「d-layer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The pressure sensitive adhesive double coated sheet comprises a laminate comprising each layer in turn (a) an adhesive layer, (b) a silver layer, (c) a flexible base material layer, and (d) a black layer/adhesive layer or (d') a black adhesive layer.例文帳に追加

（ａ）粘着剤層、（ｂ）銀層、（ｃ）可とう性基材層及び（ｄ）黒色層／粘着剤層又は（ｄ′）黒色粘着剤層の順にそれぞれの層を含む積層体からなる両面粘着シート。 - 特許庁

A thickness D of a rubber layer 26 sandwiched between the reinforcing layer 24 and the belt layer 16 is made equal to or greater than a thickness d of the reinforcing layer 24.例文帳に追加

また、補強層２４とベルト層１６とによって挟まれるゴム層２６の厚みＤが補強層２４の厚みｄと同等以上にされている。 - 特許庁

A step (d) laminates a reflection film 22 on the recording layer 20.例文帳に追加

（ｄ）で記録層２０に反射膜２２を積層する。 - 特許庁

The electro-optical device D comprises an element layer 1, a wiring-forming layer 2 and an electronic component layer 3.例文帳に追加

電気光学装置Ｄは、素子層１と配線形成層２と電子部品層３とを有する。 - 特許庁

An optoelectronic device D has an element layer 1, a wiring formation layer 2 and an electronic parts layer 3.例文帳に追加

電気光学装置Ｄは、素子層１と配線形成層２と電子部品層３とを有する。 - 特許庁

In the abrasion image forming method of single color having D-max, D-min and D-intermediate zones, the image of a recording element for abrasion comprising a substrate having a barrier layer and a coloring agent layer containing a coloring agent is heated by laser beams without employing any different receptive element.例文帳に追加

バリア層と着色剤を含む着色剤層と有する支持体を含むアブレーション用記録要素を、別個の受容要素無しに、レーザーで像様加熱する、D-max、D-min及びD-intermediate領域を有する単色のアブレーション画像形成法。 - 特許庁

Shore D hardness H3 of the cover is greater than Shore D hardness H2 of the intermediate layer.例文帳に追加

カバーのショアＤ硬度Ｈ３は、中間層のショアＤ硬度Ｈ２よりも大きい。 - 特許庁

A pressure sensitive adhesive layer 31 of width d is formed on a 2nd step film 12 of width c (c ≥ d, a ≥ d > b).例文帳に追加

別途、幅ｃの第二の工程フィルム１２に幅ｄで感圧接着剤層３１を形成する（ｃ≧ｄ、ａ≧ｄ＞ｂ）。 - 特許庁

When it is assumed that the width of the solution layer 16 and the height of the solution layer 16 are D and H, respectively, D and H are so set as to satisfy D≥0.0005×log^e×H+0.0037.例文帳に追加

不凍液層１６の幅Ｄは、不凍液層１６の高さをＨとすると、Ｄ＝０．０００５・ｌｏｇ^ｅ・Ｈ＋０．００３７以上にした。 - 特許庁

To prevent hair crack (d) on a surface of a mortar lining layer 2.例文帳に追加

モルタルライニング層２の表面のヘアクラックｄを抑制する。 - 特許庁

A first layer (lower layer) and a second layer (upper layer) are formed respectively so as to become the relation of A<B<C<D<E<F<G<H<I<J<K and the relation of a<b<c<d< e<f<g<h<i<j<k.例文帳に追加

即ち、第１層（下層）はＡ＜Ｂ＜Ｃ＜Ｄ＜Ｅ＜Ｆ＜Ｇ＜Ｈ＜Ｉ＜Ｊ＜Ｋの関係となるように、第２層（上層）はａ＜ｂ＜ｃ＜ｄ＜ｅ＜ｆ＜ｇ＜ｈ＜ｉ＜ｊ＜ｋの関係となるようにそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The main constitution layer 22 and light emission layer 24 are finally bonded at a temperature of 525°C (d).例文帳に追加

