「layout patterns」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

Shot region layout is carried out so as to project mask regions where proper numbers of device patterns are arranged onto the center part and the peripheral part of a wafer, which is exposed while shielding the region not to be projected against light.例文帳に追加

ウエハの中央部および周辺部に、適切な個数のデバイスパターンが配置されたマスク領域を投影するショット領域割り付けを行い、投影すべき領域以外を遮光して露光を行う。 - 特許庁

Timing at which the sensors 17, 18 and 19 perform detecting operation is preset considering the tolerance in the layout and dimension of the part where the patterns 22 for correcting positional deviation are formed and detected.例文帳に追加

センサ１７，１８，１９が検出動作を実行するタイミングは、位置ずれ補正用パターン２２の作像、検出を行う部分のレイアウト及び寸法の公差を考慮して予め設定されている。 - 特許庁

Thus, while securing connections between cells or cells and other patterns by the pins and contacts of the wiring on the cell boundary and in the cell, a layout design can be generated that satisfies the design rule.例文帳に追加

これによりセル境界部やセル内配線部のピンやコンタクトによりセル同士および他の配線パターンとの接続を確保しながら、デザインルールを満たすようなレイアウトデザインを生成することができる。 - 特許庁

To provide a pattern layout device that effectively and precisely extracts a shape and a critical area value from patterns that is a parameter required for calculating the yield of the wiring pattern.例文帳に追加

ある形状の配線パターンから、その歩留まりを計算するために必要なパラメータであるクリティカルエリアの面積値と形状を効率的かつ高精度に抽出するパターンレイアウト装置を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a plurality of upper layer wiring patterns 40a, 40b, 40c, 40d are formed for propagating the output signal from the memory circuit 10 or the mitigation layout cell circuit 1 to the upper layer side of the multilayers wiring structure.例文帳に追加

また、多層配線構造の上層側にメモリ回路１０または緩和レイアウトセル回路１からの出力信号を伝搬するための複数の上層配線パターン４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄが形成されている。 - 特許庁

Furthermore, a selection circuit 43 is equipped for selectively extracting the output signal from the memory circuit 10 detouring a plurality of respective upper layer wiring patterns 40a, 40b, 40c, 40d or the mitigation layout cell circuit 1.例文帳に追加

また、複数の上層配線パターン４０ａ，４０ｂ，４０ｃ，４０ｄのそれぞれを経由するメモリ回路１０または緩和レイアウトセル回路１からの出力信号を選択的に抽出するための選択回路４３を、備えている。 - 特許庁

The photomask layout pattern includes an H-shaped pattern having a first line pattern, a second line pattern provided parallel to the first line pattern, and a central zone connecting the first and second line patterns.例文帳に追加

フォトマスクレイアウトパターンは、第一ラインパターンと、第一ラインパターンと平行に設けられている第二ラインパターンと、第一ラインパターンと第二ラインパターンを接続する中間領域とを含むＨ字型パターンを有する。 - 特許庁

To provide a photography game machine which can set many division layout patterns even when printing a plurality of composite images including a square composite image on a rectangular recording paper sheet.例文帳に追加

正方形の合成画像を含む複数の合成画像を長方形の記録用紙に印刷する場合であっても多くの分割レイアウトパターンを設定できる写真撮影遊戯機を提供する。 - 特許庁

A data comprising the layout and wiring of a plurality of corrected cell patterns is inputted; and when an OPC (optical proximity correction) processed cell for replacement is present based on replacement information, replacement to an OPC processed cell is performed (STEP1).例文帳に追加

複数の補正セルパターンを配置配線したデータを入力し、置換情報に基づいて置換用ＯＰＣ処理セルがある場合にはＯＰＣ処理セルへの置換を行う（ＳＴＥＰ１）。 - 特許庁

To provide a layout edition apparatus by which the sorts of dot patterns specified in respective component images arranged on a page can be displayed as a list, component images on which specific dot patterns are specified can be collectively selected and the dot pattern of a selected component image can be easily changed and a method and a program for displaying component images in the layout edition apparatus.例文帳に追加

ページ上に配置された部品画像それぞれに指定された網点パターンの種類を一覧することができ、また特定の網点パターンが指定されている部品画像を一括して選択することができ、さらに選択した部品画像の網点パターンの変更を容易に行うことができるレイアウト編集装置、レイアウト編集装置における部品画像表示方法、およびプログラムを提供することにある。 - 特許庁

When compressed document data having separately an image pattern dictionary data part 51 containing pairs of image patterns and indexes and a document layout data part 52 containing pairs of area identification information and indexes are inputted, the image patterns paired with the indexes in the image pattern dictionary data part 51 out of both data parts are replaced with image patterns representing new translation characters.例文帳に追加

画像パターンとインデックスの各対を内包する画像パターン辞書データ部５１、及び領域識別情報とインデックスの各対を内包する文書レイアウトデータ部５２を個別に有する圧縮文書データが入力されると、それら両データ部のうち、画像パターン辞書データ部５１にて各インデックスと対を成している画像パターンを、翻訳された新たな文字を表す画像パターンと差し替える。 - 特許庁

