「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(77ページ目) - Weblio英語例文検索

A process for forming an outermost surface resist 12e having a through pattern 12e1 on the outermost surfaces of the laminated layer units a to d is executed.例文帳に追加

積層単位ａ〜ｄの最表面に貫通パターン１２ｅ１を有する最表面レジスト１２ｅを形成する工程を実施する。 - 特許庁

Alternatively, on the sapphire substrate, a selection region is grown again on the gallium nitride layer that is pattern-formed in advance, thus obtaining the trench.例文帳に追加

或いは、サファイア基板上で、予めパターン形成した窒化ガリウム層上に選択領域を再成長させるとトレンチが得られる。 - 特許庁

CERAMIC GREEN SHEET COMPRISING LAYER WITH BUILT-IN PATTERN, MULTILAYER CIRCUIT SUBSTRATE WITH THE CERAMIC GREEN SHEET AND MANUFACTURING METHOD OF LAMINATION TYPE ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

パターン内蔵層を含むセラミックグリーンシート、該セラミックグリーンシートを有する多層回路基板および積層型電子部品の製造方法 - 特許庁

To highly accurately and easily transfer an irregular pattern to a resin layer without incurring breakage and deterioration of a substrate and reduction of throughput.例文帳に追加

基板の破損や劣化、およびスループットの低下を招くことなく、樹脂層に対して凹凸パターンを高精度でしかも容易に転写する。 - 特許庁

The resist layer 12 is irradiated with ultraviolet light 15 through a photomask 14 having a pattern of a Cr film 14b on the surface of a glass substrate 14a.例文帳に追加

レジスト層12に、ガラス基板14ａ表面にＣｒ膜14ｂによるパターンを有するフォトマスク14を通して紫外光15を照射する。 - 特許庁

VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND VAPOR DEPOSITION METHOD, AND ELECTRONIC ELEMENT AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT HAVING PATTERN-FORMED LAYER USING THE METHOD例文帳に追加

蒸着装置及び蒸着方法並びにその方法を用いてパターン形成した層を有する電子素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子 - 特許庁

After the garnet ferrite layer is deposited on the substrate, a pattern made of unit elements with a suitable size by a photo lithography method etc. is formed.例文帳に追加

ガーネットフェライト層の基板上への堆積後に、フォトリソグラフィー法等により適切な大きさの単位要素からなるパターンを形成する。 - 特許庁

Therefore, it is not necessary to define a design pattern by forming a transparent conductive layer on a filter substrate and forming a common electrode.例文帳に追加

したがって、フィルター基板上に透明導電層を形成して共通電極を作成し図案パターンを定義する必要がない。 - 特許庁

A rectangular gate electrode 3 is subjected to pattern formation on a GaAs substrate 1 that is a compound semiconductor substrate with a channel layer 2.例文帳に追加

チャネル層２を有する化合物半導体基板であるＧａＡｓ基板１上に矩形状のゲート電極３をパターン形成する。 - 特許庁

A damascene metallization method comprises a step for making a trench in a desired interconnect pattern in a porous insulation layer formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板上の多孔性絶縁層中の所望の配線パターンにトレンチを形成する工程等を含むダマシン金属化方法。 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE ADHESIVE COMPOSITION, ADHESIVE SHEET, ADHESIVE PATTERN, SEMICONDUCTOR WAFER WITH ADHESIVE LAYER, AND SEMICONDUCTOR DEVICE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加

感光性接着剤組成物、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ、並びに半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

A primer layer is formed on the surface of the metal image, and thereafter the metal foil with a pattern such as the hologram foil.例文帳に追加

金属製画像表面にプライマー層を形成し、その後、ホットメルト接着剤を介して、ホログラム箔等の模様付金属箔を固着する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a multilayer wiring board which is capable of achieving high adhesion between the insulation layer and wiring pattern.例文帳に追加

絶縁層と配線パターンとの間において高い密着性が達成される多層配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

After the resist pattern is removed, the portion of the power feeding metal film formed with no metal plating layer is removed by the ion milling method.例文帳に追加

レジストパタ−ンを除去後、給電用金属膜の金属めっき層が形成されていない部分をイオンミリング法によって除去する。 - 特許庁

The method also comprises the step of patterning a three-layer nonmetallic film 6 below the same resist pattern 9 by plasma etching (second stage of second etching).例文帳に追加

さらに、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより下方の三層非金属膜６をパターニングする（第２のエッチングの第２段階）。 - 特許庁

A lattice-like pattern constituted of a plurality lattices parallel each to other formed of concave portions (grooves) and convex portions in the oriented layer 2.例文帳に追加

