「interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(26ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device which is equipped with an interlayer insulating film of low relative dielectric constant and excellent in characteristics.例文帳に追加

比誘電率の低い層間絶縁膜を得て、特性の良好な半導体装置を提供すること。 - 特許庁

Thereafter, a high density diffusion layer and a salicide layer are formed to form an interlayer insulating film on the entire face.例文帳に追加

その後、高濃度拡散層及びサリサイド層を形成し、全面に層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁

Thus, the gate insulation films 13 and the interlayer insulation films 15 break where the breakdown voltages are low.例文帳に追加

これにより、絶縁耐圧の低い箇所のゲート絶縁膜１３や層間絶縁膜１５はブレークダウンする。 - 特許庁

The interlayer film where fine zinc oxide particles containing one or more elements selected from the group consisting of group IIIB and group IVB in the periodic table and fine hexaboride particles are dispersed in a resin for the interlayer film and the laminated glass using the interlayer film are provided.例文帳に追加

周期律表第ＩＩＩＢ族元素および第ＩＶＢ族元素からなる群から選ばれる１種または２種以上の元素を含有する酸化亜鉛微粒子と、六ホウ化物微粒子とが、中間膜用樹脂に分散してなることを特徴とする中間膜、ならびに該中間膜を用いてなる合わせガラス。 - 特許庁

A light of a wavelength of 200 nm or longer and 260 nm or shorter is irradiated to the interlayer insulating film 3.例文帳に追加

層間絶縁膜３に２００ｎｍ以上２６０ｎｍ以下の波長を有する光が照射される。 - 特許庁

A second copper wiring 6 and a connection plug 7 made of copper are formed in the second interlayer insulating film 5.例文帳に追加

第２層間絶縁膜５内には、第２銅配線６および銅の接続プラグ７が形成される。 - 特許庁

Then, an interlayer insulation film 48 that is made of a silicon nitride film or the like is formed on the silicon nitride film 14.例文帳に追加

そして、シリコン窒化膜１４上にシリコン窒化膜等からなる層間絶縁膜４８を形成する。 - 特許庁

Above the part of the interlayer insulation film 5 located immediately above the undermetal 3, top metal 6 is formed.例文帳に追加

アンダーメタル３の直上に位置する層間絶縁膜５の部分上に、トップメタル６が形成されている。 - 特許庁

Thereby, a TiO_2 film 31 is formed between the Ti film 18 and the SiO_2 interlayer film 13.例文帳に追加

これにより、Ｔｉ膜１８とＳｉＯ_２層間膜１３との間にＴｉＯ_２膜３１が形成される。 - 特許庁

FORMING METHOD OF SHEET INCLUDING INTERNAL CIRCUIT AND INTERLAYER CONNECTION MATERIAL USED WHEN ELECTRONIC COMPONENT IS MANUFACTURED例文帳に追加

電子部品製造時に用いられる、内部回路および層間接続材を包含するシートの形成方法 - 特許庁

To provide a printed wiring board capable of sustaining high reliability and preventing interlayer stripping.例文帳に追加

層間の剥離が生じ難く、高い信頼性を維持することができるプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

A first interlayer dielectric 7 is formed on the base insulating film 3 and first wiring layer 5.例文帳に追加

下地絶縁膜３上及び第１配線層５上に第１層間絶縁膜７が形成されている。 - 特許庁

The fire resistive interlayer material 5 is inserted into a gap G between the floor 1 and the external wall 4 of the building.例文帳に追加

建築物の床１と外壁４との間の間隙Ｇ内に、耐火層間材５を挿入する。 - 特許庁

Then, the spacer and insulation film are used as a mask to etch the interlayer insulation film, thereby forming a contact hole.例文帳に追加

次に、スペーサ及び絶縁膜をマスクとして層間絶縁膜をエッチングしてコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic compound-clay composite by introducing an organic guest compound into interlayer voids of lamellar clay containing interlayer inorganic cation, featured by substituting interlayer inorganic cation with organic ammonium ion to hydrophobize the cation and then processing the clay with the solution prepared by dissolving the above organic guest compound in its lean solvent.例文帳に追加

