「heat treatment surface」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical film for a display is obtained by applying a near IR absorbing layer on at least one surface of a base film, the near IR absorbing layer giving such properties that the obtained optical film shows 1% or less changes in the transmittance at wavelengths in a range of 380 to 1,100 nm after a heat treatment at 105°C and 40% humidity for 12 hours.例文帳に追加

基材フィルムの少なくとも片面に、得られるフィルムの波長３８０〜１１００ｎｍにおける各波長での透過率の、温度１０５℃湿度４０％下で１２時間熱処理後の透過率変化が１％以下となるような近赤外線吸収層を設けて、ディスプレイ用光学フィルムを得る。 - 特許庁

The oxygen gas barrier molding includes a synthetic resin molding 1 and a silica film 2 provided for a part or all of this synthetic resin molding surface, wherein the silica film assumes the silazane compound to be a precursor, and is formed by carrying out the ultraviolet irradiation and heat treatment simultaneously to the silazane compound, and the oxygen permeability is less than 0.5 ml/m^2/day.例文帳に追加

合成樹脂成形体１と、この合成樹脂成形体表面の一部又は全部に設けられるシリカ膜２とを備え、前記シリカ膜が、シラザン化合物を前駆体とするものであって、前記シラザン化合物に、紫外線照射を行うと同時に加熱処理を行うことで形成され、酸素ガス透過度が、０．５ｍｌ／ｍ^２・ｄａｙ未満である酸素ガスバリア成形体。 - 特許庁

A composite body contg. at least aluminum and preferably SiC is charged into a vessel charged with aluminum fluoride powder and water, and, after that, the vessel is heated, by which the composite body is subjected to heat treatment at ≥100°C, and aluminum exposed to the surface of the composite body is covered with fluoride preferably contg. an aluminum hydroxide- fluoride main crystal phase.例文帳に追加

少なくともアルミニウムと、好ましくはＳｉＣを含んでなる複合体を、フッ化アルミニウム粉末と水とが入った容器中に入れ、その後、この容器を加熱することによって、前記複合体に１００℃以上の温度で熱処理を施し、前記複合体の表面に露出したアルミニウムを、好ましくは、水酸化フッ化アルミニウム主結晶相を含んだフッ化物で覆う。 - 特許庁

In this method for producing crystallized glass, in the state where a potassium compound is brought into contact with the surface of the crystallized glass where β-quartz solid solution is deposited as a main crystal, heat treatment is performed at a lower temperature by 10-150°C than a glass transition point Tg of the crystallized glass for a time within 120 minutes.例文帳に追加

本発明の結晶化ガラスの製造方法は、主結晶としてβ−石英固溶体が析出した結晶化ガラスの表面に、カリウム化合物を接触させた状態で、該結晶化ガラスのガラス転移点Ｔｇより１０〜１５０℃低い温度、１２０分以下の時間で熱処理することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a bristle material for a polishing brush which is used for deburring and polishing metal parts such as general steel materials, stainless steels, and aluminum after being machined and for surface treatment of steel sheets for an automobile and which reduces an environmental load when discarded and has superior wet heat resistance and weld resistance, and also provide a polishing brush using the bristle material.例文帳に追加

一般鋼材やステンレス・アルミ等の金属部品加工後のバリ取りや研磨仕上げ、自動車用鋼板の表面処理等に利用される研磨ブラシ用毛材およびその毛材を用いた研磨ブラシに関し、廃棄時の環境負荷を低減し、かつ耐湿熱性および耐溶着性に優れた研磨ブラシ用毛材を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the microstructure array, a thermoplastic resin material 2 is applied to a substrate 1 in a desired patterning shape corresponding to the arrangement of a desired microstructure array, the patterned thermoplastic material layer 2 is deformed in a discrete state by heat treatment, and a continuous film 3 is formed on the deformed surface of the thermoplastic material layer 2 and the substrate 1.例文帳に追加

マイクロ構造体アレイの作製方法において、基板1上に熱可塑材料層2を所望のマイクロ構造体アレイの配列に応じて所望の形状でパターニングし、離散状態においてパターニングした熱可塑材料層2を熱処理にて変形させ、変形した熱可塑材料層2面及び基板2上に連続膜3を形成する。 - 特許庁

