「interlayer」に関連した英語例文の一覧と使い方(25ページ目) - Weblio英語例文検索

The interlayer insulating film 3, the wiring interlayer films 41, 42, 43, and the protecting film 8 are constituted out of a single metal-diffusion preventing material for preventing the diffusions of the metal wirings 51, 52, 53.例文帳に追加

層間絶縁膜３、配線層間膜４１、４２および４３、並びに、保護膜８を金属配線５１、５２および５３の拡散を防止する単一の金属拡散防止材料から構成する。 - 特許庁

To provide a resin mold coil wherein a molded resin is not separated from interlayer insulators of a coil and a proper creep distance can be ensured without use of the interlayer insulators whose thickness and material is more than necessary.例文帳に追加

コイル層間絶縁物の厚さや材質を必要以上の絶縁物を採用することなく、モールド樹脂と絶縁物がはく離せず、クリープ距離を確保することができる樹脂モールドコイルを提供する。 - 特許庁

A third interlayer insulating film 23 is arranged to cover a second wiring layer 10, and a plurality of contact parts 12 that reach the second wiring layer 10 through the third interlayer insulating film 23 are arranged.例文帳に追加

第２配線層１０を覆うように第３層間絶縁膜２３が配設され、第３層間絶縁膜２３を貫通して、第２配線層１０に達する複数のコンタクト部１２が配設されている。 - 特許庁

A protective film exfoliating inspection is previously performed (s9)in a comparatively strong direction of interlayer strength in a manufacturing process of the sticking plate 10 so that interlayer exfoliation is not generated when a protective film 15 is exfoliated (s11).例文帳に追加

保護フィルム１５を剥がす（ｓ１１）際に、層間剥離が生じないように、貼合板１０の製造工程で、予め層間強度が比較的強い方向に、保護フィルム剥ぎ検査を行っておく（ｓ９）。 - 特許庁

To provide a method of forming a low-dielectric constant interlayer insulating film, which is good in moisture absorption-resisting property and heat resistance properties, a semiconductor processing device for forming the interlayer insulating film and a semiconductor device using the processing device.例文帳に追加

耐吸湿性、及び、耐熱性が良い低誘電率層間絶縁膜の形成方法、それを形成する半導体製造装置、及び、それを用いた半導体装置を提供すること。 - 特許庁

In the multilayer printed wiring board comprising a plurality of metal foils and conductor layers laid alternately in layers, an interlayer contact via pad provided in a first insulation layer, a wiring circuit, and an interlayer contact via bottom pad of a second insulation layer are provided in the same surface layer and the thicknesses at least of the interlayer contact via pad and the second insulation layer interlayer contact via bottom pad are identical.例文帳に追加

複数の金属箔と導体層を交互に積層してなる多層プリント配線板であって、第一の絶縁層に設けられた層間接続ビアパッドと配線回路と第二の絶縁層の層間接続ビア底部パッドが同一表面層に設けられ、かつ少なくとも当該層間接続ビアパッドと第二の絶縁層層間接続ビア底部パッドの厚みが同じであることを特徴とする多層プリント配線板。 - 特許庁

In the liquid crystal display device 12, in which the transparent interlayer 3 is provided between the liquid crystal display panel 1 and the transparent substrate 11 having a touch panel function and disposed on a front side of the liquid crystal display panel 1, the outermost periphery of the transparent interlayer 3 is shaped like a frame, and the same material is used to form a frame-shaped transparent interlayer 7 and the transparent interlayer 3 that constitutes an entire display area.例文帳に追加

液晶表示パネル１と該液晶表示パネル１の前面に配置されたタッチパネル機能を有する透明基板１１の間に透明な中間膜３を有する液晶表示装置１２に於いて，透明な中間膜３の最外周部分が枠状に形成されており，枠状の透明な中間膜７と表示部全体を構成している透明な中間膜３は同じ材料で構成されている。 - 特許庁

The process of forming the top electrode comprises processes of forming an interlayer insulation film on the base film 8 and on the dielectric film 12, forming an opening existing above the dielectric film in the interlayer insulation film, depositing a conductor inside the opening and on the interlayer insulation film, and forming the top electrode by removing the conductor from above the interlayer insulation film.例文帳に追加