主構成層２２と発光層２４とを５２５℃の温度で本接着する（（ｄ））。 - 特許庁

Capacitance index X=(dielectric constant of cover layer ε_r)/(thickness of cover layer d[μm]).例文帳に追加

キャパシタンス指標Ｘ＝（カバー層の比誘電率ε_ｒ）／（カバー層の厚みｄ[μｍ]） - 特許庁

The photoelectric conversion device includes nanocrystal grains (d) and a semiconductor layer, wherein the each nanocrystal grain (d) is composed of a first semiconductor and the semiconductor layer includes a first semiconductor layer (7) containing the nanocrystal grains (d) in a second semiconductor amorphous layer.例文帳に追加

ナノ結晶粒(d)と、半導体層と、を有し、前記ナノ結晶粒は第１の半導体からなり、前記半導体層は、第２の半導体のアモルファス層に前記ナノ結晶粒を含有した第１の半導体層(7)を含む光電変換装置とする。 - 特許庁

The light-emitting layer 12 contains a metal complex compound that includes one of the coupling forms (a) to (d): (a) Ir-SO, (b) Ir-SO_2, (c) Pt-SO, and (d) Pt-SO_2.例文帳に追加

（ａ）Ｉｒ−ＳＯ（ｂ）Ｉｒ−ＳＯ_2（ｃ）Ｐｔ−ＳＯ（ｄ）Ｐｔ−ＳＯ_2 - 特許庁

Successively, an induction-hardening is performed, and then a low temperature tempering is performed so that the depth (d) of the hardened layer becomes 3.0 to 15% of the diameter (D) of the shaft.例文帳に追加

硬化層の深さ（ｄ）が軸の直径（Ｄ）の３．０〜１５％となるようにする。 - 特許庁

The electrode is rolled so as to satisfy the equation; 0.5515Ln(x)+1.9859≤d≤0.5515Ln(x)+2.5859, if x is an integer fulfilling 2≤x≤11, denoting the frequency of rolling, d denotes the packing density of the activator layer.例文帳に追加

０．５５１５Ｌｎ（ｘ）＋１．９８５９≦ｄ≦０．５５１５Ｌｎ（ｘ）＋２．５８５９ （ここで、ｘは２≦ｘ≦１１を満足する自然数である。） - 特許庁

The MOS transistor has a high density source layer N^+S, a high density drain layer N^+D, a low density source layer N^-S and/or a low density drain layer N^-D both of which are diffused deeper than the high density source layer N^+S and the high density drain layer N^+D.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタは、高濃度ソース層Ｎ＋Ｓ及び高濃度ドレインＮ＋Ｄ層と、高濃度ソース層Ｎ＋Ｓ及び高濃度ドレイン層Ｎ＋Ｄより深く拡散された低濃度ソース層Ｎ−Ｓ又は／及び低濃度ドレイン層Ｎ−Ｄを有する。 - 特許庁

A belt reinforcing layer 5 is made of a code for the belt reinforcing layer.例文帳に追加

ベルト層用コードは、スチールコード又は10g/d以上の強度を有する有機繊維コードからなる。 - 特許庁

Asynchronous transfer mode ATM adaptation layer AAL type 2 units 4-5, 4-6 apply AAL type 2 processing to voice-compressed common part sub-layer CPS packets (a, b, c, d or the like) to multiplex the result on an ATM cell.例文帳に追加

AALタイプ２装置4-5、4-6では、音声圧縮されたCPSパケットa, b, c, d等が、AALタイプ２処理されて、ATMセルに多重される。 - 特許庁

‐ Marketing for inter layer（Fostering local human resource, local R&D, etc. ）例文帳に追加

‐ 中間層向けマーケティング（現地人材育成、現地開発等） - 経済産業省

The biodegradable film laminate is constituted by laminating the transparent inorganic film layer (A), an anchor layer (3) containing an aliphatic polyester wherein a molar ratio (L/D) of L-lactic acid and D-lactic acid is 1-9 and a biodegradable film layer (C).例文帳に追加