配向層２は、凹部（溝）と凸部によって形成された互いに平行する複数の格子からなる格子様パターンが設けられている。 - 特許庁

A laminated layer pattern 5 comprising a first silicon oxide film 1, a silicon nitride film 2, and a second silicon oxide film 4 is formed on a silicon substrate 1.例文帳に追加

シリコン基板１上に第１のシリコン酸化膜１、シリコン窒化膜２、第２のシリコン酸化膜４の積層膜パターン５を形成する。 - 特許庁

Coverlays 15a, 15b are applied on a wiring pattern through an adhesive layer and a multilayer flexible printed wiring board 10 is completed.例文帳に追加

配線パターンの上には接着剤層を介してカバーレイ１５ａ及び１５ｂを貼着し、多層フレキシブルプリント配線基板１０が完成する。 - 特許庁

The upper electrode 22c is provided as a continuous pattern using the same layer as the source electrode 22s or the drain electrode 22d.例文帳に追加

また上部電極２２ｃは、ソース電極２２ｓまたはドレイン電極２２ｄと同一層を用いた連続的パターンとして設けられている。 - 特許庁

A constitution wherein a pattern layer 2 is formed by printing with an aqueous ink on a base sheet comprising an acryl resin or a polyolefin resin, is provided.例文帳に追加

アクリル樹脂又はポリオレフィン系樹脂からなる基材シートに、絵柄層２が水性インキを用いて印刷形成された構成とする。 - 特許庁

To provide a toner with which a semiconductor layer can be fast formed into a desired pattern with high maintenance property in patterning a semiconductor material.例文帳に追加

半導体材料のパターニングにおいて、半導体層を任意のパターンで高速に、メンテナンス性よく形成できるトナーなどを提供する。 - 特許庁

To provide an optical disk which displays a visible pattern through a data layer with data recorded therein, and a manufacturing method and a reproducing device therefor.例文帳に追加

データが記録されるデータ層を介して、視認可能なパターンを表示する光ディスク、その製造方法及び再生装置を提供する。 - 特許庁

In the interlayer insulating film 9 in the logic region 200, a first conductor pattern 11b to be connected to the impurity layer 3 is formed.例文帳に追加

ロジック領域２００の層間絶縁膜９には不純物層３に接続する第１の導電体パターン１１ｂが形成される。 - 特許庁

Therefore, the first conductive film 11 is set thin, whereby the first conductive wiring layer 11A can be formed into a fine pattern.例文帳に追加

従って、第１の導電膜１１を薄く形成することにより、導電配線層１１Ａを微細なパターンとすることが可能となる。 - 特許庁

A conductor pattern 2 is sandwiched between a front cover layer 3 and a rear cover 4, so as to make its one end protrude.例文帳に追加

導体パターン２をその端部が突出するように表側カバー層３および裏側カバー層４で表裏両側から挟持する。 - 特許庁

The cells 104 are each fixed on the polymer spot 102 through the ECM layer 103 according to an array pattern of the polymer spots 102.例文帳に追加

細胞１０４は、ＥＣＭ層１０３を介して、ポリマースポット１０２の配列パターンに従ってポリマースポット１０２上に固定される。 - 特許庁

To provide a projector for photographing a pattern of a mask on a substrate, which includes a radiation-sensitive layer, using a projection charged particle beam.例文帳に追加

投影荷電粒子ビームによって、放射線感応層を含む基板上にマスクのパターンを撮像する投影装置を提案する。 - 特許庁

External connection terminals 26 are joined to the terminal formation parts of the pattern 23 exposed from the openings of the insulating layer 25.例文帳に追加

外部接続端子２６は、絶縁層２５の開口部から露出している配線パターン２３の端子形成部分に接合されている。 - 特許庁

Thereby, it is possible to form the inorganic board having the uneven pattern excellent in the close adhesion with the decorative layer in the good productivity.例文帳に追加

これによって、化粧層との密着性に優れた、凹凸模様を有する無機質板を生産性よく形成することができる。 - 特許庁

As the cords 52 for the reinforcing layer, org. fibers can be used and the above mentioned desired distribution pattern can be made non-linear.例文帳に追加

補強層用コードとしては有機繊維を使用することができ、また、前記所望の分布パターンは非直線状とすることができる。 - 特許庁

A photo-resist pattern which exposes the erosion-preventive plug as well as an interlayer insulating layer part adjoining to the erosion-preventing plug is formed.例文帳に追加

侵蝕防止用プラグに隣接する層間絶縁層部分及び侵蝕防止用プラグを露出するフォトレジストパターンを形成する。 - 特許庁

The semiconductor element comprises a semiconductor substrate, having a source/drain region, a gate electrode formed on the semiconductor substrate, a first IMD formed on the semiconductor substrate and having a first damascine pattern, a first barrier layer formed inside the damascine pattern, a first metal wiring formed on the first barrier layer, and a first metal cap layer formed inside the first damascine pattern.例文帳に追加

