「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a circuit board having a fine conductor circuit pattern such that a conductive base is excellently peeled and neither adhesion to a resin substrate after molding nor falling of the conductor pattern is caused, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

導電性基材の剥離が良好に行われ、成型後の樹脂基板との密着や、導体回路パターンの脱落のない、微細な導体回路パターンを有する回路基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern having a favorable profile while preventing decrease in solubility of a chemically amplified resist film in immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて、化学増幅型レジスト膜の溶解性の低下を防止して、良好な形状を有する微細パターン形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a high-sensitivity and high-resolution photosensitive resin composition having high sensitivity and capable of forming a fine resist pattern having a large film thickness and a high aspect ratio.例文帳に追加

感度が高く、且つ高膜厚、高アスペクト比の微細なレジストパターンを形成できる高感度、高解像性の感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a conductive paste superior in formation accuracy of a fine pattern even when carrying out continuous printing, and to provide a wiring board using the same.例文帳に追加

連続印刷を行う際にも、ファインパターンの形成精度に優れた導電性ペーストおよびそれを用いた配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

Parallel and independent control of the plurality of irradiation parts 40 enables the image recording apparatus 1 to draw a fine pattern at a high speed.例文帳に追加

複数の光照射部４０を並行かつ独立して制御することにより、画像記録装置１では高速に微細パターンの描画を行うことができる。 - 特許庁

A fine error which can not be adjusted only by the trimming of the radiation element 3 can be eliminated by trimming the ground pattern and variations in the characteristics can be suppressed.例文帳に追加

放射素子３のトリミングのみでは調整しきれない微小誤差をグラウンドパターンをトリミングすることによって解消でき、特性のバラツキを抑制できる。 - 特許庁

To provide an alkali developing type photosensitive coloring composition which is excellent in sensitivity, in adhesion property, and in resistance to alkalis, and with which a fine pattern is accurately formed.例文帳に追加

感度、密着性及び耐アルカリ性に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像型感光性着色組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a proper shape, by preventing an acid generator contained in a resist from leaching in a liquid, in immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて、レジストに含まれる酸発生剤の液体への溶出を防止して良好な形状を有する微細パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a preferable profile by preventing the influence of an immersion liquid to be used for immersion lithography on a resist film.例文帳に追加

液浸リソグラフィに用いる液浸用の液体によるレジスト膜への影響を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a composition for nano-imprint excellent in fine pattern forming properties and etching resistance, and to provide an etching resist or permanent film using the same.例文帳に追加

微細パターン形成性およびエッチング耐性に優れるナノインプリント用組成物およびこれを用いたエッチングレジスト、または永久膜を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type curable composition containing a dye which is highly sensitive, enables a fine pattern with rectangular cross sections to be formed, and at the same time, and achieves improvement in in-film uniformity of applied and formed coating.例文帳に追加

高感度で、断面矩形の微細パターンの形成が可能であると共に、塗布形成された塗膜の膜内均一性を向上させる。 - 特許庁

After the mold 8 is separated, oxygen is radiated onto a surface of the fine pattern 2a (HSQ film 2) without a heating process for the HSQ film 2.例文帳に追加

モールド８を剥離したのち、ＨＳＱ膜２の加熱過程をはさむことなく、微細パターン２ａ（ＨＳＱ膜２）の表面に酸素照射を行う。 - 特許庁

A misregistration vector indicative of positional relation of the patterns detected on the surface and bottom surface of resist is then calculated and displayed on the screen in order to evaluate the fine pattern.例文帳に追加

検出されたレジスト表面及び底面のパターンの位置関係を示す位置ずれベクトルを算出、画面表示することで微細パターンの評価を行う。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a copolymer for chemical amplification positive type semiconductor lithography, which has high developing contrast and excellent resolution in a fine pattern.例文帳に追加

現像コントラストが高く、微細パターンの解像性能に優れた、化学増幅ポジ型の半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁

The physical force resulting from a cavitation phenomenon of vapor in the processing solution is relatively small, so damage is suppressed to the fine pattern.例文帳に追加