Light irradiation by a flash lamp takes place in a short time from a side of a processed surface on a material to be processed placed in a processing chamber for carrying out the processing by means of plasma discharge, and high temperature heat treatment in an extremely short time takes place in an atmosphere containing highly concentrated radicals and ions to obtain formation and reformation of a thin film.例文帳に追加

プラズマ放電を用いた処理を行っている処理チャンバ内に配置された被処理体に対して、フラッシュランプによる短時間の光照射を処理面側から行い、高密度のラジカルとイオンを含む雰囲気下で極短時間の高温熱処理を行って薄膜形成及び薄膜改質を実現する半導体装置の製造方法及び製造装置である。 - 特許庁

An LOCOS film 5 is formed on a semiconductor substrate 1, an oxide film 6 is formed on the resulting semiconductor substrate 1, impurities are introduced to the surface of the semiconductor substrate 1 through an oxide film 3 and then heat treatment is performed in order to diffuse introduced impurities under an atmosphere containing an oxidizing gas thus fabricating a semiconductor device.例文帳に追加

半導体基板１上にＬＯＣＯＳ膜５を形成し、得られた半導体基板１上に酸化膜６を形成し、酸化膜３を介して半導体基板１表面に不純物を導入し、酸化性ガスを含有する雰囲気下で導入された不純物を拡散する熱処理を行う半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The porous carbon plate is manufactured by coating (capsulizing) the surface of carbonaceous powder by phenol resin by stirring and mixing the carbonaceous powder and water soluble phenol resin in polar solvent, preferably with water, further, by mixing the coated carbonaceous powder into phenol resin, stirring, forming, and by applying heat treatment to the mixture under inert atmosphere.例文帳に追加

多孔質カーボンプレートの製造方法は、炭素質粉末と水溶性フェノール樹脂を極性溶媒、好ましくは水存在下で攪拌・混合することにより、炭素質粉末表面をフェノール樹脂でコーティング（「カプセル化」）し、さらに、このようにコーティングされた炭素質粉末をフェノール樹脂と混合し、攪拌、成形し、不活性雰囲気下で熱処理することからなる。 - 特許庁

The surface of the substrate 2 with the mask 7 formed thereon is subjected to heat treatment in an oxygen-containing atmosphere, and this oxidizes a predetermined region of the conductive hydrogen barrier film 6 for the conversion of at least a part of the region in contact with the contact plug 5 into a conductive hydrogen barrier layer 8.例文帳に追加

次に、マスクが形成された基板表面を、酸素を含む雰囲気で熱処理して導電性水素バリア膜の所定領域を酸化させ、コンタクトプラグに接する領域の少なくとも一部を導電性水素バリア層８とし、導電性水素バリア層となる領域以外に絶縁性水素バリア層９を形成する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes at least a resist pattern thickening step of applying and heating a resist pattern thickening material for covering the surface of a resist pattern, after the resist pattern is formed, and developing the material to thicken the resist pattern; and a heat treatment step of further heating the thickened resist pattern.例文帳に追加

本発明のレジストパターンの形成方法は、レジストパターンを形成後、該レジストパターンの表面を覆うように、レジストパターン厚肉化材料を塗布し、加熱した後、現像することにより前記レジストパターンを厚肉化するレジストパターン厚肉化工程と、厚肉化後のレジストパターンを更に加熱する加熱処理工程とを少なくとも含む。 - 特許庁

To provide an inexpensive manufacturing method for a thin-film EL element and the thin-film EL element provided with an alkaline-earth metal sulfide EL luminescent layer preventing adsorption of carbon dioxide and vapor, etc., into the surface of a substrate, and having an excellent luminance and a long life without heat treatment after the formation of the luminescent layer.例文帳に追加

基板表面への炭酸ガスや水蒸気などの吸着を防ぎ、発光層成膜以後の熱処理を行うことなく、発光輝度、寿命特性に優れるアルカリ士類金属硫化物ＥＬ発光層を備えた薄膜ＥＬ素子を安価に得る製造方法や、そのようなすぐれた特性を持つ薄膜ＥＬ素子を提供すること。 - 特許庁

To provide a ceramics having sufficient fracture toughness without degrading a bending strength remarkably even when surface roughening treatment is applied to obtain a satisfactory anchor effect, particularly aluminum nitride substrate or a silicon nitride substrate having high heat conductivity, high reliability to insulation property, high bending strength and strong fracture toughness and further having anchor effect to improve the bonding strength to a metallic layer.例文帳に追加

