「layout patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In a pattern matching process 106, on a per layout pattern group basis, each of the layout patterns in the layout pattern group is compared with the reference pattern.例文帳に追加

パターンマッチング工程１０６では、各レイアウトパターン群別に、そのレイアウトパターン群内の各レイアウトパターンと前記基準パターンとを比較する。 - 特許庁

On each of the layout patterns, setting propriety check processing (S15) is carried out.例文帳に追加

各配置パターンについて、設定可否チェック処理（Ｓ１５）が行われる。 - 特許庁

To provide a layout method and layout apparatus for obtaining the constitution of a dummy pattern group whereby dummy patterns can be inserted efficiently into the layout of actual patterns while suppressing the increase of the data amount required therefor.例文帳に追加

データ量の増加を抑えた上で実パターンのレイアウト内にダミーパターンを効率良く挿入できるダミーパターン群の構成が得られるレイアウト方法及びレイアウト装置を提供する。 - 特許庁

To calculate accurate irradiation quantity for layout, including plural irradiation patterns.例文帳に追加

複数の照射パターンを含むレイアウトに対する正確な照射量を求める。 - 特許庁

In a lithography method, an original layout with line patterns and pad patterns is designed, and a pad pattern is extracted, and then a first reduction layout which is reduced by a first reduction width relative to the pad pattern layout is obtained.例文帳に追加

ラインパターン及びパッドパターンを含む原本レイアウトを設計して、パッドパターンを抽出した後、パッドパターンのレイアウトに対して第１縮小幅に縮小された第１縮小レイアウトを得る。 - 特許庁

This cell bench controller 2 stores a plurality of layout patterns of a cell bench 1 in a layout storage means 2121.例文帳に追加

セル作業台制御装置２は、レイアウト記憶手段２１２１において、セル作業台１のレイアウトパターンを複数記憶する。 - 特許庁

For example, cell patterns (A) having the same pattern are extracted from layout data.例文帳に追加

レイアウトデータの中から、例えば、同一のパターンを有するセルパターンＡを抽出する。 - 特許庁

For example, two layout patterns are prepared for every one layout type, and one layout pattern is selected from the two layout patterns in accordance with which of portrait-oriented and landscape-oriented the image data is on the basis of an up-down direction at the observation time as a reference.例文帳に追加

例えば、１つのレイアウトタイプごとに２通りのレイアウトパターンを用意し、画像データが観測時上下方向を基準にして縦長／横長のいずれであるかに応じて、前記２通りのレイアウトパターンの中から１つのレイアウトパターンを選択する。 - 特許庁

Assist patterns are generated in the original layout by deducting the assist pattern layout from the original layout, whereby the scum in the exposure step of transferring the layout having assist patterns generated therein, onto a semiconductor substrate is suppressed.例文帳に追加

原本レイアウトから補助パターンのレイアウトを差引して原本レイアウトに補助パターンを生成させて、補助パターンが生成されたレイアウトを半導体基板上に露光過程によって転写する露光過程中のスカムを抑制するリソグラフィ方法を提供する。 - 特許庁

Layouts are created, based on layout patterns for which information about an area to dispose content is defined, and if the number of different layouts created is below a predetermined number, a new layout pattern is created by the layout patterns.例文帳に追加

コンテンツの配置領域の情報が定義されているレイアウトパターンに基づいてレイアウトを生成し、生成するレイアウトの異なり数が所定の個数に満たない場合、レイアウトパターンにより新規のレイアウトパターンを生成すること。 - 特許庁

A simulation section 17 prepares a plurality of actual layout patterns with the use of prepared conditions.例文帳に追加

シミュレーション部１７は作成された条件を用いて複数の実レイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

By the method, the layout pattern can be simply formed on the surface of the lens 1 while flexibly responding to various layout patterns.例文帳に追加

この方法により、様々なレイアウトパターンに柔軟に対応しつつ、レイアウトパターンをレンズ表面に簡便に形成することができる。 - 特許庁

Moreover, the layout patterns selected are corrected on its basis or attributes involved in the numbers of the individual game equipment, its attachments and the like contained in the layout patterns are set to establish a layout to meet the requirements of the individual game parlors.例文帳に追加

さらに選択されたレイアウトパターンを基礎としてこれに修正を加えたりそのレイアウトパターンに含まれる各遊技設備の番号や付帯設備などに係わる属性を設定したりして、その遊技店に合ったレイアウトを設定する。 - 特許庁

Then, when a change of the layout pattern of the cell bench 1 occurs, the corresponding layout pattern is selected by a selection means 2111 from among the plurality of layout patterns read from the layout storage means 2121.例文帳に追加

そして、セル作業台１のレイアウトパターンの変更が生じた場合、選択手段２１１１により、レイアウト記憶手段２１２１から読み出した複数のレイアウトパターンの中から対応するレイアウトパターンが選択される。 - 特許庁

The pattern matcher 110 generates a second layout pattern with the waived patterns marked.例文帳に追加