層間に無機陽イオンを有する層状粘土の層間空隙中に有機ゲスト化合物を導入し、有機化合物−粘土複合体を製造するに当り、層間の無機陽イオンを有機アンモニウムイオンで置換して疎水化したのち、該有機ゲスト化合物をその貧溶媒に溶解した溶液で処理する。 - 特許庁

The barrier metal becomes unnecessary because of using a material preventing diffusion of copper as the interlayer insulating film 11.例文帳に追加

銅の拡散を防止する材料を層間絶縁膜11として用いるため、バリア金属が不要となる。 - 特許庁

TFT SUBSTRATE, ITS MANUFACTURING METHOD, DISPLAY DEVICE USING IT AND EVALUATION METHOD OF INTERLAYER INSULATION FILM例文帳に追加

ＴＦＴ基板及びその製造方法、これを用いた表示装置、並びに層間絶縁膜の評価方法 - 特許庁

To prevent, in a semiconductor device composed of a low dielectric interlayer insulating film and a multilayer wiring, the surface of the low dielectric interlayer insulating film from being exposed to the atmosphere to absorb moisture, and further to prevent a metal wiring interfacial surface and the low dielectric interlayer insulating film from being exposed into a contact hole and hereby overetched.例文帳に追加

低誘電率層間絶縁膜と多層配線とを備える半導体装置において、低誘電率層間絶縁膜の表面が雰囲気に露出して吸湿するのを防止し、また、金属配線の界面及び低誘電率層間絶縁膜がコンタクトホール内に露出してオーバーエッチングされるのを防止することを目的とする。 - 特許庁

The interlayer insulating film is comprised of an inorganic insulating film 32 and the organic insulating film 33 formed on the inorganic insulating film 32.例文帳に追加

層間絶縁膜は無機絶縁膜３２上に有機絶縁膜３３を有する構成である。 - 特許庁

To provide: a positive radiation-sensitive composition which is based on polysiloxane, allows formation of an interlayer insulation film having high flatness or evenness of thickness without application irregularity, and has excellent radiation-sensitivity and development margin; the interlayer insulating film formed of the composition; and a method of forming the interlayer insulation film.例文帳に追加

塗布ムラのない高度な平坦性（膜厚均一性）を有する層間絶縁膜を形成することができ、かつ優れた放射線感度及び現像マージンを有するポリシロキサン系のポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成される層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an optical drive device which performs a reliable focus servo operation using an interlayer detection signal.例文帳に追加

層間検出用信号を用いながらも確実にフォーカスサーボを行える光学ドライブ装置を提供する。 - 特許庁

After an interlayer insulation film 50 is formed on the semiconductor board 1, contact holes 42, 44 are formed.例文帳に追加

半導体基板１上に層間絶縁膜５０を形成後、コンタクトホール４２及び４４を形成する。 - 特許庁

INTERLAYER INSULATING FILM STRUCTURE OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

半導体装置の層間絶縁膜構造とその製造方法、及び半導体装置とその製造方法 - 特許庁

In the method, the printed wiring board is manufactured through interlayer connection using an electrically conductive paste 1.例文帳に追加

導電性ペースト１を用いて層間接続されたプリント配線板を製造する方法に関する。 - 特許庁

To provide a method of forming an interlayer insulation film which has a superior mechanical strength and has a low dielectric constant.例文帳に追加

機械的強度に優れ且つ低誘電率の層間絶縁膜を形成する方法を提供する。 - 特許庁

To prevent the crack of an interlayer insulating layer generated at the time of heat cycle, without causing reduction in peeling strength.例文帳に追加

ピール強度の低下を招かず、ヒートサイクル時に発生する層間絶縁層のクラックを防止すること。 - 特許庁

A porous-shaped low-k film 3 is used as the interlayer insulating film, and a semiconductor chip 2 is formed.例文帳に追加

層間絶縁膜にポーラス状のＬｏｗ−ｋ膜３を用いて半導体チップ２を形成する。 - 特許庁

To provide an EL sheet formed in a solid manner without causing interlayer delamination and a rupture of a layer.例文帳に追加

層間剥離や層の破断を生じさせずに立体的に成形されたＥＬシートを提供すること。 - 特許庁

The socket-like structure parts 24 and 24A and a conductor layer C1 are stuck through an interlayer connection layer 54.例文帳に追加

