「electro migration」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a spin valve structure, which can inhibit the development of electro-migration, while maintaining higher signal detection sensitivity.例文帳に追加

より高い信号検出感度を維持しつつ、エレクトロマイグレーションの発生を抑制することのできるスピンバルブ構造を提供する。 - 特許庁

A problem of electro-migration is relieved by limiting voltage drop of a cut copper fuse 208.例文帳に追加

飛んだ銅ヒューズ２０８の電圧降下を制限することにより、エレクトロマイグレーション問題は軽減される。 - 特許庁

To inhibit the degradation of yield in a process forming the wiring having a wiring width ≤0.2 μm, and to elevate an electro-migration resistance.例文帳に追加

配線幅が０．２μｍ以下の配線幅の配線形成工程において歩留まり低下を抑制し、エレクトロマイグレーション耐性を向上させる。 - 特許庁

To increase long-lasting connection reliability to improve electro-migration resistance in a semiconductor package.例文帳に追加

半導体パッケージにおいて長期接続信頼性を向上させ、エレクトロマイグレーション耐性を改善する。 - 特許庁

To provide a layout method providing a layout taking an EM (Electro Migration) into consideration by simple modification, and achieving a short TAT (Turn Around Time).例文帳に追加

簡単な修正によりＥＭを考慮したレイアウトが可能で、短ＴＡＴ化が可能なレイアウト方法を提供する。 - 特許庁

To provide a nonvolatile storage device in which disconnection caused by electro-migration of word lines and bit lines can be prevented, and its operating method.例文帳に追加

ワード線、ビット線のエレクトロマイグレーションによる断線防止が可能な不揮発性記憶装置とその動作方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, the degradation of yield in the wiring forming process is inhibited, and the electro-migration resistance is improved.例文帳に追加

これにより配線形成工程の歩留まり低下を抑制し、エレクトロマイグレーション耐性を向上させることができる。 - 特許庁

To shorten the design time by suppressing electro-migration at the stage of layout design in an integrated circuit of a VLSI or the like.例文帳に追加

レイアウト設計の段階でエレクトロマイグレーションを抑制して、設計時間の短縮化を図る。 - 特許庁

The electric resistance ratio found by the calculation 24 is applied to the correlation between the previously found electric resistance ratio and the duration of the electro-migration of the wiring, whereby an estimation 25 of the duration of the electro-migration(EM) of the pattern is made.例文帳に追加

次に、算出２４で求めた電気抵抗比を、予め求めていた電気抵抗比とエレクトロマイグレーション寿命との相関関係にあてはめることにより、評価配線パターンのエレクトロマイグレーション（ＥＭ）寿命の時間推定２５をする。 - 特許庁

When current tolerance of Ta and NiCr, so to speak electro-migration tolerance is compared, Ta being a high melting point metal is highly excellent, then electro-migration of the resistance line 40 is greatly improved by using the Ta thin film 42 to hold the NiCr thin film 42.例文帳に追加

TaとNiCrの電流耐性、いわゆるエレクトロマイグレーション耐性を比較した場合、高融点金属であるTaの方が大幅に優れており、このようなTa薄膜４２でNiCr薄膜４２を挟み込む構造とすることにより、抵抗線４０自体のエレクトロマイグレーション耐性が大幅に向上する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, along with its method, equipped with a damascence wiring of excellent stress-migration resistance and electro-migration resistance.例文帳に追加

優れたストレスマイグレーション耐性及びエレクトロマイグレーション耐性を有するダマシン配線を備えた半導体装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

Electro-migration is effectively eliminated by providing a buffer zone for reducing an electric field arising between two silver conductors 10, 20 formed on a flat ceramic surface by means of an upward vertical barrier 16 formed on the surface of a substrate or a groove formed on the surface to reduce the speed of particle migration such as silver electro-migration to almost zero.例文帳に追加

平坦なセラミック表面上に形成された２つの銀導体１０，２０の導体間で、基板表面上に形成された上方に垂直な障壁１６、または表面内に形成された溝によって、導体間に生じる電界を低減させるバッファ・ゾーンを設けて、銀エレクトロマイグレーションなどの粒子マイグレーション速度をほぼゼロとすることにより、エレクトロマイグレーションを効果的に抑制する。 - 特許庁

To provide a dual damascene process that can reliably form aluminum interconnection exhibiting improved electro migration characteristics, as compared with aluminum interconnection that is formed by the conventional RIE technique.例文帳に追加

