「inter- layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Ion injection is performed by a first acceleration voltage with respect to the inter-layer insulating film 140, thereby to form a first ion layer 310.例文帳に追加

層間絶縁膜１４０に対して第１の加速電圧でイオン注入を行い第１イオン層３１０を形成する。 - 特許庁

A silicon nitride film 103 and an inter-layer insulating film 102 are formed on lower layer wiring 101, and contact and trench dry etching is carried out.例文帳に追加

下層配線１０１上にシリコン窒化膜１０３と層間絶縁膜１０２を成膜し、コンタクト及びトレンチドライエッチングを行う。 - 特許庁

On the first inter-layer insulating film, a source electrode layer 44 is formed at a position corresponding to the top of the redundant wiring 41.例文帳に追加

第１層間絶縁膜の上には、冗長配線４１の上に対応する位置に、ソース電極層４４が形成されている。 - 特許庁

The rewiring layer 30 includes inter-layer wiring lines 24A, 24B, in-plane wiring lines 25A, 25B, and post electrodes 27A, 27B.例文帳に追加

再配線層３０は、層間配線２４Ａ，２４Ｂ、面内配線２５Ａ，２５Ｂおよびポスト電極２７Ａ，２７Ｂを含んでいる。 - 特許庁

An inter layer dielectric layer 31, 32 are located on a side of first main surface 13 and side of second main surface 14 of the core substrate 12.例文帳に追加

層間絶縁層３１，３２は、コア基板１２の第１主面１３側及び第２主面１４側に配置されている。 - 特許庁

To enable semiconductor device to be lessened in inter-wiring and inter-wiring layer effective dielectric constant and inter-wiring and inter-wiring layer capacitance.例文帳に追加

セルフアラインデュアルダマシン法では、配線層間と配線間の各絶縁膜に有機材料を用い、配線間の絶縁膜をエッチング加工する際に、これらの絶縁膜の層間の全面に有機材料よりも誘電率の高いエッチングストッパ層を用いるため、実効的な誘電率の低減が十分にできないという問題の解決を図る。 - 特許庁

As an inter-membrane differential pressure equalizing member, there are a spacer 2 interposed between separating membranes 1, a supporting layer for the active layer of the separating membrane and a reinforcing member for reinforcing the active layer and the supporting layer of the separating film or the like.例文帳に追加

膜間差圧均一化部材には、分離膜１間に介在するスペーサー２、分離膜の活性層の支持層、分離膜の活性層と支持層を補強する補強材などがある。 - 特許庁

A wiring layer 2 is formed on an inter-layer insulating layer 1, and a dielectric layer 4 and an upper electrode layer 5 are filmed in order to form a capacitor 7 on a lower electrode 3 as a part of the wiring layer 2.例文帳に追加

層間絶縁層１上には配線層２が形成されており、配線層２の一部として形成された下部電極３上には誘電体層４及び上部電極５が順次成膜されコンデンサ７が形成されている。 - 特許庁

To provide an inter-layer closing device, preferably closing an inter-layer gap without restrictively connecting a wall panel and a floor material to each other, and surely preventing diffusion of smoke from a lower story to an upper story.例文帳に追加

壁パネルと床材とを拘束的に結合することなく層間隙間を好適に塞ぎ、下層階から上層階への煙の拡散を確実に防止することができる層間塞ぎ装置を提供する。 - 特許庁

A control gate electrode 22 of a non-volatile memory is formed in a hole formed in an inter-layer insulating film, and a hole 22a formed in the inter-layer insulating film on source/drain areas is made shallow.例文帳に追加

不揮発性メモリの制御ゲート電極２２を、層間絶縁膜に形成される孔に形成する構造をとり、ソース及びドレイン領域上の層間絶縁膜に形成される孔２２ａを浅くする。 - 特許庁

Then, a thin film coil 15 in the second layer is formed on the recording gap layer 10, and an inter-coil connecting part 15A integrated with a thin coil 15 is formed on the exposed face of the inter-coil connecting part 13A.例文帳に追加

