「layer- thickness」に関連した英語例文の一覧と使い方(75ページ目) - Weblio英語例文検索

The antireflection layer 138 has a refractive index n between the refractive index of the first layer and the refractive index of the second layer; and has a thickness of λ/4n when λ represents a wavelength of the light-emitting element, whereby a reflection loss at the interface between the barrier layer 137 and the organic intermediate layer 139 can be reduced.例文帳に追加

反射防止層１３８は、第１層の屈折率と、第２層の屈折率と、の間の屈折率ｎを備え、発光素子波長をλとした場合λ／４ｎの厚さを備えることで、バリア層１３７と有機中間層１３９界面での反射損失低減を可能とした。 - 特許庁

The multilayered film is manufactured by the laminating processing of a biaxially oriented heat-set film comprising the innermost layer being a seal layer, an intermediate layer containing an APET resin layer with a thickness of 100- < 200 μm and the outermost layer of which the tensile elastic modulus at 100°C is 50-600 MPa.例文帳に追加

最内層がシール層であり、中間層に厚さ１００μｍ以上２００μｍ未満のＡＰＥＴ樹脂層を含み、最外層として１００℃での引張弾性率５０〜６００ＭＰａの二軸延伸熱固定フィルムをラミネート加工した多層フィルムを製造する。 - 特許庁

To provide a wiring substrate which has a resin insulating layer, a filled via made through the insulating layer and filled with plating material and a conductor layer plated on the insulating layer and filled via, and in which the conductor layer has a uniform thickness, and also to provide a method for manufacturing the wiring substrate.例文帳に追加

樹脂絶縁層と、これを貫通しメッキにより充填形成されたフィルドビアと、これらの上にメッキにより形成された導体層とを有する配線基板において、導体層の厚さがほぼ均一な配線基板及び配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The magnetic recording medium has a base layer and a magnetic recording layer formed in this order on a substrate, and has a thin-film layer essentially comprising an element having ≥1.4 and ≤1.7 for Pauling's electronegativity and ≤4.0 nm thickness between the substrate and the base layer and in contact with the base layer.例文帳に追加

基板上に、下地層と磁気記録層とをこの順に設けてなる磁気記録媒体であって、基板と下地層のあいだに、下地層に接して、ポーリングの電気陰性度が１．４以上１．７以下の元素を主成分とし厚さが４．０ｎｍ以下の薄膜層を設けてなる磁気記録媒体。 - 特許庁

While the intermediate layer is heat-decomposed, the lower side layer and the upper side layer are contracted by losing an organic component, and afterwards, because the lower side layer and the upper side layer are integrated, a crack occurring by contracting in a state that the thickness is uneven is prevented, and a superior calcination pattern can be obtained.例文帳に追加

中間層が熱分解される間に下側層と上側層とが有機分を失って収縮し、その後下側層と上側層とが一体化するので、厚みが不均一な状態で収縮することによって生じる割れを予防し、良好な焼成パターンを得ることができる。 - 特許庁

The steel can has an aluminum layer of a thickness of 3-15 μm on the outer surface of a can body through an adhesive layer, and has additionally an ink layer and a top coat layer on the upper layer thereof and with excellent printed appearance and manufactured by drawing, thinning and deep drawing or die drawing.例文帳に追加

少なくとも、缶体の外面に接着剤層を介して厚み３〜１５μｍのアルミニウム層を有し、さらにその上層にインキ層とトップコート層を有することを特徴とする印刷外観に優れる絞り、薄肉化深絞り、あるいはしごき加工をして製造されるスチール缶。 - 特許庁

An emitter 3 formed of at least carbon nano-tubes shorter than the film thickness of an insulation layer 4 on a glass substrate 1 on which a conductive layer 2 is formed, the insulation layer 4 and a gate electrode 5 are laminated on its upper layer, and a gate opening part is formed by partially etching the gate electrode 5 and the insulation layer 4.例文帳に追加

