in vacuum, etc.例文帳に追加

酸化膜１３の除去は、例えば、化学エッチング、水を用いた超音波洗浄、又は真空中での原子状水素を用いた処理等により行うことができる。 - 特許庁

A method for roughening a surface of copper foil or sheet by etching it in an electrolyte including a salt, is characterized by adding an anion capable of forming a poorly soluble chemical compound through reacting with the copper ion, into the electrolyte.例文帳に追加

塩を含む電解液中で銅箔又は銅板の表面をエッチングにより粗化する方法であって、前記電解液中に銅イオンと反応して難溶性の化合物を形成し得る陰イオンを添加する。 - 特許庁

As the substrate 11 and the sealing substrate 17 having desired thickness are used from the beginning, processing of the thickness direction by chemical etching and mechanical polishing etc. becomes unnecessary.例文帳に追加

当初より所望の厚みを有する基板１１および封止基板１７を用いることができ、化学エッチングや機械研磨などによる厚み方向の加工が不要となる。 - 特許庁

The chemical amplification type photoresist composition containing the photosensitive polymer has high etching resistance, is excellent in adhesion characteristics to a lower film and has high wettability to a developing solution.例文帳に追加

本発明による感光性重合体を含む化学増幅型フォトレジスト組成物は耐エッチング性が大きく、下部膜質に対する接着特性に優れているほか、現像液に対する湿潤性が大きい。 - 特許庁

To provide a chemical coarsening liquid capable of suppressing generation of black deposits when etching the surface of an inner layer circuit board surface of a multilayer printed wiring board, and to provide a multilayer printed wiring board manufactured using the same.例文帳に追加

多層プリント配線板の内層回路板表面のエッチング時に黒色沈殿物の生成を抑制することのできる化学粗化液、およびこれを用いて製造される多層プリント配線板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a head for percussion instruments of good sound quality which permits formation of rough surfaces approximately uniform in the sizes of ruggedness by adopting chemical etching in place of mechanical polishing.例文帳に追加

機械的な研磨の代わりに化学エッチングを採用することにより凹凸の大きさが略一定な粗面を形成することができ、音質の良好な打楽器用ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method of a substrate improved to structuralize the substrate without using a wet or dry chemical etching process.例文帳に追加

ウエット又はドライケミカルエッチングプロセスを用いることなくサブストレートを構造化することに対して、改善されたサブストレートの処理方法を提案する。 - 特許庁

To provide a polishing compound for chemical mechanical polishing (CMP), with which a high-reliability metal film embedding pattern can be formed efficiently, by obtaining a high CMP speed, while maintaining a low etching speed.例文帳に追加

低いエッチング速度を維持しつつ、高いＣＭＰ速度を得ることにより、信頼性の高い金属膜の埋込みパターンを効率よく形成することができるＣＭＰ用研磨剤を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern having excellent transparency to radiation, dry etching properties, sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

放射線に対する透明性、ドライエッチング性、感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れるレジストパターンを与える化学増幅型レジスト組成物の提供。 - 特許庁

The method includes a chemical etching stage for developing macrostructure, and in addition, a bleaching stage with an electrochemical corrosion using a bath containing phosphoric acid and at least one weak acid.例文帳に追加

化学的マクロ組織腐食段階を含み、さらに、リン酸と少なくとも１つの弱酸とを含む浴を使用して電気化学的腐食による「ブリーチング」段階を行う方法。 - 特許庁

To decrease the contact resistance of a semiconductor layer with a source electrode and a drain electrode, to improve the adhesion property and to prevent cutting in lines due to intrusion of a chemical liquid during etching a transparent conductive film.例文帳に追加

半導体層とソース電極およびドレイン電極のコンタクト抵抗を低下させ、かつ密着性を向上させ、透明導電膜のエッチング時の薬液の染みこみによる断線を防止する。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type resist composition giving a resist pattern excellent in transparency particularly to radiation and property for dry etching and excellent further in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与える化学増幅型レジスト用組成物を提供すること。 - 特許庁