透明無機薄膜層（A）、L-乳酸とD-乳酸のモル比（L/D）が1〜9である脂肪族ポリエステルを含むことを特徴とするアンカー層（B）、生分解性フィルム層（C）、が積層されたことを特徴とする生分解性フィルム積層体。 - 特許庁

(1) The substrate layer (A) VST > the first intermediate layer (B) VST > the second intermediate layer (C) VST, and (2) the substrate layer (A) VST > the HS layer (D) VST > the second intermediate layer (C) VST.例文帳に追加

（１）基体層（Ａ）ＶＳＴ＞第一中間層（Ｂ）ＶＳＴ＞第二中間層（Ｃ）ＶＳＴ、（２）基体層（Ａ）ＶＳＴ＞ＨＳ層（Ｄ）ＶＳＴ＞第二中間層（Ｃ）ＶＳＴ。 - 特許庁

The IC label has the laminated structure of a thermoplastic resin film layer (A), an IC circuit layer (B), an adhesive layer (I), a thermoplastic resin film layer (C) and an adhesive layer (D).例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルム層（Ａ）、ＩＣ回路層（Ｂ）、接着剤層（Ｉ）、熱可塑性樹脂フィルム層（Ｃ）、粘着剤層（Ｄ）の積層構造を持つＩＣラベル。 - 特許庁

The channel length L is equal to or more than a widening width d of a depletion layer in the channel region 29 represented as d=D×N_a^-C.例文帳に追加

チャネル長Ｌは、ｄ＝Ｄ・Ｎ_ａ^−Ｃで表されるチャネル領域２９における空乏層の広がり幅ｄ以上となっている。 - 特許庁

The thermal insulating materials D, D are connected to each other in the state of the thermal insulating material D and a connecting layer R being jointed at their contact faces.例文帳に追加

断熱材Ｄと連結層Ｒとがこれらの接触面で接合された状態で断熱材Ｄ、Ｄ同士が連結される。 - 特許庁

Shore D hardness of the second layer 18b is set to 40 to 65, and Shore D hardness of the inner layer 16 (an A layer) positioned inside the second layer 18b is set to 35 to 65.例文帳に追加

そして、第２層１８ｂのショアＤ硬度を４０〜６５に設定するとともに、該第２層１８ｂの内側に位置する内層１６（Ａ層）のショアＤ硬度を３５〜６５に設定する。 - 特許庁

For the reason stated above, layer thickness d of a liquid crystal layer 50 in the reflective display region 100b is considerably thinner than layer thickness d of a liquid crystal layer 50 in the transmissive display region 100c.例文帳に追加

このため、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄い。 - 特許庁

Thereby, the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 in the reflective display region 100b is much smaller than the layer thickness d of the liquid crystal layer 50 in the transmissive display region 100c.例文帳に追加

このため、反射表示領域１００ｂにおける液晶層５０の層厚ｄは、透過表示領域１００ｃにおける液晶層５０の層厚ｄよりもかなり薄い。 - 特許庁

The film thickness d of the recording layer lies within the range indicated by an inequality: 10 nm≤d≤30 nm.例文帳に追加

前記記録層の膜厚ｄは、好ましくは、次の式 １０ｎｍ≦ｄ≦３０ｎｍ で示される範囲にある。 - 特許庁

A ratio D/T of particle size D of the particular solid material in relation to the intermediate layer thickness T is set ≥0.3.例文帳に追加

粒状固形物の粒度Ｄの、中間層厚みＴに対する比（Ｄ／Ｔ）は、０．３以上である。 - 特許庁

The Shore D hardness of the outer cover layer 4 is 58 to 72.例文帳に追加

カバー外側層４のショアＤ硬度は、５８以上７２以下である。 - 特許庁

A transparent conductive layer 31 is exposed inside the intervals D, E.例文帳に追加

間隔Ｄ，Ｅ内では透明導電層３１が露出している。 - 特許庁

The amount of laser exposure, which is employed for obtaining the D-min density, removes both of the coloring agent layer and the barrier layer in the zone.例文帳に追加