導電層２が形成されたガラス基板１上に少なくとも絶縁層４の膜厚より短いナノチューブからなるエミッタ３を形成し、その上層に絶縁層４およびゲート電極５を積層し、ゲート電極５と絶縁層４の一部をエッチングしてゲート開口部を形成する。 - 特許庁

An insulating oxygen barrier layer 15 consisting of Al_2O_3 of about 20nm in thickness is formed on a side face of the conductive oxygen barrier layer 14, wherein the barrier layer 15 prevents diffusion of the oxygen atoms to the contact 13 from a side of the lower layer 14a of the conductive oxygen barrier layer 14.例文帳に追加

導電性酸素バリア層１４の側面上には、Ａｌ_２Ｏ_３からなり、導電性酸素バリア層１４の下部層１４ａの側方からの、すなわちコンタクト１３への側方からの酸素原子の拡散を防ぐ絶縁性酸素バリア層１５が２０ｎｍ程度の厚さに形成されている。 - 特許庁

It is preferable that the heat seal layer is provided between the lower polyester film layer and the steel panel, the melting start temperature of the lower polyester film layer is higher than that of the upper polyester film layer, the steel panel is a plated panel, and the resin or thickness of the lower and/or upper polyester film layer is limited.例文帳に追加

下層ポリエステルフィルム層と鋼板の間にヒートシール層を有すること、下層ポリエステルの溶融開始温度が上層ポリエステルの溶融開始温度より低いこと、鋼板がめっき鋼板であること、また、下層および／または上層ポリエステルフィルム層の樹脂や厚みの限定が好ましい。 - 特許庁

A light control layer made by laminating a light absorption layer and a transparent layer is set to be a primary unit, and the microlouver 32 is constituted by arranging a plurality of primary units L, S consisting of plural kinds of light control layers 40 having different layer thicknesses or optical constants in the layer thickness direction.例文帳に追加

マイクロルーバー３２は、光吸収層及び透明層が積層された光制御層を基本単位とし、層厚又は光学定数が異なる複数種類の光制御層４０からなる複数の基本単位Ｌ，Ｓをその層厚方向に配置したものである。 - 特許庁

To make a protective layer 4 that is superior in durability, especially LUL resistance characteristics even when the film thickness of the protective layer 4 is ≤5 nm, in a method for manufacturing a magnetic disk 10, in which a magnetic layer 3 is formed on a nonmagnetic substrate 1 and the protective layer 4 is formed on the magnetic layer 3.例文帳に追加

非磁性基板１上に磁性層３を有しこの磁性層３上に保護層４を有する磁気ディスク１０の製造方法において、保護層４の膜厚を５ｎｍ以下とした場合においても、この保護層４の耐久性、特に、耐ＬＵＬ特性を優れたものとする。 - 特許庁

The metal vapor deposition polyester film includes preparing a layer (M layer) which includes a metal oxide at least on one side of a polyester film layer (F layer), wherein the optical density OD of the M layer is 0.7-8.0, and the vapor deposition thickness unevenness of a width direction is 20% or below.例文帳に追加

ポリエステルフィルム層（Ｆ層）の少なくとも片面に金属酸化物を含む層（Ｍ層）を設けた金属蒸着ポリエステルフィルムであって、Ｍ層の光学濃度ＯＤが０．７〜８．０であり、幅方向の蒸着厚みムラが２０％以下である金属蒸着ポリエステルフィルムとする。 - 特許庁

A thickness d2 region 14B is defined between the back surface of the first dielectric layer 12 and the front surface of the third dielectric layer 16, with a spacer member 14A to constitute the second dielectric layer 14 for keeping the first dielectric layer 12 and the third dielectric layer 16 parallel to each other.例文帳に追加

スペーサ材１４Ａにより第１誘電体層１２の背面と第３誘電体層１６の前面との間に厚さｄ２の領域１４Ｂを画成し、第１誘電体層１２と第３誘電体材料１６とを互いに平行に保持する第２誘電体層１４を構成する。 - 特許庁