To prevent the contamination to conveyance carriers, facilities and other manufacturing process equipments, etc., by cleaning and removing the deposited substances within the same facility as the facility to implement chemical etching for the purpose of making display panels thinner.例文帳に追加

表示パネルを薄型化する為の化学エッチングを実施する設備と同じ設備内で付着物質を洗浄除去し、搬送キャリアや他の製造工程の設備などに対する汚染を防ぐ。 - 特許庁

To provide a method for forming a negative type pattern which is transparent in the far UV region including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light, does not swell while having such a chemical structure as to ensure high dry etching resistance and has superior resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザの波長１９３nmを含む遠紫外線領域で透明で、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ちながら、膨潤のない解像性能の優れたネガ型のパタン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device capable of suppressing the residue of a chemical component of an etching solution on a semiconductor layer before oxide film formation.例文帳に追加

酸化膜形成前の半導体層上にエッチング液の薬液成分が残留することを抑制できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in transparency particularly to radiation and dry etching resistance as a chemical amplification type resist and giving a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

This invention relates to cleaning treatment method after the etching of a film 2 on a semiconductor wafer 1 etched by a chemical solution by using a resist pattern 3 as a mask.例文帳に追加

半導体ウェハ１上の被エッチング膜２を、レジストパターン３をマスクに用いて薬液によりエッチングした後の洗浄処理方法に係るものである。 - 特許庁

Since the memory layer material film 13A or a memory layer 13 does not touch an etching chemical, surface oxidation of the memory layer 13 can be suppressed.例文帳に追加

記録層材料膜１３Ａまたは記憶層１３がウェットエッチング用の薬液に触れることがなくなり、記憶層１３の表面酸化が抑えられる。 - 特許庁

The mount 10 and its locaters 14 are manufactured in a low-cost method, such as a chemical etching, stamping, a boring process, a bending process, an embossing process, or forming process.例文帳に追加

台座１０およびそのロケータ１４は、低コストの方法で、例えば化学的エッチング，スタンピング，穿孔加工，折り曲げ加工，エンボス加工または形成加工により製造される。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift photomask and blanks for the photomask having an enhanced etching selectivity ratio of a tantalum silicide- base material to a quartz substrate while retaining superior working characteristics of the tantalum silicide-base material and superior chemical stability after working.例文帳に追加

タンタルシリサイド系材料の優れた加工特性、加工後の化学的安定性等を維持しつつ、石英基板とのエッチング選択比を向上したハーフトーン位相シフトフォトマスク及びブランクス。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

The rugged form 15 can be realized through a method wherein the rear surface 11B of the semiconductor chip 11 is subjected to a cutting process using a blade or the like or a selective chemical etching process.例文帳に追加

凹凸形状１５は例えば半導体チップ１１の裏面１１Ｂに対し、ブレード等による切削工程、または選択的に化学的にエッチングすることにより実現する。 - 特許庁

Mechanochemical polishing treatment, chemical etching treatment or electrolytic polishing treatment is applied to the surface of the cBN sintered compact manufactured by machining to remove the damaged layer.例文帳に追加

機械的加工により製作されたｃＢＮ焼結体の表面をメカノケミカルポリッシング処理、化学エッチング処理または電解研磨処理により加工変質層を除去する。 - 特許庁

Local etching speed and local deposit rate are calculated from the types of neutral flux, surface chemical coverage and surface materials that are solved simultaneously.例文帳に追加

局所的なエッチング速度および局所的な付着レートは、同時解法される中性フラックス、表面化学カバレージおよび表面材の種類から演算される。 - 特許庁

Then, the sacrificial oxide film 14 is removed by etching using a chemical containing a hydrofluoric acid to expose the side face 13a and the bottom face 13b of the trenches 13.例文帳に追加