本発明による半導体素子は、ソース／ドレーン領域を有する半導体基板、前記半導体基板上に形成されたゲート電極、前記半導体基板上に形成されて，第１ダマシンパターンを有する第１のＩＭＤ、前記ダマシンパターン内に形成される第１バリア層、前記第１バリア層上に形成される第１金属配線、前記第１ダマシンパターン内に形成される第１メタルキャップ層、が含まれる。 - 特許庁

The substrate for a heating element package includes a metal plate; an insulating oxide layer partially formed on the surface of the metal plate; a first conductive pattern formed in one region of the insulating oxide layer and providing a heating element mounting area; and a second conductive pattern formed in other regions of the insulating oxide layer so as to be separated from the first conductive pattern.例文帳に追加

本発明による発熱素子パッケージ用基板は、金属プレートと、前記金属プレートの表面に部分的に形成された絶縁酸化物層と、前記絶縁酸化物層の一領域に形成され、発熱素子の実装領域を提供する第１の導電パターンと、前記第１の導電パターンと離隔するように前記絶縁酸化物層の他の領域に形成された第２の導電パターンとを含む。 - 特許庁

The printed circuit substrate and method of manufacturing the same according to the present invention relate to a printed circuit substrate including an insulating layer, and a circuit pattern disposed on the insulating layer and a barrier layer that is disposed to cover at least one surface of the circuit pattern and suppresses electrochemical migration from the circuit pattern, thereby making it possible to achieve high-density besides securing reliability, and relate to the method of manufacturing the same.例文帳に追加

本発明による印刷回路基板およびその製造方法は、絶縁層及び前記絶縁層に配置された回路パターンと前記回路パターンの少なくとも一面を覆うように配置されて前記回路パターンから電気化学的マイグレーション(electrochemical migration)を抑制するバリア層を含んで、信頼性を確保するだけではなく、高密度化を実現することができる印刷回路基板及びその製造方法に関する。 - 特許庁

The pattern form has a substrate and a property changing layer which is formed on the substrate, contains at least a photocatalyst, fine metal compound particles and a property imparting agent, and undergoes a change in property upon irradiation with energy, wherein the property changing layer has a property changing pattern in which the property of the property changing layer is changed into a pattern-like form.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、基材と、前記基材上に形成され、少なくとも光触媒、金属化合物微粒子、および特性付与剤を含有し、かつエネルギー照射により特性が変化する特性変化層とを有し、前記特性変化層は前記特性変化層の特性がパターン状に変化した特性変化パターンを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。 - 特許庁

The semiconductor substrate includes a substrate, a first semiconductor layer formed on the substrate, a mask formed in a partial region on the first semiconductor layer, a metallic material layer formed on the first semiconductor layer and mask in a predetermined pattern shape in a direction crossing the mask, a second semiconductor layer formed on the first semiconductor layer and the metallic material layer, and a cavity formed in the first semiconductor layer at a layer portion below the metallic material layer.例文帳に追加

本発明の半導体基板は、基板と、前記基板上に形成された第１の半導体層と、前記第１の半導体層上の一部領域に形成されたマスクと、前記第１の半導体層及び前記マスク上に当該マスクと交差する方向に所定のパターン形状で形成された金属性材料層と、前記第１の半導体層上及び前記金属性材料層上に形成された第２の半導体層と、前記金属性材料層より下層部分の前記第１の半導体層に形成された空洞と、を有する。 - 特許庁

The variable display structure 100 includes an image pattern formation layer (image pattern formation medium) 1 arranging a linear band 11 obtained to divide three images in a prescribed rule, a shading pattern arrangement layer 2 arranging a shading band 21 shielding the linear band 11 by mutually spacing regular intervals, and a substantially transparent substrate 3.例文帳に追加

可変表示構造１００は、３種類の像を分割して得られる線状帯１１が所定の規則で配列した像パターン形成層（像パターン形成媒体）１と、線状帯１１を遮る遮光帯２１を互いに一定の間隔を開けて配列させた遮光パターン配列層２と、実質的に透明な透明基板３とを有している。 - 特許庁

To provide in-molding transfer foil which is provided with a transfer layer on the surface subjected to release treatment of a base material, and is capable of simply changing the pattern of the transfer layer to patterns corresponding to various needs, increasing the speed when printing pattern forming and capable of forming a pattern having a sharp image.例文帳に追加