This electron-emitting light-emitting element includes: a plurality of PN junction parts each having a depletion layer 34 having a predetermined thickness formed therein; an anode electrode 12 facing the depletion layer of the P-N junction part and separated from the depletion layer by a predetermined distance; and a phosphor layer 13 formed on the depletion layer 34 side of the anode electrode.例文帳に追加

所定厚さの空乏層３４が形成されたＰ−Ｎ接合部３１と、Ｐ−Ｎ接合部の空乏層に対向して所定間隔をおいて配置されたアノード電極１２と、アノード電極の空乏層３４側に形成された蛍光体層１３と、を備える。 - 特許庁

To provide a simple and low-cost inspecting method of a poor medium in which the thickness of a recording layer separated from a predetermined extent in the manufacturing process of the optical recording medium having at least first dielectric layer, the recording layer, a second dielectric layer, and a reflective layer at this order or inverse order.例文帳に追加

少なくとも第一誘電体層、記録層、第二誘電体層、反射層をこの順又は逆順に有する光記録媒体の製造過程において、記録層の膜厚が所定の範囲から外れた不良媒体の、シンプルかつ低コストな検査方法の提供。 - 特許庁

To improve the adhesion between a surface protective layer and an under layer and obtain the surface protective layer having an enough thickness by a method wherein the permeation into the under layer is suppressed in a decorative material having the surface protective layer formed by crosslinkedly thermosetting an ionizing radiation curing resin composition.例文帳に追加

電離放射線硬化性樹脂組成物が架橋硬化した表面保護層を有する化粧材において、表面保護層と下層との接着性を向上させ、また下層への浸透を抑制して十分な厚みの表面保護層を有する化粧材を提供する。 - 特許庁

An evaluation site for judging the nature of an iron oxide layer is selected (step S1); and the nature of the iron oxide layer is evaluated (step S7) based on the measurement results of a layer thickness (step S4), layer electrical characteristics (step S5), and a layer surface color (step S6).例文帳に追加

鉄酸化皮膜の性状を判定する評価部位を選定し（ステップＳ１）、皮膜鉄成分量（ステップＳ３）、皮膜厚さ（ステップＳ４）、皮膜電気的特性（ステップＳ５）および皮膜表面色（ステップＳ６）の計測結果に基づいて、鉄酸化膜の性状評価を行う（ステップＳ７）。 - 特許庁

In a polyester sheet for building materials having a transparent surface layer which is a double layer sheet comprising the surface layer containing a substantially crystalline aromatic polyester resin composition and a base material layer containing a substantially non-crystalline aromatic polyester resin composition, the thickness of the sheet is 50-250 μm, and the thickness of the surface layer is 20-80 μm.例文帳に追加

実質的に結晶性の芳香族ポリエステル系樹脂組成物を含む層を表層、実質的に非結晶性である芳香族ポリエステル系樹脂組成物を含む層を基材層とする２層シートであって、全シート厚さが５０μｍ〜２５０μｍであり、なおかつ表層厚さが２０μｍ〜８０μｍであり、表層が透明状態である建材用ポリエステル系シート。 - 特許庁

The radiation image conversion panel having stimulable phosphor layers on a support and a layer between the support and the stimulable phosphor layer is characterized in that at least one layer of the stimulable phosphor layer is formed by a vapor growth method so as to have a film thickness of 50 μm to 1 mm, and the film thickness of the layer is 600-1600 nm.例文帳に追加

支持体上に輝尽性蛍光体層、且つ、支持体と輝尽性蛍光体層との間に層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも一層の輝尽性蛍光体層が、気相成長法により５０μｍ〜１ｍｍの膜厚になるように形成され、且つ、該層の膜厚が６００〜１６００ｎｍであることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

The method includes steps of forming a gate oxide layer which is arranged on a channel region, forming a first metal layer which is arranged on the gate oxide layer and has a first thickness, forming a second metal layer which is arranged on the first metal layer and has a second thickness, and setting a gate work function corresponding to the combination of the first and second thicknesses.例文帳に追加