D-min濃度を得るために用いたレーザー露光は、その領域内の着色剤層及びバリア層の両方を除去する量である。 - 特許庁

An air- bubble protection layer (D) is laminated on the coating layer (C) to obtain higher heat insulation.例文帳に追加

該コ−テング層（Ｃ）に更に気泡保護層（Ｄ）が積層されるとより断熱性が向上する。 - 特許庁

An electrode layer 18 is formed by extending the layer 18 onto the dead regions D of the multilayered film 16.例文帳に追加

多層膜１６の不感領域Ｄ上にまで電極層１８を延ばして形成する。 - 特許庁

An (N+D) layer 23 adjacent to an end of the drain layer 12 side of the gate electrode 6 is formed.例文帳に追加

ゲート電極６のドレイン層１２側の端部に隣接したＮ＋Ｄ層２３を形成する。 - 特許庁

The lubricating coating L is composed of a diamond-like carbon layer D at a surface side and an intermediate layer M formed between the diamond-like carbon layer D and the base material.例文帳に追加

潤滑被膜Ｌは、表面側のダイヤモンドライクカーボン層Ｄと、該ダイヤモンドライクカーボン層Ｄと前記母材との間に形成された中間層Ｍと、で構成されている。 - 特許庁

The ratio D_0/D' of the outside diameter D_0 of the mask pattern for opening and the inside diameter D' of the opening is corrected depending on the inside diameter D' of the opening of the solder resist layer.例文帳に追加

ソルダーレジスト層の開口内径Ｄ’に応じて、開口用マスクパターン外径Ｄ_０と開口内径Ｄ’との比Ｄ_０／Ｄ’を補正する。 - 特許庁

P-type impurity layers (P+D layer 22, FP layer 24) deeper than a drain layer 12 are formed below a contact region of the drain layer 12.例文帳に追加

また、ドレイン層１２のコンタクト領域の下方に、ドレイン層１２よりも深いＰ型不純物層（Ｐ＋Ｄ層２２，ＦＰ層２４）を形成する。 - 特許庁

The film thickness (a) of the recording assistant layer is controlled to satisfy the relation of d/4<a<3d, and preferably d/2≤a≤2d with respect to the film thickness (d) of the recording layer.例文帳に追加

記録層の膜厚ｄと記録補助層の膜厚ａとの間に、ｄ／４＜ａ＜３ｄ、好ましくはｄ／２≦ａ≦２ｄが成立するように記録補助層の膜厚を制御する。 - 特許庁

The film thickness (d) of the thermal diffusion layer 7 is controlled to satisfy 0<d≤(5/16)λ/n or (7/16)λ/n≤d≤(1/2)λ/n, wherein (n) is the refractive index of the thermal diffusion layer 7.例文帳に追加

熱拡散層７の屈折率をｎとするとき、熱拡散層７の膜厚ｄを０＜ｄ≦（５／１６）λ／ｎ又は（７／１６）λ／ｎ≦ｄ≦（１／２）λ／ｎの範囲内に設定する。 - 特許庁

(d) The first etching mask layer 12 is removed by wet etching processing.例文帳に追加

第１エッチングマスク層１２をウェットエッチング処理により除去する（ｄ）。 - 特許庁

An n type ZnO layer (low resistance layer) 140- a ZnO layer (piezoelectric conductive film) 150- an n type ZnO layer (low resistance layer) 160 is formed as a piezoelectric element (c, d).例文帳に追加

ｎ型ＺｎＯ層（低抵抗層）１４０−ＺｎＯ層（圧電導膜）１５０−ｎ型ＺｎＯ層（低抵抗層）１６０を圧電素子として形成する（ｃ，ｄ）。 - 特許庁

Further, the layer thickness calculation section 106 calculates the layer thickness (d) of a photosensitive layer by using the amount of electric charges supplied to the charging roll.例文帳に追加

また、層厚算出部１０６は、帯電ロールに供給される電荷量を用いて、感光層の層厚ｄを算出する。 - 特許庁