十分なアンカー効果を得るために粗面化処理を行っても、強い破壊靱性を有し、抗折強度を著しく低下させることのないセラミックス、特に高熱伝導性でしかも絶縁特性に対して高い信頼性と、高抗折強度と強破壊靱性を有し、しかもアンカー効果によって金属層との接合強度が強めることができる窒化アルミニウム基板又は窒化ケイ素基板を提供する。 - 特許庁

In addition, a silicon oxide film 106 is formed on the surface of end of the aperture of the ONO film 102 by conducting heat treatment to the semiconductor substrate 101 in an atmosphere including an oxygen and halogen compound, and a bit line oxide film 107 is simultaneously formed to the upper part of each n-type diffusing layer 104 by oxidizing the upper part of the n-type diffusing layer 104.例文帳に追加

さらに、酸素およびハロゲン化合物を含む雰囲気で半導体基板１０１に熱処理を行なって、ＯＮＯ膜１０２の開口部の端部表面にシリコン酸化膜１０６を形成すると同時に、各ｎ型拡散層１０４の上部を酸化することにより、各ｎ型拡散層１０４の上部にビットライン酸化膜１０７を形成する。 - 特許庁

Also, in the case of using a laser as the high energy light source, since the exposure process is performed by exposing a laser light source to the photosensitive material of an area where the microlens is scheduled to be formed and irradiating it with a laser beam, the exposed photosensitive material surface is fused by the heat treatment and the microlens is formed, a mask can be omitted at the time of the exposure process.例文帳に追加

また、高エネルギー光源としてレーザーを使用する場合、マイクロレンズが形成される予定領域の感光材にレーザー光源を当ててレーザービームを照射することにより露光工程を行い、熱処理で露光された感光材表面を溶融させてマイクロレンズを形成できるので、露光工程時にマスクを省略できる。 - 特許庁

In the resin-made heat exchanger, a metal-made fin 12 is interposed between resin-made tubes 11 provided side by side to each other, and it is characterized by that a metal layer 17 is formed on an outer face of the resin-made tube 11, and preferably, the metal layer 17 is formed by carrying out surface treatment such as plating on the outer face of the resin-made tube 11.例文帳に追加

本発明は、並設された樹脂製チューブ１１の間に金属製フィン１２が介装された樹脂製熱交換器であって、樹脂製チューブ１１の外面に金属層１７が形成されていることを特徴とし、好ましくは、その金属層１７は、樹脂製チューブ１１の外面にメッキ等の表面処理を行うことにより形成されている。 - 特許庁

An Sn-base soft metal ingot containing substantially Sn or Sn containing alloy elements in one or more kinds of Cd, Pb, Sb, Bi belonging to a sub-group from II group to V group in the periodic table, is applied to forging and heat-treatment, and secondary-recrystallized area is made to be ≥65 vol% to produce the Sn-base soft metal-made surface plate.例文帳に追加

実質的にＳｎ、またはＳｎと周期律表のII族からＶ族までの亜族に属するＣｄ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂｉの１種または２種以上の合金元素を含むＳｎ系軟質金属インゴットを、鍛造および熱処理を施して二次再結晶した面積を６５vol％以上としたＳｎ系軟質金属製定盤とその製造方法である。 - 特許庁

After HSG-Si 15a are formed on the surface of a polysilicon film 15, phosphorus is diffused in the HSG-Si 15a by performing heat treatment at a prescribed temperature by means of a phosphorus diffusing device in a state where the O2/POCl3 mol ratio is adjusted to 0.2-1.5 in the atmosphere of a mixed gas of POCl3 gas and O2 gas.例文帳に追加

ポリシリコン膜１５の表面にＨＳＧ−Ｓｉ１５ａを形成した後、リン拡散装置にてＰＯＣｌ_3ガスとＯ_2ガスとＮ_2ガスの混合ガス雰囲気下でＯ_2／ＰＯＣｌ_3モル比を０．２ないし１．５の範囲に調整した状態で所定の温度にて熱処理を行うことにより、ＨＳＧ−Ｓｉ１５ａ中にリンを拡散する。 - 特許庁