方法は、チャネル領域上に配置されるゲート酸化物層を形成するステップと、ゲート酸化物層上に配置される第１厚さを有する第１金属層を形成するステップと、第１金属層上に配置される第２厚さを有する第２金属層を形成するステップと、第１厚さおよび第２厚さの組み合わせに応じるゲート仕事関数を設定するステップとを含む。 - 特許庁

The organic electroluminescent element 10 includes a first electrode 14, the organic layer 16 including at least a light emitting layer, and a second electrode 20, stacked in this order, in which the second electrode includes, starting from the organic layer side, an Al layer 18 having a thickness of 0.1 nm to 10 nm and an Ag layer 19 having a thickness of 3 nm to 50 nm.例文帳に追加

第１電極１４と、少なくとも発光層を含む有機層１６と、第２電極２０とが、この順で積層されており、前記第２電極が、前記有機層側から、０．１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の厚さを有するＡｌ層１８と、３ｎｍ以上５０ｎｍ以下の厚さを有するＡｇ層１９とを含むことを特徴とする有機電界発光素子１０。 - 特許庁

The composition and/or the thickness of the optical guide layer 104 is modulated in the direction of an optical waveguide.例文帳に追加

光ガイド層１０４の組成および厚さの少なくとも一方は、光導波路方向に沿って変調されている。 - 特許庁

Below the developing rollers 52B, 52C, 52Y and 52Bk, layer thickness controlling blades 54M, 54C, 54Y and 54Bk are brought into contact therewith.例文帳に追加

現像ローラ５２Ｍ、５２Ｃ、５２Ｙ、５２Ｂｋの下方には、層厚規制ブレード５４Ｍ、５４Ｃ、５４Ｙ、５４Ｂｋを接触させる。 - 特許庁

The unnecessary layers of the stack, such as a handle layer, are removed prior to completion of the device to achieve a membrane with a desired thickness.例文帳に追加

ハンドル層等のスタックの不要な層は、所望の厚さの膜を達成するために、デバイスの完成前に除去される。 - 特許庁

The Pb-Sb based alloy layer can prevent the reduction of the thickness of the negative electrode current collector tub in using ISS.例文帳に追加

このＰｂ‐Ｓｂ系合金層によりＩＳＳ使用時の負極板集電タブの薄肉化を抑制することができる。 - 特許庁

After the temperature is stabilized, the n-type GaN buffer layer 5, having a thickness of 1 μm, is further grown on the substrate 1.例文帳に追加

温度が安定した後に、更に厚さ１マイクロメートルのｎ型ＧａＮバッファ層５を基板１上に成長する。 - 特許庁

The total film thickness of joining these backing plating layer 4 and Ni-PTFE plating loayer 5 is set to 8-22 μm.例文帳に追加

これら下地メッキ層４およびＮｉ・ＰＴＦＥメッキ層５を合わせた総膜厚を８μｍ以上２２μｍ以下とした。 - 特許庁

Unevenness on the partitions is disappeared, film thickness of the organic light-emitting layer becomes uniform, and consequently, uniform light-emission can be attained.例文帳に追加

隔壁上の凹凸がなくなり、有機発光層などの膜厚が均一となり、均一な発光が可能となる。 - 特許庁

To provide a method for coating an optical fiber with a thin film protective layer which takes on a smooth surface aspect and is nearly uniform in thickness.例文帳に追加

平滑な表面性状を呈し、偏肉の少ない光ファイバの薄膜保護層コーティング方法を提供すること。 - 特許庁

Thereby, the thickness of the infiltrated layer of molten steel can be reduced, and the reliability of bubbling and the durability are improved.例文帳に追加

これによって、溶鋼浸潤層の厚みを薄くでき、これによって、バブリング信頼性と耐用性が向上する。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor formed by a spray coating method so as to suppress the thickness ununiformity of a film, particularly the ununiformity of a charge generating layer.例文帳に追加