ソケット様構造部２４，２４Ａと導体層Ｃ1とは、層間接続層５４を介して接着されている。 - 特許庁

The stopper film 4 is formed with an insulating material having etching speed smaller that of the interlayer insulating film 6.例文帳に追加

ストッパー膜４は、層間絶縁膜６よりもエッチング速度が小さい絶縁材料で形成されている。 - 特許庁

The interlayer dielectric 22 is not removed in the following process but remains on a completed semiconductor device 2.例文帳に追加

この層間絶縁膜２２は、その後の工程で除去されずに完成した半導体装置２に残存する。 - 特許庁

Openings 15 are provided in an interlayer insulation film 14 at positions between fuse electrodes 13a, 13b, 13c, 13d.例文帳に追加

たとえば、各フューズ電極１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，１３ｄの相互間の、層間絶縁膜１４にそれぞれ開孔部１５を設ける。 - 特許庁

An interlayer dielectric film material for a thin film transistor contains a cage-shape silsesquioxane compound.例文帳に追加

カゴ状シルセスキオキサン化合物を含有することを特徴とする薄膜トランジスタ用層間絶縁膜材料。 - 特許庁

Meanwhile, the negative voltage NMOS Tr 50 is formed as a TFT on the first interlayer insulating film 11 of a peripheral region.例文帳に追加

一方、負電圧NMOSTr50は、周辺領域の第1の層間絶縁膜11上にTFTとして形成されている。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PROTECTIVE FILM, INTERLAYER INSULATION FILM, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND DISPLAY ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、保護膜、層間絶縁膜、およびそれを用いた半導体装置、表示素子。 - 特許庁

A gate electrode 3 and a diffusion interlayer 4 are formed over an Si substrate 1 with a gate oxide film 2 in between.例文帳に追加

Ｓｉ基板１上にゲート酸化膜２を介してゲート電極３、拡散層４を形成する。 - 特許庁

The semiconductor device includes bonding pads 3 formed on an interlayer insulating film 27.例文帳に追加

この発明は、層間絶縁膜２７上に形成されたボンディング用パッド３を有する半導体装置である。 - 特許庁

CUTTING TOOL MADE OF SURFACE-COATED CEMENTED CARBIDE THAT HARD COATING LAYER HAS EXCELLENT INTERLAYER ADHESION例文帳に追加

硬質被覆層がすぐれた層間密着性を有する表面被覆超硬合金製切削工具 - 特許庁

A tungsten layer is formed on an interlayer insulating film containing openings for alignment marks and polished by the CMP method.例文帳に追加

アラインメントマーク用開口を含む層間絶縁膜の上にタングステン層を形成し、ＣＭＰ法で研磨する。 - 特許庁

Then, after the entire surface of the semiconductor substrate 1 is covered with an interlayer dielectric, the surface is flattened.例文帳に追加

そして、半導体基板１の全面を層間絶縁膜で覆った後、その表面を平坦化する。 - 特許庁

The composite interlayer includes a layer of plasticized polyvinyl butyral sandwiched between second and third polymeric layers.例文帳に追加

複合中間層は第２と第３のポリマー層の間に挟まれた可塑化ポリビニルブチラールの層を含む。 - 特許庁

A bump electrode 4 and an interlayer connection electrode 7 are formed in a multilayer wiring substrate 2 by a JPS method (a).例文帳に追加

多層配線基板２にＪＰＳ法でバンプ電極４，層間接続電極７を形成する（ａ）。 - 特許庁

MULTI-LAMINATED STRUCTURE HAVING LAYER STRUCTURE OF POLYAMIDE 1/INTERLAYER/POLYAMIDE 2 FOR PRODUCING DECORATIVE ARTICLE例文帳に追加

装飾物品を作るためのポリアミド１／中間層／ポリアミド２の層構成を有する多重積層構造体 - 特許庁

The interlayer insulating film 103 is selectively formed on the respective plurality of gate electrodes 102.例文帳に追加

層間絶縁膜１０３は、複数のゲート電極１０２それぞれ上に選択的に形成されている。 - 特許庁

An interlayer insulating film 14 of siloxane polymer is formed on the upper side of the polysilazane layer 19.例文帳に追加

そして、ポリシラザン層１９の上側には、シロキサンポリマーからなる層間絶縁膜１４が形成されている。 - 特許庁