次に、記録ギャップ層１０の上に第２層目の薄膜コイル１５を形成すると共に、コイル間接続部１３Ａの露出面に薄膜コイル１５と一体をなすコイル間接続部１５Ａを形成する。 - 特許庁

The groove 2 is formed on an inter-layer insulating film so as to transverse a chip 10 concerning the semiconductor device 1 including the chip 10 with the inter-layer insulating film.例文帳に追加

半導体装置１は、層間絶縁膜を有するチップ１０を備えた半導体装置において、チップ１０を横断するように、層間絶縁膜に溝２が形成されていることを特徴としている。 - 特許庁

To prevent the failure of inter-metallic wiring short-circuit in the same layer embedded in a wiring groove even when a film whose mechanical strength is weak such as a carbon content silicon oxide film is used for inter-wiring layer insulating film.例文帳に追加

炭素含有シリコン酸化膜のような機械的強度の弱い膜を配線層間の絶縁膜に用いても、配線溝に埋め込み形成される同層の金属配線間の短絡不良を防止する。 - 特許庁

To provide a formation method for an inter-metal layer insulating film of a semiconductor element by which element characteristics are effectively prevented from deteriorating by preventing the formation of an inter-metal wiring abnormal film caused by etching for a part of metal wiring when an inter-layer insulating film is formed.例文帳に追加

層間絶縁膜形成時に金属配線の一部がエッチングされることで金属配線間の異常膜が形成されるのを防止し、素子特性の劣化を有効に防止できる半導体素子の金属層間絶縁膜形成方法を提供する。 - 特許庁

The first wiring layer 111 has a first via 113 comprising copper wire erected, which is embedded in a first inter-layer insulating layer 115 formed on the first insulating layer 103 and the first wiring layer 111.例文帳に追加

第１配線層１１１には、銅ワイヤからなる第１ビア１１３が立設され、第１絶縁層１０３及び第１配線層１１１上に形成された第１層間絶縁層１１５内に埋め込まれている。 - 特許庁

The single-crystal silicon layer is stuck on the top surface, consisting of the 1st inter-layer insulating film 12 formed of the 1st insulator layer 12A and 2nd insulator layer 12B and this single-crystal silicon layer is used to form a transistor element.例文帳に追加

第１の絶縁体層１２Ａと第２の絶縁体層１２Ｂとからなる第１層間絶縁膜１２の表面上に単結晶シリコン層を貼り合わせ、単結晶シリコン層を用いてトランジスタ素子を形成する。 - 特許庁

If the inter-level via is offset over the edge of the metallization layer, the metal in the via contacts the embedded stop layer and not the first dielectric layer, whereby the embedded stop layer serves as a copper diffusion layer.例文帳に追加

もし、レベル間バイアが金属化層の縁上からずれていれば、バイア内の金属は埋込みストップ層に接触し、第１の誘電体層には接触しないので、埋込みストップ層は銅拡散バリヤーとして役立つ。 - 特許庁

There is a large adhesion area between the cladding and the protective layer or between the protective layers and the inter-layer adhesibility is strong.例文帳に追加

クラッドと保護層との間、或いは、保護層と保護層との間、の接着面積が大きく、これら層間の接着力が大きい。 - 特許庁

To provide an electric double-layer capacitor device with an inter-terminal voltage monitored of one or a plurality of electric double-layer capacitors.例文帳に追加

１又は複数の電気二重層コンデンサの端子間電圧の監視を可能にした電気二重層コンデンサ装置を提供すること。 - 特許庁

Consequently, an inter-layer insulating film layer 25 is formed into uneveness, in conformity with a conductive part 22 formed on the substrate 18.例文帳に追加