上部電極を形成する工程は、下地膜８上及び誘電体膜１２上に層間絶縁膜を形成する工程と、層間絶縁膜に、誘電体膜上に位置する開口部を形成する工程と、開口部の中及び層間絶縁膜上に導電体を堆積する工程と、層間絶縁膜上から導電体を除去することにより上部電極を形成する工程とを具備する。 - 特許庁

The manufacturing method of the pigment dispersion comprises dispersing in water a pigment which has at least a part of interlayer ions in an interlayer compound ionically replaced by a dye ion having an opposite polarity to the interlayer ions, where the ion replacement of the interlayer ions by the dye ion and dispersion in water and atomization of the pigment is carried out in the same reaction vessel.例文帳に追加

層間化合物中の層間イオンの少なくとも一部が、前記層間イオンと逆の極性を示す染料イオンによってイオン置換されている顔料を水に分散する顔料分散液の製造方法であって、前記層間イオンの前記染料イオンへのイオン置換と、前記顔料の水分散及び微粒子化を同一反応容器内で行うことを特徴とする顔料分散液の製造方法。 - 特許庁

The gap between the mold patterns is embedded for forming an interlayer insulating layer pattern for insulating the floating gates.例文帳に追加

モールドパターン間のギャップを埋め込んで浮遊ゲート間を絶縁する層間絶縁層パターンを形成する。 - 特許庁

The interlayer insulating layer 45 is etched using the resist pattern as a mask and the resist pattern is removed.例文帳に追加

第４に、レジストパターンをマスクとして層間絶縁層４５がエッチングされ、該レジストパターンが除去される。 - 特許庁

A lower layer conductive region 11 and an upper layer wiring layer 13 are separated by an interlayer dielectric 12.例文帳に追加

下層導電領域１１と上層配線層１３は層間の絶縁膜１２により隔てられている。 - 特許庁

To prevent increase in the leakage current of a dielectrics, while enhancing adhesion between an electrode and an interlayer insulating film.例文帳に追加

電極と層間絶縁膜との密着性を高めつつ誘電体のリーク電流の増大を防止する。 - 特許庁

The interlayer insulation film can form a cavity at the position owing to a narrow trench of the gap section 10.例文帳に追加

層間絶縁膜は間隙部１０の狭い溝に起因して当該位置に空洞を形成し得る。 - 特許庁

The top face of the capacitor 50 and the top face of the second interlayer insulation film 13 are flush with each other.例文帳に追加

ここで、キャパシタ５０の上面と第１の層間絶縁膜１３の上面との高さは一致している。 - 特許庁

A contact plug 3 connected electrically with a MOS transistor is formed in a first interlayer insulating film 2.例文帳に追加

ＭＯＳトランジスタと電気的に接続されたコンタクトプラグ３を第１の層間絶縁膜２内に形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a printed wiring board, with which reliability of interlayer connection is enhanced in obtaining the wiring board by conducting a forming process on a prepreg formed using a glass base, after forming holes for interlayer connection and filling the holes for interlayer connection with an electrically conductive paste.例文帳に追加

ガラス基材を用いて形成されるプリプレグに層間接続用の孔加工と、この層間接続用の孔への導電性ペーストの充填とを行った後に、成形加工を施すことにより配線板を得るにあたり、層間接続信頼性を向上することができる配線板の製造方法を提供する。 - 特許庁

A second interlayer film 104 is formed on the wirings 102 and the inter-wiring space 103.例文帳に追加

複数の配線１０２の上及び配線間スペース１０３に第２の層間膜１０４が形成されている。 - 特許庁

A ground reference mark 110 is formed by forming a ground reference mark hole 111 at a predetermined density in an interlayer film 132, depositing tungsten inside the ground reference mark hole 111 and on the interlayer film 132, and creating a recess by erosion produced when chemical mechanical polishing is performed on the tungsten present on the surface of the interlayer film 132.例文帳に追加

下地基準マーク１１０は、層間膜１３２に下地基準マーク用ホール１１１を所定密度で形成し、下地基準マーク用ホール１１１内および層間膜１３２上にタングステンを堆積し、層間膜１３２表面のタングステンを化学機械研磨したときのエロージョンで凹みを生じさせることによって形成される。 - 特許庁