従来のＲＩＥ技法によって形成されたアルミニウム相互接続よりも改善されたエレクトロマイグレーション特性を示すアルミニウム相互接続を確実に形成することができるデュアル・ダマシン・プロセス。 - 特許庁

To provide a semiconductor chip reducing chip size and preventing device breakage due to electro-migration, to provide a semiconductor package, and to provide a method of manufacturing the package.例文帳に追加

チップサイズを縮小でき、かつ、エレクトロマイグレーションによるデバイスの破損を防止可能な半導体チップ、半導体パッケージ、及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, the electro-migration of the electrode layer 18 can be properly suppressed while keeping the favorable insulation withstand voltage of the upper gap layer 19.例文帳に追加

これにより、上部ギャップ層１９の絶縁耐圧を良好に保ちつつ、電極層１８のエレクトロマイグレーションを適切に抑制することが出来る。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device, capable of improving morphology of Al wiring and electro-migration even when a barrier metal is thin.例文帳に追加

バリアメタルが薄い場合でもＡｌ配線のモフォロジ及びエレクトロマイグレーションを改善することができる半導体装置の製造方法を得る。 - 特許庁

The conductor power acting as an internal electrode layer 12 is electro-deposited through migration to the exposed conductive layer 2 of the internal electrode pattern 10 to form the internal electrode layer 12 in the internal-electrode forming pattern.例文帳に追加

そして、内部電極層１２となる導体粉末を前記内部電極パターン１０の露出した導電層２に泳動電着して前記内部電極形成パターン内に内部電極層１２を形成する。 - 特許庁

To provide a thin-film magnetic head that can improve reliability of the insulation between the upper shield film and the electrode film and can avoid electro-migration caused by high-density current.例文帳に追加

上部シールド膜と電極膜との間の電気絶縁の信頼性を向上させるとともに、高密度電流に起因するエレクトロマイグレーションを回避した薄膜磁気ヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a wiring circuit for electromagnetic wave shielding using inexpensive copper whose electro-migration is not generated, and also to provide a sheet for electronic wave shielding.例文帳に追加

安価で且つエレクトロマイグレーションの生じない銅を使用した電磁波遮蔽用配線回路を実現可能な、電磁波遮蔽用配線回路の形成方法、及び電磁波遮蔽用シートを提供する。 - 特許庁

To provide a drive circuit for semiconductor circuits and electro-optical devices suppressing a circuit square from increasing while preventing breaking of power supply wirings due to migration or the like.例文帳に追加

マイグレーション等による電源配線の断線を防止しつつ、回路面積の増大を抑制した半導体回路、電気光学装置の駆動回路を提供する。 - 特許庁

To prevent changes in electro-migration(EM) life and unexpected manufacture of a product having a deteriorated wiring reliability, even when conventional step conditions such as a film formation pressure of an aluminum alloy film are controlled.例文帳に追加

アルミニウム合金膜の成膜圧力など従来の工程条件を管理しても、エレクトロマイグレーション（ＥＭ）寿命がばらつき、突発的な配線信頼性劣化品が製造されることを防止する。 - 特許庁

To realize a fine wiring structure where an electric characteristic, such as via resistance and wiring resistance, a burial property, and wiring reliability, such as electro-migration resistance, are improved.例文帳に追加

ビア抵抗や配線抵抗などの電気特性や、Ｃｕ埋込み性、エレクトロ・マイグレーション耐性などの配線信頼性を向上させた微細配線構造を実現する。 - 特許庁

To provide a wiring verification method for quickly verifying the electro-migration tolerance of wiring without increasing any constraint on design.例文帳に追加

高速に、且つ設計上の制約を増大させることなく配線のエレクトロマイグレーション耐性を検証することが可能な配線検証方法を提供することである。 - 特許庁

To solve such problems as disconnection of wiring caused by electro-migration and fluctuations of a threshold voltage of a transistor caused by hot carriers, by reducing a maximum through-current of a memory cell composed of SRAMs.例文帳に追加

ＳＲＡＭからなるメモリセルの貫通最大電流の低減を図り、エレクトロマイグレーションによる配線断線やホットキャリアによるトランジスタのしきい値電圧変動といった問題を解決する。 - 特許庁

Thereby, since the flowing direction of current is not fixed to one direction, deterioration and discontinuity due to electro-migration are hardly caused, thus reliability is enhanced and high density can be realized.例文帳に追加

これにより、電流の流れる向きが一方向に固定されないので、エレクトロマイグレーションによる劣化や断線が起こり難くなり、信頼性が高まり、高密度化を実現できる。 - 特許庁

