「fine pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(36ページ目) - Weblio英語例文検索

On the face of the coating layer 2 side of the ink receiving layer 5, a number of fine irregularities are formed and a colored pattern 6 with a coloring material is formed.例文帳に追加

インク受容層５の塗装層２側の面には、多数の微小な凹凸が形成されているとともに着色材による着色模様６が形成されている。 - 特許庁

The control unit 3 generates a fine linear groove pattern of each cell 41 by use of vector field data 34, and forms printing plate data 36.例文帳に追加

異方性反射媒体作成装置１の制御部３は、ベクトル場データ３４を用いて各セル４１の微細条溝パターンを生成し、版下データ３６を作成する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection apparatus and method for enhancing contrast to a fine defect and enhancing contrast regardless of the type, material, or shape of a defect.例文帳に追加

微細な欠陥に対するコントラストを高くしたり、欠陥の種類、材料、形状によらずコントラストを高くするパターン検査装置およびパターン検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a trench substrate capable of achieving a fine and uniform circuit pattern by performing the processing so that the trenches have the same shape, and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

トレンチの形状を同一に加工することにより、回路パターンの微細化および均一化を実現することが可能なトレンチ基板およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The thusly manufactured surface fine irregular body has low orientation of the irregular pattern, and is suitable for use in the optical element such as an anisotropic diffuser and a wire grid polarizer.例文帳に追加

このようにして製造された表面微細凹凸体は、凹凸パターンの配向度が小さく、異方性拡散体やワイヤーグリッド偏光子などの光学素子への使用に適する。 - 特許庁

A control unit 3 inputs various parameters relating to a cell 41 to generate, on the basis of rendering data 31, vector field data 34 where distribution of inclinations of the fine striation pattern is recorded.例文帳に追加

制御部３は、セル４１に関する各種パラメータを入力し、レンダリングデータ３１から微細条溝パターンの傾きの分布を記録したベクトル場データ３４を生成する。 - 特許庁

To provide a wet etching system and a patterning method which can form a fine circuit pattern without causing a failure in the shape (while maintaining particularly the width of an upper part of circuit wiring).例文帳に追加

形状不良なしに（特に、回路配線上部幅を維持しつつ）微細な回路パターンを形成し得るウエットエッチングシステム及びパターニング方法を提供する。 - 特許庁

To provide a CMOS semiconductor device, in which the limit of fine fabrication of elements can be relaxed and the pattern size of a CMOS element region be minimized.例文帳に追加

素子の微細化上の制限が緩和され、ＣＭＯＳトランジスタあるいはＣＭＯＳ素子領域のパターンサイズを縮小化し得るＣＭＯＳ半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a formation material of an original plate for fine pattern transfer giving a film having excellent adhesiveness, releasability, mechanical properties, and solvent, heat and moisture resistances.例文帳に追加

接着性、離型性、機械的特性、耐溶剤性、耐熱性及び耐湿性に優れた被膜を与える微細パターン転写用原版の形成材料を提供する。 - 特許庁

To provide a fine structure patterning method capable of preparing a uniform pattern into large area by easily solidifying various kinds and properties of substance fluids.例文帳に追加

簡便に、様々な種類、性質の物質流体を固化させることで均質なパターンを大面積に作製することのできる新しい微細構造パターニング方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a photosensitive paste capable of forming a fine pattern and capable of producing a member for a display and a display excellent in luminance and contrast.例文帳に追加

精緻なパターン形成が可能で、かつ、発光輝度やコントラストに優れたディスプレイ用部材およびディスプレイならびにこれらを製造可能な感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

To provide a pattern correction method in which an electrode disconnection part or the like can be corrected with a fine line of around 10 μm and a damage and contamination around the defective part are small.例文帳に追加

１０μｍ前後の細線で電極断線部などを修正することができ、かつ、欠陥部周辺のダメージや汚染が小さなパターン修正方法を提供する。 - 特許庁

The perforated sheet member 1 constituting the sucking face of the suction apparatus 300 has through-holes 10 arranged in a manner corresponding to the distribution pattern of the conductive fine particles 4.例文帳に追加

粒子吸着装置３００の吸着面をなす孔開きシート状部品１には、導電性微粒子４の配置に対応させた配置で貫通孔１０を形成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a p-n junction element in nano scale or semiconductor element of nano scale such as CMOS, by utilizing nano particles with no mask or fine pattern.例文帳に追加

マスクや微細パターンなしにナノ粒子を利用し、ナノスケールのｐ−ｎ接合素子またはＣＭＯＳのようなナノスケールの半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a wet developer for circuit formation with which a fine circuit pattern with high accuracy of line width can be formed by an electrophotographic method.例文帳に追加