A metal film 11 is formed on a prepared wafer 10, etching the metallic film 11 forms IDTs 2 and reflectors 3, the frequency is adjusted by trimming a piezoelectric substrate 10a and the IDTs 2 which are part of the wafer 10, the surface of the IDTs 2 are rapidly modified through heat treatment under an oxygen atmosphere, to form a modified layer so as to stabilize the characteristics.例文帳に追加

ウエハ１０を用意し、ウエハ１０上に金属膜１１を形成し、金属膜１１をエッチングしてＩＤＴ２及び反射器３を形成し、ウエハ１０の一部である圧電基板１０ａ及びＩＤＴ２をトリミングして周波数を調整し、ＩＤＴ３表面を酸素雰囲気中での熱処理により急速に変質させて変質層を形成して特性を安定させる。 - 特許庁

The manufacture of this ceramic manifold for a solid electrolyte type fuel cell comprises such steps as manufacturing a dispersion liquid by adding a dispersion medium to a powder of castable fire-resistant material, pouring the dispersion liquid in a die having a specific shape for molding, heat treating the material upon taking out of the die, subjecting it to a surface treatment using ceramic sol, and a step to dry.例文帳に追加

また、本発明は、キャスタブル耐火物の粉体に分散媒を添加し分散液を製造するステップと、該分散液を所定形状の型に流し込んで成形するステップと、該型から取り出して熱処理するステップと、セラミックスのゾルを用いて表面処理を施すステップと、乾燥ステップとを含む固定電解質型燃料電池用セラミックスマニホールドの製造方法を提供する。 - 特許庁

At the time of manufacturing a high conductivity and high bendability copper alloy wire composed of an in-situ formed chromium fiber reinforced copper or copper-alloy matrix composite and obtained by forming in-situ a chromium layer fiber in a copper or copper-alloy matrix, the surface of the wire is tin plated in a stage after the completion of required heat treatment and then heavy plastic working is applied to modify the plating layer.例文帳に追加

その場（In Situ)形成クロム繊維強化銅あるいは銅合金マトリックス複合材料からなる高導電性・高屈曲性銅合金線において、銅あるいは銅合金マトリックスにクロム層繊維をその場形成せしめてなる線材の製造に際し、必要な熱処理完了後の工程で、該線材表面をスズメッキし、次いで強塑性加工を加えて該メッキ層を改質してなる。 - 特許庁

The ink jet recording medium is formed such that it has at least two layers of ink acceptable layers on a paper base body, the uppermost surface layer of which consists of porosity containing a thermoplastic latex resin, and also it can be subjected to a heat transparency treatment, and further its apparent density is 0.95-1.15 g/cm3 according to JISP8118 of the paper base body.例文帳に追加

紙基体上にインク受容層を少なくとも２層有し、その最表層が熱可塑性ラテックス樹脂を含む多孔質からなり、インクジェット記録後、最表層を加熱透明化処理することのできるインクジェット記録媒体であって、前記紙基体のＪＩＳＰ８１１８による見かけ密度が０．９５〜１．１５ｇ／ｃｍ^3であることを特徴とするインクジェット記録媒体。 - 特許庁

A nonwoven fabric comprising heat resistant fibers and fibrillation liquid crystal polymer fibers is subjected to at least one surface treatment selected from low temperature plasma processing, surfactant processing, grafting, sulfonation, fluorination, hydroentaglement process, and resin coating thus producing a separator for an electrochemical element, e.g. a capacitor.例文帳に追加

少なくとも耐熱性繊維と、フィブリル化液晶性高分子繊維とを含有する不織布に、低温プラズマ処理、界面活性剤処理、グラフト処理、スルホン化処理、フッ素処理、水流交絡処理、樹脂コーティング処理から選ばれる少なくともひとつの表面処理が施されていることを特徴とする、キャパシタ等の電気化学素子に用いることができるセパレータ。 - 特許庁

This method for forming an insulation film on surface of an electrode for an ozone-generating electrode is characterized by comprising a mixing process for mixing a barium titanate whisker into an inorganic metal oxide sol, a coating process for coating the sol mixed with the whisker on the electrode made of aluminum or its alloy, and a heat treatment process for heat treating the coated sol to form the insulation film.例文帳に追加

オゾン発生電極の電極板上に絶縁皮膜を形成する方法において、チタン酸バリウムウィスカーを無機質金属酸化物ゾルに混入させる、混入工程と、混入工程後の無機質金属酸化物ゾルを、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる電極板上に塗布する、塗布工程と、塗布工程後の無機質金属酸化物ゾルを熱処理して絶縁皮膜を形成する、熱処理工程と、を有することを特徴としている。 - 特許庁