一方、処理溶液中の水蒸気のキャビテーション現象に起因した物理力は比較的小さいため、微細パターンの損傷の発生が抑制される。 - 特許庁

To form a fine pattern having a preferable profile by improving solubility (easy removing property) on removing a barrier film in liquid immersion lithography.例文帳に追加

液浸リソグラフィにおいて、バリア膜を除去する際の溶解性（除去容易性）を向上して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁

To manufacture an organic EL display device which can display multicolored images without using a metal fine mask for pattern deposition of emission layers.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置の製造で発光層をパターン成膜するための金属製ファインマスクを使用することなしに多色画像を表示可能とする。 - 特許庁

To solve a problem of a conventional pattern forming method by which any fine patterns cannot be exactly formed due to a permeation and a spread of ink or the like.例文帳に追加

インクの滲みや広がり等に起因して微細なパターンを正確には形成できないという従来のパターン形成方法の課題を解決する。 - 特許庁

In one of the middle block holes 8, small blocks 10 of several rows are formed, and patterning is applied on the emulsion resist 9 to form a specified fine image pattern.例文帳に追加

１つの中ブロック孔８には数列の小ブロック１０が形成され、エマルジョンレジスト９にパターニングがなされて、所定の微細画像パターンが形成される。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin composition excellent in light blocking effect, that is, having a high OD value and capable of forming a fine pattern with high dimensional accuracy.例文帳に追加

遮光性に優れ、すなわち高いＯＤ値を有し、微細パターンを精度良く形成できるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a conductive paste having high conductivity excellent in fine pattern forming accuracy, and to provide a wiring board using the same.例文帳に追加

高導電性を有するファインパターンの形成精度に優れた導電性ペーストおよびそれを用いた配線基板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a connection structure of a flexible wiring board that can cope with the conductive pattern having a fine pitch and has a small thickness in the connection part with another circuit board.例文帳に追加

ファイン・ピッチの導電パターンに対応でき、別の回路基板との接続部の厚みが小さいフレキシブル配線基板の接続構造を提供する。 - 特許庁

The multiplication layer 2121 of the outer APD element 21 is constituted as an electric field buffer layer 2121 by a fine pattern containing a plurality of islands.例文帳に追加

外側のＡＰＤ素子２１の増倍層２１２１は、複数のアイランドを含む微細パターンにより電界緩和層２１２１として構成されている。 - 特許庁

To provide an electroconductive ink that enables formation of a highly fine electrode circuit pattern by a screen printing method and exhibits good electroconductivity and excellent adhesion.例文帳に追加

スクリーン印刷法による高精細な電極回路パターンの形成を可能にし、かつ導電性が良好で密着性に優れる導電性インキを提供する。 - 特許庁

To provide a high-density printed wiring board including a precise and extremely fine copper circuit pattern formed on a substrate surface, and to provide a method of manufacturing the printed wiring board.例文帳に追加

基板表面に高精度且つ極細密な銅回路パターンが形成された高密度プリント配線板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus that prevents a fine dot pattern from being transferred, even upon exposing a substrate larger than a mask whose size is in the trend of enlargement.例文帳に追加

大型化の方向にあるマスクよりも更に大きな基板への露光であっても、微細なドットパターンが転写されることのない露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photocurable resin composition from which a fine pattern can be formed in widely varying thickness by irradiation with the light having a wide wavelength range.例文帳に追加

幅広い波長領域の光で、幅広い膜厚に亘り、微細なパターン形成を行うことができる光硬化性樹脂組成物を製造する。 - 特許庁

To provide a positive radiation sensitive resin composition which is superior in line roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and can stably form a high precision fine pattern.例文帳に追加

ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a method for whisking tea which simultaneously supplies tea having fine foams to a large number of persons and produces a pattern when a tea cup is emptied.例文帳に追加

微細な泡を有するお茶を多数の人に同時に供給することができ、かつ茶碗を空にした時に文模が生起する点茶方法。 - 特許庁

Therefore, the pattern with fine pitch widths can be appropriately formed in which the influence of the proximity effect of the electron beams has not conventionally be disregarded.例文帳に追加