This automatic composition system includes a document DB 10, a pattern DB 13 for storing (P+1) page layout patterns in which P rectangular boxes are arranged; and a composition DB 15 for storing the composition data of each page.例文帳に追加

原稿ＤＢ１０、長方形のボックスをＰ個配置した、（Ｐ＋１）個の頁割付パターンを記憶したパターンＤＢ１３、頁毎の組版データを記憶する組版ＤＢ１５を有する自動組版システム１である。 - 特許庁

In that case, the user can select a pasting method, paste each character of the character string by every character and collectively paste the character string according to prepared layout patterns (such as L type, V type, U type and dogleg type).例文帳に追加

その際ユーザは貼り付け方式を選択し文字列の各文字を文字毎に貼り付けたり、あらかじめ用意されたレイアウトパターン（Ｌ型、Ｖ型、Ｕ型、く型等）に従って文字列を一度にまとめて貼り付けることもできる。 - 特許庁

Cell shape data 17a, cell attribute data 17b and arrangement restriction condition data 17c formed as libraries are stored in the pattern forming device 11 which executes layout data formation processing of process patterns.例文帳に追加

プロセスパターンのレイアウトデータ作成処理を実行するパターン作成装置１１には、ライブラリとして作成されたセル形状データ１７ａ、セル属性データ１７ｂ及び配置制約条件データ１７ｃが格納される。 - 特許庁

The deep groove 3 is provided in plural intermittent or continuous streak form, and a large number of characteristic identification patterns formed by the deep grooves 3 can be provided by a combination formed by varying the repetition pitch and streak layout pattern, and these identification patterns are allotted every item of the grooves 2 and used for visual identification.例文帳に追加

その深溝３を複数の断続するもしくは連続する筋状に設け、その繰り返しピッチやその筋状の配置パターンを変えるなどの組合せにより、深溝による固有の識別パターンを多数設けることができ、これを前記溝の各諸元毎に割り当て、目視による識別に利用する。 - 特許庁

An area size where existence of surrounding patterns is to be considered, based on an internal diffusion length of incident electron beam is decided, three-dimensional information of patterns in the area size is formed using design layout data, and a library correlating a cross-sectional shape of a SEM signal waveform and a cross-sectional shape is formed using the three-dimensional information.例文帳に追加

入射電子線の内部拡散長に基づいて周囲パターンの有無を考慮すべき領域のサイズを決定し，設計レイアウトデータを用いて，前記領域サイズ内のパターンの三次元情報を作成，この三次元情報を用いて，ＳＥＭ信号波形と断面形状とを関連づけるライブラリを作成する。 - 特許庁

When a prescribed pattern layout is selected by a lottery means, patterns of multiple pattern display means displayed on display windows 3a, 3b, 3c are moved based on the notification shift mode different from the normal shift mode, then the patterns are moved based on the normal shift mode in a lottery notification means.例文帳に追加

抽選手段により所定の図柄配列が選出されたとき、表示窓３ａ，３ｂ，３ｃに表示されている複数の図柄表示手段８ａ，８ｂ，８ｃの図柄を、通常移動形態とは異なる告知移動形態に基いて移動させた後、通常移動形態に基いて移動させる抽選告知手段を備えている。 - 特許庁

To surely detect a pattern for correcting positional deviation even when tolerance is found in the layout and dimension of a part where two or more sets of patterns for correcting positional deviation are formed and detected on an endless conveying body constituting a color image forming apparatus.例文帳に追加

カラー画像形成装置を構成する無端状の搬送体上に複数セットの位置ずれ補正用パターンの作像、検出を行う部分のレイアウト及び寸法の公差があっても、位置ずれ補正用パターンを確実に検出する。 - 特許庁

When any of a plurality of terminal systems such as an air- conditioning system 10 is selected, a plurality of switch patterns expressing a plurality of operation modes of the selected terminal system are displayed with a fixed layout on a screen of a multidisplay 70.例文帳に追加

エアコンシステム１０等の複数の端末システムのいずれかの選択に伴いこの選択端末システムの複数の動作モードを表す複数のスイッチパターンを所定レイアウトでもってマルチディスプレイ７０の画面上に表示する。 - 特許庁

To provide a projection exposure apparatus that can form adjoining conductor patterns in an equidistant layout on a film even when an alignment mark formed on the film is displaced from an originally assumed position.例文帳に追加

フィルム上に形成されたアライメントマークが、本来想定している位置と異なる位置に変位しているような場合であっても、隣接する導体パターンを等間隔にフィルムに形成することができる投影露光装置を提供する。 - 特許庁

The method of designing the semiconductor integrated circuit layout includes arranging a plurality of dummy diffusion patterns in a substrate area and right below the wire of a first wiring layer among automatically arranged wires.例文帳に追加