これにより、前記基板１８上に形成された導電部２２に沿った凹凸形状の層間絶縁膜層２５が形成される。 - 特許庁

After a 4th inter-layer insulating film 20 is formed covering a TMR element 18, the 4th inter-layer insulating film 20 is polished by using slurry which is slow in polishing speed for the metal, such as Pt, Au, and W, constituting an upper magnetic layer 17 of the TMR element 18 and fast in polishing speed for the 4th inter-layer insulating film 20.例文帳に追加

ＴＭＲ素子１８を覆うように第４の層間絶縁膜２０を形成した後、ＴＭＲ素子１８の上磁性層１７を構成するＰｔ、Ａｕ、Ｗ等の金属に対する研削速度が遅く、第４の層間絶縁膜２０に対する研削速度が速いスラリーを用いて、第４の層間絶縁膜２０を研磨する。 - 特許庁

Also, the inter-layer jumps among the plurality of recording layers of the optical disk are performed referring to the focus error signal.例文帳に追加

また、フォーカスエラー信号を参照して光ディスクの複数の記録層間の層間ジャンプを行う。 - 特許庁

To provide a film deposition apparatus capable of considerably shortening the time required for forming an inter-layer insulating film.例文帳に追加

層間絶縁膜を生成するためにかかる時間を大幅に短縮する成膜装置の提供。 - 特許庁

A sacrifice nitride film 19 is formed all over the surface, and an inter-layer insulating film 20 is formed all over the surface.例文帳に追加

全表面上に犠牲窒化膜１９を形成し、全面に層間絶縁膜２０を形成する。 - 特許庁

To shorten the time required before starting a focus jump in the process of an inter-layer jump.例文帳に追加

層間ジャンプの過程中でのフォーカスジャンプを開始するまでにかかる時間の短縮を可能にする。 - 特許庁

The 1st and 2nd ground layers 14, 16 are inter-layer connected through many via holes 22.例文帳に追加

第１のグランド層１４と第２のグランド層１６とは多数のビアホール２２により層間接続されている。 - 特許庁

METHOD, APPARATUS AND PROGRAM FOR INTER-LAYER PREDICTION PROCESSING AND RECORDING MEDIUM THEREOF例文帳に追加

階層間予測処理方法，階層間予測処理装置，階層間予測処理プログラムおよびその記録媒体 - 特許庁

A photo-resist is formed on the inter-layer insulating film 8, which is patterned to a specified form.例文帳に追加

その後、層間絶縁膜８上にフォトレジストを形成し、このフォトレジストを所定の形状にパターニングする。 - 特許庁

COMPOSITION FOR FORMING INTER-SEMICONDUCTOR-LAYER INSULATING FILM, METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, FILM FORMING METHOD, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体層間絶縁膜形成用組成物とその製造方法、膜形成方法と半導体装置 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition for inter-layer insulating film formation of which an inter-layer insulating film realizing high resolution and sufficient thickness and having superior properties such as transparency, heat resistance, adhesiveness, and solvent resistance can be formed, and to provide the inter-layer insulating film formed of the resin composition.例文帳に追加

高解像度で、十分な厚膜化が可能であり、かつ透明性、耐熱性、密着性、耐溶剤性等の諸物性にも優れた層間絶縁膜を形成しうる層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物、当該樹脂組成物から形成された層間絶縁膜等を提供する。 - 特許庁

TAILORING OF WETTING/BARRIER LAYER TO REDUCE ELECTROMIGRATION IN ALUMINUM INTER-ELEMENT CONNECTION例文帳に追加

アルミニウム素子間配線におけるエレクトロマイグレーションを減少させるためのウエッティング／バリヤー・レイヤーの適合方法。 - 特許庁

To provide an inter-layer metallization structure based on copper dual damascene, and to provide a method of forming it.例文帳に追加

銅デュアルダマシンに基づくレベル間金属化層構造及びそれを形成する方法を提供する。 - 特許庁

INTER-LAYER INSULATING FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND/ OR SURFACE PROTECTIVE FILM COMPOSITION AND THE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の層間絶縁膜及び／又は表面保護膜用組成物並びに半導体装置 - 特許庁