よって、従来、電子線ビームの近接効果の影響が無視できなかった微細なピッチ幅のパターンであっても好適にパターン形成を行なうことが出来る。 - 特許庁

To provide an alkali-soluble silicone resin excellent in weatherability, light resistance and heat resistance, and usable in a photosensitive resin composition enabling fine pattern formation.例文帳に追加

耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物に使用可能なアルカリ可溶性シリコーン樹脂を提供する。 - 特許庁

To provide a production method of a semiconductor device capable of forming a fine pattern with high precision, homogeneously, and with a high selection ratio, and a plasma etching apparatus.例文帳に追加

微細なパターンを精度良く均一に、かつ、高選択比で形成することのできる半導体装置の製造方法及びプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The unevenness of the pattern parts 4 is formed of a large number of fine ridges 41 which are distorted to extend in a random direction.例文帳に追加

模様部４の凹凸は多数の細かな凸条４１により形成され、この凸条４１が歪曲し且つランダムな方向に伸びている構成とする。 - 特許庁

To provide a molding apparatus and a molding method of a molding having a fine pattern by accurately measuring and supplying materials in the molding of the molding.例文帳に追加

成形体の成形において精度良く材料を計量供給し、微細パターンを持つ成形体の成形装置及び成形方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer device which can be used for accurately transferring a fine transfer pattern being formed in a mold to a product to be molded and a transfer method using it.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを被成型品に転写する転写装置および転写方法において、正確な転写を行なう。 - 特許庁

To provide a resist development method and a device for realizing highly precise fine pattern formation in a process for manufacturing a semiconductor device such as a super-LSI.例文帳に追加

超ＬＳＩ等の半導体デバイスの製造工程において、高精度微細パタン形成を実現するレジスト現像方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a moth-eye structure of which the fine structure pattern has moderate conical shapes, and to provide the manufacturing method of the moth-eye structure.例文帳に追加

微細構造パターンがなだらかな錐形の形状であるモスアイ構造体およびモスアイ構造体製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern correction device which can repair electrode discontinuities by using a fine wire as thin as approximately 10 μm while less contaminating the area around the defective sections.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正装置を提供する。 - 特許庁

To provide a two-beam interference aligner capable of producing a cyclic fine pattern having an optional pitch and inclination with high contrast.例文帳に追加

任意のピッチおよび傾きを持つ周期的な微細パターンを高いコントラストで製造することができる二光束干渉露光装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a pattern correcting method which can correct the electrode discontinuity by using fine wires as thin as about 10 μm with less contamination around the defects.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺の汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a fine pattern having a good figure while preventing influences on a resist film by a nonaqueous liquid, used in high-index immersion lithography.例文帳に追加

高屈折率液浸リソグラフィに用いる非水液によるレジスト膜への影響を防止して、良好な形状を有する微細化パターンを得られるようにする。 - 特許庁

To provide a defect inspection method for speedily detecting a defect of a sheet material having a formation pattern such as a fine uneven shape on a surface with good reproducibility.例文帳に追加

表面に微細な凹凸形状等の地合パターンを有するシート材の欠陥を、迅速かつ再現性良く検査する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device which easily forms a fine pattern superior in dimension accuracy without increasing the liftoff process time.例文帳に追加

リフトオフ処理時間を大にすることなく、寸法精度に優れた微細パターンを容易に形成することのできる半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a measuring method and device for easily performing exact measurement of an extremely fine line width and quantification about a profile of an etching structure on a pattern wafer.例文帳に追加

極微線幅の正確な測定やパターンウェハ上のエッチング構造のプロファイルに関する定量化が容易に行える測定方法と装置を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern having a favorable profile by improving barrier property of a barrier film formed on a resist film in immersion lithography.例文帳に追加

浸漬リソグラフィにおいて、レジスト膜上に形成されるバリア膜のバリア性を向上して、良好な形状を有する微細パターンを形成できるようにする。 - 特許庁