To provide a method of evaluating a wiring which can estimate duration of the electro-migration of the wiring in the middle of the manufacturing process of a semiconductor device, and to provide a wiring evaluation device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程の途中で配線のエレクトロマイグレーション寿命を推定することができる配線の評価方法および評価装置を提供する。 - 特許庁

More specifically, the dual damascene process depends on a PVD-Ti/CVD-TiN barrier layer and forms an aluminum line showing great reduction in a saturation resistance level, the inhibition of the electro migration, or both of them especially in a line longer than 100 micrometers.例文帳に追加

具体的には、本デュアル・ダマシン・プロセスはＰＶＤ−Ｔｉ／ＣＶＤ−ＴｉＮ障壁層に依存して、特に１００マイクロメートルより長い線において飽和抵抗レベルの大幅な低下またはエレクトロマイグレーションの抑止あるいはその両方を示すアルミニウム線を形成する。 - 特許庁

To provide a highly pure copper alloy sputtering target capable of forming a wiring film which has small wiring resistance, resistances to electro- migration and oxidation and excellent film compositional uniformity and film thickness uniformity, and to provide parts used in an apparatus for forming the thin film.例文帳に追加

配線抵抗が小さく、エレクトロマイグレーション耐性や耐酸化性に優れ、さらには膜組成均質性と膜厚均質性に優れた配線膜を形成することが可能であるような高純度銅合金スパッタリングターゲットと薄膜形成装置部品を提供する。 - 特許庁

To prevent the increase of man-hours for layout operation due to the contravention of an EM (Electro Migration) rule of elements in the layout of elements, and to prevent the increase of TAT (Turn Around Time) with respect to a layout method, CAD device, program and storage medium.例文帳に追加

本発明は、レイアウト方法、ＣＡＤ装置、プログラム及び記憶媒体に関し、素子のレイアウト時に素子のＥＭルールの違反によるレイアウトの作業工数の増大を防止し、ＴＡＴの増大を防止することを目的とする。 - 特許庁

To solve the problem that in a thin film magnetic head provided with a heater, when power is supplied excessively to the heater, electro-migration is caused between a resistance line of the heater and an insulator, so that a heater resistance value is varied, a heater service life time is reduced, and the resistance line is cut.例文帳に追加

ヒータを備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、ヒータに対し過剰通電になると、ヒータの抵抗線と絶縁体との間にエレクトロマイグレーションが発生し、ヒータ抵抗値が変化する、ヒータ通電寿命が低下する、抵抗線が断線するという問題が発生する。 - 特許庁

To improve an electro-migration resistance of a copper wiring by preventing copper atoms in the copper wiring from diffusing into an insulating film during heat treatment so that occurrence of a leakage current between wirings is prevented, and preventing occurrence of voids at the interface between the copper wiring and the insulating film through improvement is tight-adhesion between the copper wiring and the insulating film.例文帳に追加

熱処理時における銅配線中の銅原子の絶縁膜中への拡散を阻止することにより、配線間におけるリーク電流の発生を防止すると共に、銅配線と絶縁膜との密着性を向上させて銅配線と絶縁膜との界面にボイドが発生する事態を防止することにより、銅配線のエレクトロマイグレーション耐性を向上させる。 - 特許庁

To provide an electro-osmotic dewatering machine for proceeding dewatering by electric migration only in a region where dewatering is performed by using a drum and a caterpillar, by applying plus or minus electricity to the drum, and applying the minus or plus electricity only to the dewatering part of the caterpillar causing dewatering performance by an electric field by being wound around the drum.例文帳に追加

脱水作用の為の電気場を形成させる直流電源の電圧が脱水時間に依り降下し脱水能力が低下するのを防止する為に、三相交流の各相（Ｒ、Ｓ、Ｔ）別に整流された直流電圧パルスを、ドラムと、これと相互作用するキャタピラとに印加する電気浸透脱水機に関るものである。 - 特許庁

The layout design of a circuit comprises a simulation step for performing simulation of a circuit; a designation step for designating the maximum current value running between the terminals of elements configuring the circuit and element shape; and a layout composition step for automatically preparing and completing the layout of elements so that an electro-migration(EM) rule can be satisfied based on the designated maximum current value and element shape.例文帳に追加

回路のレイアウト設計において、回路のシミュレーションを行うシミュレーションステップと、回路を構成する素子の端子間を流れる最大電流値及び素子形状を指定する指定ステップと、素子のレイアウトを、指定された最大電流値及び素子形状に基づいて、エレクトロマイグレーション（ＥＭ）ルールを満足するように自動的に作成して完成するレイアウト合成ステップとを含むように構成する。 - 特許庁