パターン適合手段110は、マークされ免除されたパターンを有する第２のレイアウトパターンを生成する。 - 特許庁

The pseudo pattern setting portion 11 receives the layout data, and sets one or more pseudo patterns.例文帳に追加

擬似パターン配置部１１は、レイアウトデータを入力し、１又は２以上の擬似パターンを配置する。 - 特許庁

To provide a plurality of different layout patterns, without an operator having to specify the position where content is to be disposed.例文帳に追加

操作者がコンテンツの配置位置を指定することなく、異なる複数のレイアウトパターンを得ること。 - 特許庁

After a pattern layout is made as well as the transmittance T of a phase shifter is determined, the pattern layout is divided to generate a plurality of split patterns.例文帳に追加

パターンレイアウトを作成すると共に位相シフターの透過率Ｔを決定した後、パターンレイアウトを分割して複数の分割パターンを生成する。 - 特許庁

In the pattern-layout structure of the multi-layer substrate, signal-line patterns 11-13 are disposed alternately between layers and guard patterns 21-23, having grounding potentials are disposed on the surfaces opposite to the respective signal-line patterns 11-13.例文帳に追加

信号線パターン１１〜１３を層間で交互に配置し、信号線パターン１１〜１３の対向面に、グランド電位とされたガードパターン２１〜２３を配置したパターンレイアウト構造を有する。 - 特許庁

In order to make the shrinking amount of the other patterns matched to that of the most densely arranged patterns on pattern layout, slit-like dummy patterns are arranged in advance around through-holes to be formed.例文帳に追加

パターンレイアウト上一番密なパターンのシユリンク量に他パターンのシュリンク量を整合させるために、あらかじめ形成されるスルーホールの周辺にスリット状のダミーパターンを配置させる。 - 特許庁

The design rule checker 115 generates a third layout pattern with only the unmarked patterns of the layout being validated against the set of specified design rules.例文帳に追加

デザインルールチェッカー115は、特定のデザインルールのセットに照らして検証されているレイアウトのマークされないパターンのみを有する第３のレイアウトパターンを生成する。 - 特許庁

To provide a method for marking a lens, which simply forms a layout pattern on the surface of the lens while flexibly responding to various layout patterns.例文帳に追加

様々なレイアウトパターンに柔軟に対応しつつ、レイアウトパターンをレンズ表面に簡便に形成することのできるレンズのマーキング方法を提供すること。 - 特許庁

A print company prepares plural kinds of layout patterns and registers the same in a print company server 2.例文帳に追加

印刷会社において、複数種の割付パターンを作成して印刷会社サーバー２に登録しておく。 - 特許庁

To restrain an increase in the layout area of a multiple exposure photomask having minute patterns with different dimension widths.例文帳に追加

寸法幅の異なる微細パターンを有する多重露光フォトマスクのレイアウト面積の増加を抑制する。 - 特許庁

A pattern arranging device 50 arranges a dummy pattern in a layout region where a plurality of wiring patterns are arranged.例文帳に追加

パターン配置装置５０は、複数の配線パターンが配置されたレイアウト領域にダミーパターンを配置する。 - 特許庁

A layout pattern preparation section 27 in a lithographic process margin evaluation device 120 prepares a plurality of design layout patterns, with the use of analysis conditions and information stored in a layout pattern template holding section 22.例文帳に追加

リソグラフィプロセスマージン評価装置１２０内のレイアウトパターン作成部２７は、解析条件とレイアウトパターンテンプレート保持部２２に保存された情報とを用いて複数の設計レイアウトパターンを作成する。 - 特許庁

Many kinds of layout patterns for game equipment are previously stored into a pattern memory part 25 and the selection of the layer out patterns is made through an operation part 20c.例文帳に追加

パターン記憶部２５に遊技設備のレイアウトパターンを予め複数種類記憶しておき、操作部２０ｃを通じてレイアウトパターンの選択を受ける。 - 特許庁

A plurality of fundamental patterns is prepared which can be depicted by ejection with an ink-jet device and a desired layout of an integrated circuit is implemented by combining the fundamental patterns.例文帳に追加

インクジェット装置で吐出して描くことの可能な基本パターンを複数用意し、それらを組み合わせて所望の集積回路のレイアウトを行う。 - 特許庁

Each diffraction map is generated with respect to each of a plurality of target patterns from the first larger set of the target patterns, from a design layout.例文帳に追加

それぞれの回折マップが、設計レイアウトから、ターゲットパターンの最初のより大きな集合からの複数のターゲットパターンのそれぞれについて生成される。 - 特許庁

To verify how finished patterns differ under a plurality of process conditions or by methods of forming verification layout patterns in the manufacture of semiconductors.例文帳に追加

半導体製造において、複数のプロセス条件や検証レイアウトパターン作成方法の間で、仕上がりパターンがどのように異なるかを検証する。 - 特許庁

To improve engine mounting versatility by increasing layout patterns upon mounting with necessary minimum new components.例文帳に追加