電子写真法による回路形成用現像剤として、ライン幅精度が高く、緻密な回路パターンを形成できる回路形成用湿式現像剤を提供する。 - 特許庁

FORMING METHOD OF UPPER MAGNETIC POLE LAYER OF THIN FILM MAGNETIC HEAD, FORMING METHOD OF FINE BLOCK PATTERN OF HIGH ASPECT RATIO ON BOTTOM OF STEP ON SURFACE HAVING STEPS, AND THIN FILM MAGNETIC HEAD例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドの上部磁極層の形成方法、段差を有する表面の段差底部上に高アスペクト比微細ブロックパターンを形成する方法、並びに、薄膜磁気ヘッド - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition having excellent sensitivity and resolution and little dependence on pattern density (iso-dense bias) and capable of stably forming various fine patterns with high accuracy.例文帳に追加

感度および解像度に優れ、粗密依存性が小さく、多様な微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To prolong the service life of a pellicle film, and in addition, to more accurately and surely realize a fine resist pattern, without lowering treatment efficiency at the time of performing scanning projection alignment.例文帳に追加

走査型の投影露光おいて、ペリクル膜の長命化を実現し、かつ処理効率を下げることなく、微細なレジストパターンをより正確かつ確実に実現する。 - 特許庁

To provide a method capable of coating the inside of grooves of a flat substrate, on which a fine pattern is formed by the grooves on the surface, with a paint in a precise thickness.例文帳に追加

表面に溝によって微細なパターンが形成された平板状の基板の当該溝の中に、正確な厚さでペイントを塗布することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

Since the ultra fine pattern of the electrical interconnecting structure is inlaid in the surface of the core and is partially connected to the patterned conductive layer located on the surface of the core.例文帳に追加

その後、電気相互接続構造の超微細パターンがコアの表面にちりばめられ、コアの表面上に配置されるパターン化導電層に部分的に接続される。 - 特許庁

To provide a semiconductor device manufacturing method capable of improving the dimensional accuracy of a fine semiconductor device circuit pattern without being affected by the deterioration of junction accuracy for plotting.例文帳に追加

主偏向と副偏向により半導体装置の回路パターンを分割して荷電ビームで描画する際の繋ぎ精度の悪化の影響が無い描画パターンデータを提供できる。 - 特許庁

FORMATION OF ARRAY PATTERN WITH FINE RECESSES AND PLANAR LENS ARRAY, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND PLANAR OIL TRAP PRODUCED BY THE FORMING METHOD例文帳に追加

凹型微細形状のアレイ状パターン形成方法及びその形成方法を用いて製作される平板型レンズアレイ及び液晶表示素子及び平板型オイルトラップ - 特許庁

To provide an aligner for manufacturing a semiconductor device comprising a fine pattern with a line width 100 nm or less by using an F2 excimer laser beam as an exposure light source.例文帳に追加

Ｆ_2 エキシマレーザ光を露光光源として用いて線幅が１００ｎｍ以下の微細パターンを有する半導体装置を製造するための露光装置の提供。 - 特許庁

The processed pattern 4 is preferably formed into surface roughness that has fine ruggedness with a process depth Ra in the pipe thickness direction set to ≤10 μm.例文帳に追加

この加工模様４が、管厚方向への加工深さＲａが１０μｍ以下に設定された微細凹凸を有する表面粗さに形成することが好ましい。 - 特許庁

The fine pattern is formed by condensing a particularly ultrashort pulse laser beam to focus on an interface between a substrate and a photosensitive resin layer so as to react the photosensitive resin layer.例文帳に追加

特に極短パルスレーザを、その焦点が基板と感光性樹脂層との界面に位置するように集光して、感光性樹脂層を反応させて微細パターンを形成する。 - 特許庁

A cylinder 1 for intaglio printing includes: a columnar cylinder body 2; and a silicone sheet 3 stuck to the surface of the cylinder body 2 and having a fine pattern 5 formed thereon.例文帳に追加

凹版印刷用シリンダ１は、円柱状のシリンダ本体２と、シリンダ本体２の表面に貼り付けられた、表面に微細パターン５が形成されたシリコンシート３とを備える。 - 特許庁

To easily obtain uniform surface light emission, without forming a gradation pattern or depending on artisanship for fine adjustment of the scattered quantity by mold adjustment.例文帳に追加

グラデーションパターンを形成することなく、さらに金型調整による散乱量の微調整を職人技に頼ることなく、容易に均一な面発光を達成できるようにする。 - 特許庁

To provide a photosensitive conductive paste capable of carrying out a fine patterning and exhibiting conductivity in a comparatively lower temperature cure, and to provide a method of manufacturing a conductive pattern.例文帳に追加

微細なパターンニングが可能で、比較的低温のキュアで導電性を発現することができる感光性導電ペーストおよび導電パターンの製造方法を得る。 - 特許庁

To provide a method for producing a phase shift mask by which a fine and highly precise exposure pattern is formed, to provide a method for manufacturing a flat panel display, and to provide the phase shift mask.例文帳に追加