The manufacturing method for an epitaxial wafer comprises: RIE elimination step of eliminating defects that are detected by the RIE method and measurable in an area up to at least 0.5 μm depth from the surface of the silicon substrate, by applying rapid heat treatment to the silicon substrate; and a step of forming the silicon epitaxial layer on the surface of the silicon substrate where defects having been detected by the RIE method are eliminated.例文帳に追加

前記シリコン基板に急速熱処理を施すことによって、少なくとも前記シリコン基板の表面から０．５μｍの深さまでの領域に存在するＲＩＥ法により検出される欠陥を消滅させるＲＩＥ欠陥消滅工程と、前記ＲＩＥ法により検出される欠陥を消滅させたシリコン基板の表面上に前記シリコンエピタキシャル層を形成する工程とを具備するエピタキシャルウェーハの製造方法。 - 特許庁

An anatase type titanium dioxide excellent in crystallinity can be produced by applying anodization to the surface of a substrate comprising titanium or a titanium alloy with high-voltage application or under a high-current density condition, alternatively by applying to the heat treatment to the film made on the substrate surface by the anodization method including application of high voltage or made thereon by the anodization method under the high-current density condition.例文帳に追加

チタンまたはチタン合金からなる基材の表面に、高電圧を印加して陽極酸化を施すことによりあるいは高電流密度条件下に陽極酸化を施すことにより、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造することができ、さらに、該基材の表面に、高電圧を印加しての陽極酸化法あるいは高電流密度条件下の陽極酸化法により作製した膜に熱処理を施すことで、結晶性に優れたアナタース型二酸化チタンを製造することができる。 - 特許庁

A solar cell manufacturing method includes the steps of coating a front surface of a semiconductor substrate with a dispersing agent containing either a p-type dopant or an n-type dopant, performing heat treatment on the dispersing agent to solidify the dispersing agent, partially removing and patterning the solidified dispersing agent, and dispersing the dopant from the patterned dispersing agent to form a dispersion layer on the front surface of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の表面上にｐ型ドーパントまたはｎ型ドーパントのいずれか一方を含む拡散剤を塗布する工程と、拡散剤を熱処理することによって固化させる工程と、固化した拡散剤の一部を除去して拡散剤をパターンニングする工程と、パターンニングされた拡散剤からドーパントを拡散させることにより半導体基板の表面に拡散層を形成する工程と、を含む、太陽電池の製造方法である。 - 特許庁

In this sealing method, a composition containing metal silicon particles is selectively packed in the vicinity of the opening of the through-holes to be sealed on each end surface, then the silicon nitride filter is subjected to heat treatment in a nitrogen atmosphere so that the metal silicon particles contained in the composition are nitrided and formed into silicon nitride for sealing.例文帳に追加

概ね柱状体の外形を有し、かつ相対する端面間に開口する互いに平行な複数の貫通孔を有する窒化ケイ素質フィルタの封止方法であって、前記端面の各々について、封止すべき貫通孔の開口部の近傍に金属ケイ素粒子を含む組成物を選択的に充填した後、前記窒化ケイ素質フィルタを窒素雰囲気下で熱処理し、前記組成物に含まれる金属ケイ素粒子を窒化させて窒化ケイ素にして封止することを特徴とする窒化ケイ素質フィルタの封止方法。 - 特許庁

The method for producing the polyimide resin film for an optical part includes a process for applying the polyimide precursor solution on the surface of a support, a process in which the solvent of the applied solution is removed by heating to form a polyimide precursor coating film of a desired thickness, and a process in which the coating film is subjected to heat treatment to form a polyimide resin layer by converting the precursor into the polyimide.例文帳に追加

支持体表面へのポリイミド前駆体溶液を塗布する工程と、前記ポリイミド前駆体塗布膜中の溶剤の加熱除去を行い所望の膜厚のポリイミド前駆体塗膜を形成する工程と、この溶剤が除去されたポリイミド前駆体塗膜に熱処理を施し前記ポリイミド前駆体をイミド化してポリイミド樹脂層を形成する工程を有することを特徴とする光部品用ポリイミド系樹脂膜の製造方法。 - 特許庁