スプレー塗工法における膜厚ムラ、特に電荷発生層のムラを抑えた電子写真感光体を提供する。 - 特許庁

To provide a light-emitting device with an organic layer formed in a comparatively uniform thickness, and to provide a manufacturing method of the light-emitting device.例文帳に追加

有機層が比較的均一な厚みに形成された発光装置、及び発光装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The whole surface of the coil is covered with an insulating layer which is formed through deposition, uniform in thickness, and as thick as about 10 μm.例文帳に追加

コイルの全表面は蒸着による約１０μｍ厚の均一な厚さの絶縁層により覆われている。 - 特許庁

Then, the thickness of the layer to be selectively oxidized is 28 nm and the temperature, when an oscillation threshold current becomes a minimum value is substantially 17°C.例文帳に追加

そして、被選択酸化層の厚さは２８ｎｍであり、閾値電流が最小となる温度は約１７℃である。 - 特許庁

Then, when a material is supplied, which turns an oxide water-soluble, the oxide layer is dissolved and reduced in thickness.例文帳に追加

次に酸化物を水溶性化する物質が供給されると前記酸化層が溶出して、酸化層の厚さが減る。 - 特許庁

To prevent elution of a metal from a corner section of a protrusion, by reducing the film thickness distribution of a protective layer and improving the covering properties.例文帳に追加

凸部の角部からの金属溶出を防ぐために、保護層の膜厚分布を減らし、カバレッジ性を向上する。 - 特許庁

It is preferred that the thickness of the modified layer 15 is 0.5 nm-10 nm, more preferably 1 nm-5 nm.例文帳に追加

改質層１５の膜厚は０．５ｎｍ〜１０ｎｍであることが好ましく、１ｎｍ〜５ｎｍであることがより好ましい。 - 特許庁

Next, the SiON film having a thickness of 3 μm is deposited on the lower clad layer 102 by ECR plasma CVD method.例文帳に追加

次に、下部クラッド層１０２の上にＥＣＲプラズマＣＶＤ法により膜厚３μｍのＳｉＯＮ膜を堆積する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial wafer improving the uniformity in an in-plane direction of the thickness of an epitaxial layer.例文帳に追加

エピタキシャル層の厚みの面内方向の均一性を向上できるエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

The soft magnetic layer has a thickness in which the magnetization directions stably coincide with facial directions in parallel with the substrate face during recording/reproducing.例文帳に追加

なお、軟磁性層は、記録再生の際に基板面と平行な面方向に安定に磁化の向きが揃う厚みを持つ。 - 特許庁

Here, the second etching stop layer 110 is formed so as to be varied in the thickness, according to the position on a semiconductor wafer.例文帳に追加

ここで、第２のエッチング阻止膜１１０は、半導体ウェハの位置に応じて厚さが異なるように形成される。 - 特許庁

The surface between the fine particles is formed with an oxidized layer 6 with a film thickness of about 10 to about 1,000 nm.例文帳に追加

これらの微粒子どうしの間の表面に膜厚が約１０〜約１０００ｎｍの酸化層６を形成した。 - 特許庁

To apply stable electrification by appropriately controlling the restriction of the layer thickness and electrifying of one component developer.例文帳に追加

一成分現像剤の層厚規制と帯電を適切に制御し、安定した帯電を付与することを目的とする。 - 特許庁

Polyethylene of 120°C is coated on the first protective layer-formed coated optical fiber 26a so that the thickness is 225μm.例文帳に追加

１２０℃のポリエチレンを厚みが２２５μｍとなるように第１保護層形成光ファイバ心線２６ａに被覆する。 - 特許庁

Al is then deposited as an insulating layer 12 at a size of 4.5 mmϕ diameter to a film thickness of 1.5 nm at the center of the Fe 10.例文帳に追加

次に、Ｆｅ１０の中心に、絶縁層１２としてＡｌを、４．５mmφの大きさで１．５nmの膜厚に成膜する。 - 特許庁