エンジンを、必要最低限度の新規部品にて搭載時のレイアウトパターンを増加し、搭載汎用性を向上する。 - 特許庁

In a condition input process 109, a layout pattern division condition 108 such that a plurality of specific layout patterns having circuit characteristics to be made identical are included is input.例文帳に追加

条件入力工程１０９では、回路特性を同一に合わせるべき特定のレイアウトパターンが複数含まれるようなレイアウトパターン分割条件１０８を入力する。 - 特許庁

A design rule checker 115 subsequently processes the marked layout pattern and validates all but the marked patterns of the second layout pattern against a set of specified design rules.例文帳に追加

デザインルールチェッカー115は続いてマークされたレイアウトパターンを処理し、特定のデザインルールのセットに照らして、第２レイアウトパターンのマークされたパターンを除いた全てについて検証する。 - 特許庁

In the layout method, there are calculated the regions which can dispose dummy patterns in themselves and become irregular error regions when inserting no dummy pattern into them, and then, first dummy patterns are inserted into them.例文帳に追加

レイアウト方法は、ダミー配置可能領域で、かつ、ダミーパターンを挿入しないと疎密エラーとなる領域を算出し、その領域に第１のダミーパターンを挿入する。 - 特許庁

To verify how finished patterns differ among a plurality of different process conditions and a plurality of different methods of forming verification layout patterns in a semiconductor manufacturing process.例文帳に追加

半導体製造において、複数の異なるプロセス条件や複数の異なる検証レイアウトパターン作成方法の間で、仕上がりパターンがどのように異なるかを検証する。 - 特許庁

A memory 20 previously stores advance/delay references, corresponding to layout patterns of bit data values in the parallel data.例文帳に追加

記憶部２０には、予めパラレルデータにおけるビットデータ値の配列パターンに対応した進み／遅れ基準が記憶されている。 - 特許庁

To start up an OPC which is adaptive to nearly all patterns early by adequately correcting a layout pattern and a mask pattern in a short time.例文帳に追加

レイアウトパターン、マスクパターンを短時間で適切に補正し、ほとんどのパターンに対応したＯＰＣを早期に立ち上げる。 - 特許庁

As a result, there is obtained the layout of a dummy pattern group wherein the insertion of the dummy patterns is performed effectively while suppressing increase of the data amount required therefor.例文帳に追加

これにより、データ量の増加を抑えた上で効果的にダミーパターンを挿入したダミーパターン群のレイアウトを得る。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device for distributing layout patterns distributed so as to eliminate causes of reduction in manufacturing yield.例文帳に追加

歩留まり低下要因を回避するようにレイアウトパターンを分配する、半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The plurality of reference patterns 12 has the same shape, and the specific pattern 13 is formed in a different shape from the reference patterns 12 or the layout relationship of the specific pattern 13 to the reference patterns 12 is different from the array of the reference patterns 12.例文帳に追加

複数の基準パターン１２が同一形状で形成され、特異パターン１３が基準パターン１２と異なる形状で形成されているか、又は、特異パターン１３の基準パターン１２に対する配置関係が基準パターン１２間の配列と異なっているものである。 - 特許庁

One embodiment of the invention includes receiving a first layout pattern containing a new layout of an integrated circuit pattern, a pattern matcher 110 processes the layout pattern and designates certain patterns of the integrated circuit pattern that meet design waiver information.例文帳に追加

集積回路パターンの新規のレイアウトを含む最初のレイアウトパターンを受け取り、パターン適合手段110は、レイアウトパターンを処理し、そして、デザイン適用除外情報に適合する集積回路パターンの特定のパターンを指定する。 - 特許庁

To provide a method for producing a minute structure with a plurality of thin film patterns arranged to improve the area efficiency of a donor substrate, the donor substrate, a layout designing device, and a layout program.例文帳に追加

ドナー基板の面積効率を向上させるように薄膜パターンを配置した微小構造体の製造方法、ドナー基板、レイアウト設計装置およびレイアウトプログラムを提供する。 - 特許庁

These technologies realize timing optimization and layout to reduce crosstalk for LSI chips, and also generate layout patterns to improve yield, so that they are very useful.例文帳に追加

これらの技術を用いると、ＬＳＩチップのタイミング最適化やクロストークを低減するレイアウトが行える上に、歩留まりも向上できるレイアウトパターンも生成することができ、非常に有用である。 - 特許庁

To increase the degree of integration by performing layout compaction with an optical proximity effect taken into consideration, even for layout patterns of irregular arrangements included in circuit design data.例文帳に追加

回路設計データに含まれる不規則な配置のレイアウトパターンに対しても光近接効果を考慮したレイアウトコンパクションを行って半導体集積回路装置の集積度の向上を行う。 - 特許庁

Pointers P(n), where n=1-N, are prepared for the number N of a plurality of basic plotting patterns to be plotted by the layout function.例文帳に追加

面付け機能によって複数描画すべき基本描画パターンの数Ｎの分だけポインタＰ（ｎ）、但しｎ＝１〜Ｎ、を準備する。 - 特許庁