続いて、フッ酸を含む薬液によって犠牲酸化膜１４をエッチングして除去し、トレンチ１３の側面１３ａおよび底面１３ｂを露出させる。 - 特許庁

A discharge and an etching function triggered by a chemical reaction generated by the positive and negative electrodes develop machining on the bad conducting material and, especially, relatively precise machining.例文帳に追加

陽極と陰極の発生する化学反応によりトリガする放電及びエッチング作用により、不良導電材料に対して加工を行い、特に比較的精密な加工を行う。 - 特許庁

To remove a polished strain layer on the reverse surface of a semiconductor wafer without providing large-scale facilities like in a method by chemical etching or producing substances which should be disposed of as industrial wastes in quantity.例文帳に追加

半導体ウエーハの裏面の研削歪み層を、化学的エッチングによる方法のごとき大がかりな設備を設けることなく、また産業廃棄物として処理すべき物質を大量に生成することなく除去できるようにする。 - 特許庁

To detect cracks undetectable by a dark visual field observing method when inspecting a quartz blank after lapping and before chemical etching.例文帳に追加

ケミカルエッチング前でラッピング加工後の水晶ブランクを検査するに際して、暗視野観察法では検出できないクラックを検出できるようにする。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a solar cell high in the absorption index of light by forming a dielectric film mask and forming effective recesses and projections on the surface of single crystal and polycrystal wafers through chemical etching method.例文帳に追加

誘電体膜のマスクを形成し、化学的エッチング方法により単結晶及び多結晶ウェハの表面に効果的な凹凸を形成し、光の吸収率の高い太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

By having the substrate partially removed through grinding, polishing, and etching processing or the like, based on a chemical treatment, the substrate can be reduced in thickness.例文帳に追加

基板を薄膜化する手段としては、基板の他方の面から研削処理、研磨処理、化学処理によるエッチング等を行うことによって基板を部分的に除去することによって行うことができる。 - 特許庁

The etching of the n+a-Si:H layer 5 of a substrate 100 progresses by a chemical reaction by the radical species 24 introduced into the chamber 20.例文帳に追加

チャンバ２０内に導入されたラジカル種２４による化学的反応によって、基板１００のｎ＋ａ−Ｓｉ：Ｈ層５のエッチングが進行する。 - 特許庁

The hole array 110 is formed in such a way that four hole array plates 111 each having an opening hole formed by chemical etching are laminated and bonded.例文帳に追加

ホールアレイ１１０ は、ケミカルエッチングにより開孔が形成されたホールアレイ板１１１ が４枚積層され、接着されて作成されている。 - 特許庁

A recess 110 is formed by allowing upper portions of the wiring 102 and the wiring 103 to be recessed by chemical mechanical polishing process or etching.例文帳に追加

次に、化学的機械研磨法やエッチングによって、第１の金属配線１０２および第２の金属配線１０３の上部をリセスさせて凹部１１０を形成する。 - 特許庁

One side face of this film 15 is retreated 5-20% of the resist film width through CDE(chemical dry etching) using a mixed gas contg.例文帳に追加

その後、Ｃｌ_2とＡｒとＣＦ_4を含むガスを用いたＣＤＥにより、Ｔｉ／ＴｉＮ膜１５の一方の側面が前記レジスト膜の幅の５％乃至２０％後退される。 - 特許庁

To provide a chemical amplification type positive resist composition excellent in adhesiveness to a substrate and dry etching resistance and having various good resist performances such as resolution and sensitivity.例文帳に追加

基板への接着性や耐ドライエッチング性に優れ、また解像度や感度などの各種レジスト性能が良好な化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide aluminum foil for printed circuit by which, when forming a printed circuit, chemical solubility at etching can be improved and further the edge shape of a circuit line can be improved.例文帳に追加

印刷回路の生成に際し、エッチング時の化学溶解性が良好で、さらに回路線の際形状が良好となる印刷回路用アルミニウム箔を提供する。 - 特許庁