An inter-layer insulating film 4 is formed on the semiconductor substrate 1 and capacitance lower electrode 3.例文帳に追加

半導体基板１上及び容量下部電極３上に層間絶縁膜４が形成されている。 - 特許庁

To provide a magnetic random access memory which protects a magnetoresistance effect element against outgas from an inter-layer film and suppresses deterioration of the magnetic characteristics.例文帳に追加

層間膜のアウトガスから磁気抵抗効果素子を保護し、磁気特性の劣化を抑制する。 - 特許庁

A TiO2 film 14 on an inter-layer insulating film 11 is processed with RIE to form a channel 15.例文帳に追加

層間絶縁膜１１上のＴｉＯ_2 膜１４に対してＲＩＥを行って溝１５を形成する。 - 特許庁

A through hole 211 is formed in the inter-layer film 303, and a through hole 201 in a protection film 306.例文帳に追加

層間膜３０３にはスルーホール２１１が、保護膜３０６にはスルーホール２０１が形成されている。 - 特許庁

A surface where the detection electrode 11 is formed is made to be flat on the inter-layer insulating film 10.例文帳に追加

層間絶縁膜１０において、検出電極１１が形成される面は平坦となっている。 - 特許庁

Among the laminated terminals 12 arranged in the lamination direction, the laminated terminal 12 which does not contact to the inter-layer connection terminal 20 to be penetrated into the row, is shortened in its length by removing a penetrating contact part extending from penetrating position to the tip end of the inter-layer connection terminal 20, and made impossible to contact with the inter-layer connection terminal 20.例文帳に追加

積層方向に配列された積層端子１２のうち、その列に挿通される層間接続子２０と接続しない積層端子１２は、層間接続子２０の挿通位置から先端までの貫通接触部を欠落させて、長さを短くし、これによって層間接続子２０と接触させないようにする。 - 特許庁

On the 3rd inter-layer insulating film 12, a TMR element 18 is formed and partially etched.例文帳に追加

そして、第３間層間絶縁膜１２上にＴＭＲ素子１８を形成し、これを部分的にエッチングする。 - 特許庁

An interlayer insulating film 22 is formed on a lower-layer conductor layer 21 and a resist film 22, which has an opening in via hole pattern 31 is formed on the inter-layer insulating film 22.例文帳に追加

下層導体層２１上に層間絶縁膜２２を形成し、この層間絶縁膜２２上にビアホールパターン３１の開口を有するレジスト膜２３を形成する。 - 特許庁

Moreover, the laminated body 4 is formed by laminating a first insulating layer 5, a primary coil 10, an inter-coil insulating layer 11, a secondary coil 16, and a second insulating layer 17 or the like.例文帳に追加

また、積層体４は、第１の絶縁層５、１次コイル１０、コイル間絶縁層１１、２次コイル１６、第２の絶縁層１７等を積み重ねることによって形成する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device enhancing flatness of an inter-layer insulating layer even when a lower layer side pad is formed under a bonding pad, and also to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

ボンディングパッド下に下層側パッドを形成しても層間絶縁層の平坦性を向上させることができる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an integrated circuit element, having a planarized inter- level dielectric layer with a low permittivity (K) containing an FSG layer of which conductive layer is protected from exposure to fluorine.例文帳に追加

伝導層がフッ素への露出から保護されたＦＳＧ層を含む平坦化された低Ｋのレベル間誘電体層を有する集積回路素子が提供される。 - 特許庁

Further, the laminate 2 is formed by stacking a first insulating layer 3, a primary coil 8, an inter-coil insulating layer 9, a secondary coil 14, a second insulating layer 15, etc.例文帳に追加

また、積層体２は、第１の絶縁層３、１次コイル８、コイル間絶縁層９、２次コイル１４、第２の絶縁層１５等を積み重ねることによって形成する。 - 特許庁