微細かつ高精度な露光パターンを形成することが可能な位相シフトマスクの製造方法、フラットパネルディスプレイの製造方法及び位相シフトマスクを提供する - 特許庁

To provide a copper foil for a printed wiring board which has superior heat resistance, excellent etching properties during circuit pattern formation, and is suitable for fine-pitch fabrication, and to provide a layered body using the same.例文帳に追加

耐熱性に優れ、且つ、回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適したプリント配線板用銅箔及びそれを用いた積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a copper foil for a printed wiring board and a layered body which have superior etching property during formation of a circuit pattern, are suitable for fine-pitch fabrication, and is excellently suppressed in magnetic property.例文帳に追加

回路パターン形成の際のエッチング性が良好でファインピッチ化に適し、磁性が良好に抑制されたプリント配線板用銅箔及び積層体を提供する。 - 特許庁

To provide a method of producing an imprinting stamper for simply producing an inexpensive imprinting stamper for trial production provided with a fine transfer pattern by means of a mechanical work or the like.例文帳に追加

機械加工などによって微細な転写パターンを備えた安価な試作用のインプリント用スタンパを簡単に製作できるインプリント用スタンパの製作方法を提案すること。 - 特許庁

To provide an ink composition forming a fine pattern which can accurately form an image required for various types of electronic parts by a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

各種電子部品などに所望される画像を、凸版反転印刷法により正確に形成することができる微細パターン形成用インキ組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a coating unit capable of easily correcting a fine pattern of ≤10 μm without damaging a substrate even when the surface of the substrate has unevenness.例文帳に追加

基板表面に凹凸がある場合でも、基板を損傷することなく１０μｍ以下の微細なパターンを容易に修正することが可能な塗布装置を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board where reduction in reliability is prevented in interlayer connection in a through hole having a high aspect ratio and a fine pattern is formed, and to provide a method for manufacturing the wiring board.例文帳に追加

高アスペクト比のスルーホールにおける層間接続の信頼性の低下を防止し，ファインパターンが形成された配線板およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

Both the surfaces of a double-sided copper plated laminated board 1 are subjected to a through-hole plating treatment thinner than usual, and then a fine wiring pattern is formed at a necessary position.例文帳に追加

両面銅張積層板１の両面に対して通常より薄くスル−ホ−ルメッキ処理を施した後、必要な箇所に微細な配線パタ−ン３を形成する。 - 特許庁

To provide a method for refining a resin-dissolved solution, the method minimizing fine particles and dirt, etc., and significantly reducing the number of defects in a pattern.例文帳に追加

微細粒子及びゴミ等を極力低減させ、パターンにおける欠陥数を大幅に低減することができる樹脂溶解液の精製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a stencil mask with which an appropriate pattern can be formed through one time of exposure in a case where fine patterns and rough patterns coexist, and to provide a method of manufacturing the mask.例文帳に追加

微細なパターンと粗大なパターンとが混在する場合において、１回の露光で適正なパターンが形成できるステンシルマスク及びその製法を提供する。 - 特許庁

The spatial distribution of at least one physical quantity selected from density, refractive index, unevenness, and orientation state is formed as a fine pattern.例文帳に追加

その結果得られた高分子について、密度、屈折率、凹凸形状、配向状態のいずれか１つ以上の物理量の空間分布が微細なパターンとして形成される。 - 特許庁

To provide a roll and a cold rolling method for metal sheet to produce a metal sheet having a cross grinding pattern with even gloss and fine brightness.例文帳に追加

クロス研磨目を付与した、光沢ムラのない光沢に優れた金属板を得ることの可能な圧延用ロールおよび金属板の冷間圧延方法を提供する。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a stamper for manufacturing an optical disk which forms an optical disk having a fine pattern by a new method which is not the improvement of a wavelength and a numerical aperture.例文帳に追加

波長やＮＡの改良ではない新たな手法により、微細なパターンを有する光ディスクを形成可能な光ディスク製造用スタンパーの製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve precision of a fine resist pattern by carrying out proximity effect correction and effecting correction on a rule basis for dimensional variation caused by the influence other than the proximity effect.例文帳に追加

近接効果補正を行うとともに、近接効果以外の影響による寸法変化に対しルールベースで補正することにより、微細なレジストパターンの精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a semiconductor device, in which a diffused resistance element whose resistance is high can be formed with high controllability and a fine pattern, and a method for manufacturing this device.例文帳に追加

抵抗値の高い拡散抵抗素子を、制御性良く且つ微細なパターンで形成できる半導体装置及びその製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor device having a fine gate electrode, while suppressing the difference in dimensions and difference in shapes, regardless of the density of an electrode pattern.例文帳に追加

電極パターンの疎密の程度に関わらず、寸法差や形状差を抑制して微細なゲート電極を備えた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in roughness, etching resistance, sensitivity and resolution and capable of stably forming a fine pattern with a high degree of accuracy.例文帳に追加

ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度に、かつ安定して形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