In this coating film, the surface of a stainless steel sheet 1 is formed with a dense layer 2 essentially consisting of silicon dioxide obtained by subjecting a solution containing perhydropolysilazane and polyorganosilazane, and in which the content of perhydropolysilazane is 0.65 to 0.95 to the total content of polysilazane including perhydropolysilazane and polyorganosilazane to heat treatment in the air or in an atmosphere containing water vapor.例文帳に追加

本発明のコーティング膜は、ステンレススチール板１の表面に、ペルヒドロポリシラザン及びポリオルガノシラザンを含みかつペルヒドロポリシラザンの含有量がペルヒドロポリシラザン及びポリオルガノシラザンを含むポリシラザン全体量に対して０．６５〜０．９５である溶液を、大気中もしくは水蒸気を含む雰囲気中で熱処理して得られる二酸化珪素を主成分とする緻密層２を形成したことを特徴とする。 - 特許庁

The heat exchanger comprises a large number of fins arranged in parallel at a constant interval to pass the air, and refrigerant tubes arranged in two or more rows at a constant interval with respect to the fins and internally passing a working fluid, e.g. refrigerant, wherein the refrigerant tubes are subjected to surface treatment by immersing them into triethanoamine, sodium carbonate or ammonia aqueous solution.例文帳に追加

空気が通過するように一定間隔で平行に配置された多数のフィンと、フィンに少なくとも二つ以上の列をなしながら一定間隔で配列され、その内部に冷媒などの作動流体が流れる冷媒管を備える熱交換器において、凝縮水が宿ることを防止するためにフィンと冷媒管をトリエタノールアミン、または炭酸ナトリウム、またはアンモニア水溶液に浸すことによって表面処理されたことを特徴とする。 - 特許庁

This method for producing the carbon fiber involves carbonizing an acrylonitrile-based precursor fiber in which wet heat draw ratio in a wet type spinning step is ≥2.5 times and carrying out electrolytic surface treatment of the carbon fiber in an electrolytic solution having 1-2 normal concentration of nitric acid ion at 10-30°C under a condition of 7.5-50 coulomb/g quantity of electricity.例文帳に追加

表面積比が１．１以上であり、サイクリックボルタンメトリー法により測定される表面特性ｉｐａが０．３〜０．８μＡ／ｃｍ^２であることを特徴とする炭素繊維及び湿式法紡糸工程における湿熱延伸倍率が２．５倍以上であるアクリロニトリル系前駆体繊維を炭素化した後、温度が１０〜３０℃、硝酸イオン濃度が１〜２規定の電解質液中で、電気量が７．５〜５０クーロン／ｇの条件で該炭素繊維を電解表面処理することを特徴とする炭素繊維の製造方法である。 - 特許庁

The pigment dispersion contains at least a self dispersion type pigment having at least one hydrophilic dispersibility-imparting group introduced to the pigment surface directly and/or via a multivalent group, wherein the pigment dispersion is subjected to heat treatment in a state of containing the self dispersion type pigment, the wetting agent of 0.1 to 10 mass% of the total amount of the pigment dispersion, and water.例文帳に追加

少なくとも一つの親水性分散性付与基を直接及び／または多価の基を介して顔料表面に導入された自己分散型顔料と、湿潤剤と、水とを少なくとも含んでなる顔料分散液であって、 前記顔料分散液は、前記自己分散型顔料と、顔料分散液全量に対する量として０．１質量％〜１０質量％の湿潤剤と、水とを少なくとも含んだ状態で加熱処理されていることを特徴とする、顔料分散液。 - 特許庁

The method of forming fine pattern comprises the steps of covering a substrate including the photoresist pattern with the cover forming agent for obtaining the fine pattern, removing unwanted cover forming agent adhered to the end edge portion and/or rear surface of the substrate, thermally contracting the cover forming agent with the heat treatment and narrowing the interval between photoresist patterns by utilizing the thermal contracting operation, and removing the cover forming agent.例文帳に追加

ホトレジストパターンを有する基板上にパターン微細化用被覆形成剤を被覆する工程、基板の端縁部および／または裏面部に付着した不要な被覆形成剤を除去する工程、熱処理により該被覆形成剤を熱収縮させ、その熱収縮作用を利用してホトレジストパターン間の間隔を狭小せしめる工程、および上記被覆形成剤を除去する工程を含む、微細パターンの形成方法。 - 特許庁