A via hole is arranged through the metal interlayer insulating film to expose the first capping film.例文帳に追加

前記金属層間絶縁膜を貫いてビアホールが配置され、前記第１キャッピング膜を露出させる。 - 特許庁

To provide a method of washing a contact region of a metal wire which can avoid both the deterioration of a low dielectric constant interlayer insulation film which is caused by the re-adhesion of metal ions and the deterioration of a low dielectric constant interlayer insulation film which is caused by hydrogen radicals activated at the time of reactive washing simultaneously and can maintain the low dielectric constant characteristics of the interlayer insulation film.例文帳に追加

金属イオンの再付着による低誘電層間絶縁膜の劣化と、反応洗浄時に活性化された水素ラジカルによる低誘電層間絶縁膜の劣化を同時に防止して、層間絶縁膜の低誘電特性を維持できるようにした金属配線のコンタクト領域の洗浄方法を提供する。 - 特許庁

A part buried in the dummy apertures 8e among the second interlayer insulating film 10 is rather weak in the strength.例文帳に追加

第２の層間絶縁膜１０のうち、ダミー開口部８ｅに埋め込まれた部分は強度が弱い。 - 特許庁

The interlayer insulating film has a top surface, and a circumferential edge 54 continuous from the top surface to the major surface.例文帳に追加

層間絶縁膜は、頂面と、頂面から主表面にまで連なる周縁５４とを有する。 - 特許庁

A first-layer wiring metal film 3 and an interlayer oxide film 4 are formed on a field oxide film 2, an organic material such as SOG, etc., is applied and then is etched back to flatten the surface of first inter-layer oxide film 4, and a second interlayer oxide film 5 is formed on the first-layer wiring metal film 3 and the first interlayer oxide film 4.例文帳に追加

フィールド酸化膜２上に第１層目の配線用金属膜３と第１層間酸化膜４を形成し、ＳＯＧ等の有機物を塗布し、エッチバックして、第１層間酸化膜４上を平坦化し、第１層目の配線用金属膜３上と第１層間酸化膜４上に第２層間酸化膜５を形成する。 - 特許庁

In the interlayer dielectric 21, an opening groove provided so as to extend linearly to the contact region 4.例文帳に追加

層間絶縁膜２１には、コンタクト領域４まで達する線状に延設された開口溝が設けられる。 - 特許庁

Interlayer insulating films 113, 117 and a transparent film 118 are successively laminated on a substrate.例文帳に追加

基板上には、層間絶縁膜１１３、１１７および透明膜１１８が順次積層されている。 - 特許庁

The SRN film serves as a working stopper film when working an interlayer insulation film to expose the gate insulation film.例文帳に追加

SRN膜が層間絶縁膜を加工してゲート絶縁膜を露出する場合の加工のストッパ膜となる。 - 特許庁

To make feasible of forming an interlayer insulating film in low dielectric constant under the conventional resist process.例文帳に追加

通常のレジストプロセスを採用して、比誘電率が低い層間絶縁膜を形成できるようにする。 - 特許庁

Thereafter, a tunnel film 4, a floating gate 5, an interlayer insulating film 6 and the like are formed by a general method.例文帳に追加

その後は、一般的な方法により、トンネル膜４、フローティングゲート５、層間絶縁膜６等を形成する。 - 特許庁

A wiring 105 is then formed after a silicon oxide film 104 is deposited as an interlayer insulating film.例文帳に追加

次に、層間絶縁膜としてシリコン酸化膜１０４を堆積した後、配線１０５を形成する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 17 is formed in the trench 13 except formation of the gate electrode 15.例文帳に追加

また、ゲート電極１５の形成以外の溝部１３には層間絶縁膜１７が形成されている。 - 特許庁

The EQR electrode 8 is buried in the interlayer insulating film 7 to surround the active region 21.例文帳に追加

ＥＱＲ電極８は、層間絶縁膜７中にアクティブ領域２１を囲んで埋設されている。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device preventing peeling of an interlayer insulating film from a counter electrode.例文帳に追加