基材の離型処理された面に、転写層を設けたインモールド用転写箔において、転写層における絵柄を、様々なニーズに対応した絵柄に、簡単に変化させることができ、また、その絵柄の形成を印画する際の速度を高速化でき、鮮明な画像を有する絵柄が形成できるインモールド用転写箔を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a micro pattern by proximity field exposure by which a micro pattern having a high aspect ratio can be formed in an image formation layer with film thickness enough not to generate any defect such as pin hole or the like, when forming the micro pattern by proximity field exposure while the mask is made close to the image formation layer.例文帳に追加

マスクを像形成層に近接させて近接場露光によって微細パターンを作製するに際して、ピンホール等の欠陥の生じない厚さの膜厚に形成された像形成層に対して、高アスペクト比を有する微細パターンを作製することが可能となる近接場露光による微細パターンの作製方法を提供する。 - 特許庁

The thread can provide the magnetic anisotropy to the magnetic thin membrane layer by forming a ferromagnetic thin membrane layer following the fine ruggedness formed by the optical diffraction grating or the hologram pattern 13, and the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 can be the combination of different patterns so that the optical diffraction grating or the hologram pattern 13 may provide the change of magnetic characteristics.例文帳に追加

スレッドは、光回折格子またはホログラムパターン１３からなる微細凹凸に追従して強磁性材薄膜層を形成することにより、該磁性材薄膜層に磁気異方性を付与することができ、光回折格子またはホログラムパターンが磁気特性の変化を与えるように異なるパターンの組み合わせであるものとすることもできる。 - 特許庁

The production method of the circuit board contains the steps of forming a metal layer on one face or both faces of the substrate via an adhesive sheet containing fluoroplastic, forming a circuit pattern by etching the metal layer, and forming the circuit pattern to then re-adhere the circuit pattern by a thermocompression bonding process.例文帳に追加

本発明に係る回路基板の製造方法は、フッ素樹脂を含む接着シートを介して基材の片面または両面に金属層を形成する工程、金属層をエッチングすることにより回路パターンを形成する工程、および回路パターンを形成した後、熱圧着処理により回路パターンを再接着する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A wiring pattern 12 composed of a copper wire 12a and a gold plating layer 12b and a cover lay 15 covering the wiring pattern 12 for insulation are provided on a polyimide insulating tape 11, and an outflow restraining member 13 composed of a belt-like copper pattern 13a and a gold plating layer 13b is arranged around an opening 17 used for mounting an semiconductor element 16.例文帳に追加

ポリイミド系絶縁テープ１１の上に銅線１２ａと金メッキ層１２ｂからなる配線パターン１２と、この配線パターン１２を絶縁被覆するカバーレイ１５が設けられ、半導体素子１６を搭載するための開口１７の周囲近傍に、銅帯状パターン１３ａと金メッキ層１３ｂからなる流出抑制部材１３を配置してある。 - 特許庁

To provide an etching method whereby, in selectively etching a polysilicon film on a lower layer film having steps to form a specified pattern, a part of the polysilicon film existing at a step region of the lower layer film can be perfectly removed and a pattern can be formed accurately with suppressing the side etching occurring at the sidewall of the pattern on the polysilicon film.例文帳に追加

段差を有する下層膜上に形成されたポリシリコン膜を選択的にエッチングして所定パターンを形成する際に、下層膜の段差部領域に存在するポリシリコン膜の一部を完全に除去でき、かつポリシリコン膜のパターンの側壁に発生するサイドエッチングを抑制しつつ精度良くパターンを形成可能なエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The pattern printing transparent sheet in which a non-visible light reflective transparent pattern is printed on the surface of a transparent substrate and a transparent layer is laminated on the printing face of the transparent pattern, is characterized in that the transparent layer consists of a (meth)acrylate resin composition and has a glass transition temperature (Tg) of ≥100°C.例文帳に追加

透明基板の表面に非可視光線反射性の透明パターンが印刷され、該透明パターンの印刷面に透明化層が積層されてなるパターン印刷透明シートであって、該透明化層が(メタ)アクリレート樹脂組成物からなり、且つガラス転移点（Ｔｇ）が１００℃以上であることを特徴とするパターン印刷透明シートである。 - 特許庁

This method includes a step for forming, on a specified material layer 21, a photoresist pattern which exposes the part where the ions are implanted, a step for ion-implanting impurity elements into the specified material layer 21 with the photoresist pattern as an ion implantation barrier, and a step for stripping the photoresist pattern by using plasma of a mixed gas containing at least a hydrocarbon-based gas.例文帳に追加

所定の物質層２１上に、イオンを注入する部分を露出させたフォトレジストパターンを形成するステップと、フォトレジストパターンをイオン注入バリアとして、所定の物質層２１に不純物元素をイオン注入するステップと、少なくとも炭化水素系ガスを含む混合ガスのプラズマを用いて、フォトレジストパターンをストリップするステップとを含む。 - 特許庁