層間絶縁膜が対向電極から剥がれてしまうのを防止した液晶表示装置の提供。 - 特許庁

An electromagnetic shielding film 27 made of an AlCu alloy is formed on the interlayer dielectric 21.例文帳に追加

また、層間絶縁膜２１上には、ＡｌＣｕ合金からなる電磁波シールド膜２７が形成されている。 - 特許庁

To provide an interlayer for laminated glass capable of suppressing the occurrence of spots which causes a poor appearance when a metal coating layer such as a silver layer is laid at the interface between the interlayer for laminated glass and glass plate, and a laminated glass made by using the interlayer for laminated glass.例文帳に追加

合わせガラス用中間膜とガラス板との界面に、銀層等の金属コーティング層が設けられた合わせガラスとしたときに、外観不良の原因となる斑点の発生を抑制することができる合わせガラス用中間膜、及び、該合わせガラス用中間膜を用いてなる合わせガラスを提供する。 - 特許庁

An interlayer insulating film 2 is composed of a silicon oxide film 21, an insulating coated film 22, and a silicon oxide film 23A.例文帳に追加

層間絶縁膜２は、シリコン酸化膜２１と、絶縁塗布膜２２と、シリコン酸化膜２３Ａとからなる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of forming an interlayer insulation film for improving video performance.例文帳に追加

動画性能を向上させられる層間絶縁膜を形成可能な感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

To provide a multilayer printed wiring board which can imprint a detailed wiring pattern containing a viahole in an interlayer insulation layer easily and accurately by an imprint method using mold, and is excellent in insulation and interlayer connectability between microfabrication wiring patterns embedded in the interlayer insulating layer, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

モールドを用いたインプリント法によって、層間絶縁層内にバイアホールを含んだ微細な配線パターンを容易かつ正確に転写でき、かつ層間絶縁層内に埋設形成された微細化配線パターン間の絶縁性や層間接続性に優れた多層プリント配線板とその製造方法を提供する。 - 特許庁

When the ion implantation is performed, the interlayer dielectric 11 is withdrawn and the source electrode 10 is formed.例文帳に追加

また、このイオン注入の後、層間絶縁膜１１を後退させ、ソース電極１０を形成する。 - 特許庁

To provide a multilayer rotational molding article excellent in adhesion of an interlayer, resistance to permeability, heat stability or the like.例文帳に追加

層間の接着力、耐透過性、熱安定性等に優れた回転成型多層品を提供する。 - 特許庁

The wiring part 24 provided in the interlayer dielectric film 22 under the index body 10 is an analysis object.例文帳に追加

指標体１０の直下の層間絶縁膜２２に設けられた配線部２４が解析対象物となる。 - 特許庁

Further, the contact holes 25 to 28 are formed in the top gate insulating film 18 and interlayer insulating film 19.例文帳に追加

また、トップゲート絶縁膜１８および層間絶縁膜１９には、コンタクトホール２５〜２８が形成されている。 - 特許庁

POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, INTERLAYER INSULATING FILM, ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE DISPLAY, AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY例文帳に追加

ポジ型感光性樹脂組成物、硬化膜、層間絶縁膜、有機ＥＬ表示装置、及び液晶表示装置 - 特許庁

SURFACE-EMITTING SEMICONDUCTOR LASER ARRAY DEVICE OF WHICH RELIABILITY IS IMPROVED BY STRESS CONTROL OF INTERLAYER INSULATING FILM例文帳に追加

層間絶縁膜の応力制御により信頼性を改善した表面発光型半導体レーザアレイ素子 - 特許庁

By not forming a dummy via in a multi-layered wiring layer region formed of a wiring interlayer film having a dielectric constant higher than a low-dielectric-constant film in a region in which an electrode pad 113 is formed, it is possible to suppress propagation of cracks and peeling of the wiring interlayer film while performing planarization of the wiring interlayer film.例文帳に追加

電極パッド１１３形成領域の、低誘電率膜より誘電率の高い配線層間膜からなる多層配線層領域において、ダミービアを形成しないことにより、配線層間膜の平坦化を行いながら、クラックの伝搬と配線層間膜の剥がれを抑制することができる。 - 特許庁