本発明の半導体集積回路レイアウト設計方法は、自動配置配線のうちの第１配線層の配線に対して、基板領域にて且つ上記配線の直下にて、複数のダミー拡散パターンを配置することを特徴とする。 - 特許庁

To solve a problem that LVS (Layout Verification Software) 9 cannot verify whether wiring is correctly branched at every block since circuit connection information extracted by a circuit connection information extraction part 5 is dealt with as a single network even if wiring patterns are divisionally drawn around a plurality of function blocks from a power pad.例文帳に追加

回路接続情報抽出部５により抽出される回路接続情報は、電源パッドから複数の機能ブロックに対して配線を分けて引き回される場合でも１つのネットとして取り扱われる。 - 特許庁

A cutting unit having a plurality of rotary cutting teeth, for engraving desired rugged patterns, attached in a layout matching the rugged patterns is made to approach and move away from the surface of a wood material to be processed, and the wood material is made to travel intermittently or continuously in a direction crossing the approaching and moving-away direction to form decorative rugged surface.例文帳に追加

所望の凹凸模様を削り出す為の、複数の回転切削歯を、凹凸模様に対応した配置で組付けた切削ユニットを、木質材の被加工面に接離動させると共に、木質材を、前記接離動方向と交叉する方向に、間欠的乃至は連続的に移動させることにより装飾性凹凸面を形成させることを特徴とする。 - 特許庁

By using a set of patterns comprising a universal start pattern and an end pattern and document structure information, regions between parts corresponding to the set of the patterns from a plurality of documents are respectively extracted; and the results therefrom are collected and reconstructed according to the document structure information and layout information and displayed in a form allowing a user to edit them.例文帳に追加

汎用的な開始パターン及び終了パターンからなるパターンの組と文書構造情報を用いて、複数の文書から前記パターンの組に該当する個所の間の領域をそれぞれ抽出し、結果を前記文書構造情報とレイアウト情報に従って集約して再構成し、ユーザが編集可能な状態で表示する。 - 特許庁

CPU changes the cell area table to be edited according to the arranged area table of instance, updates the cell occupancy table based on the cell area table, and checks the occupying area of the layout patterns from the values in the cell occupancy table.例文帳に追加

ＣＰＵは、配置されたインスタンスの面積テーブルに従って編集対象のセル面積テーブルを変更し、そのセル面積テーブルに従ってセル占有率テーブルを更新し、セル占有率テーブルの値によりレイアウトパターンの占有面積をチェックする。 - 特許庁

Further, the layout design of the mask patterns of the ROM module is executed so that the file name of the data file with the stored data recorded thereon can be visibly engraved on the inter-layer oxide film provided with a contact hole for determining the data value of the ROM module.例文帳に追加

更に、ＲＯＭモジュールのデータ値を決定づけるコンタクトホールが設けられる層間酸化膜に、格納データが記録されたデータファイルのファイル名が視認可能な態様で刻み込まれるように、ＲＯＭモジュールのマスクパターンのレイアウト設計を行う。 - 特許庁

To enhance the contrast of a light intensity distribution by exposure light transmitting a main pattern, even in an arbitrary layout where main patterns, comprising light transmitting parts provided in a light shielding part of a photomask are close to each other, at a distance shorter than the exposure light wavelength.例文帳に追加

フォトマスクの遮光部中に設けられた透光部よりなる主パターン同士が露光波長以下の間隔で近接する任意のレイアウトにおいても主パターンを透過した露光光による光強度分布のコントラストを強調できるようにする。 - 特許庁

The exposure data forming method comprises steps of arranging patterns inside a block so as to satisfy a pattern size and an inter-pattern distance determined by a design rule, of forming data for manufacturing a block mask mounted with the block, and of extracting a pattern layout satisfying the pattern size and inter-pattern distance of the block from layout data concerning semiconductor integrated circuits to form wafer manufacturing exposure data.例文帳に追加

露光データ生成方法は、設計規則で定められるパターンサイズ及びパターン間距離を満たすようにパターンをブロックの内部に配置し、該ブロックを搭載したブロックマスク製造用露光データを生成し、該ブロックの該パターンサイズ及び該パターン間距離を満たすパターン配置を半導体集積回路のレイアウトデータから抽出してウエハ製造用露光データを生成する各段階を含む。 - 特許庁

The advertisement display (A) is formed by disposing a great number of reduced advertisement images 1, 2 comprising photographs, characters or patterns, and adjusting colors and layout positions of the reduced advertisement images 1, 2 so as to display one integral advertisement image.例文帳に追加

写真、文字、あるいは図柄などからなる縮小広告画像１，２が多数配置され、それら各縮小広告画像１，２が互いに色彩および配置位置が調整されることにより一つの全体広告画像を表示した広告表示物Ａが形成される。 - 特許庁

Differences among predicted pattern data are detected by predicting a plurality of finish patterns in accordance with a plurality of different pattern forming process conditions and/or a plurality of verification layout pattern data and by performing figure operation on the predicted plurality of finished pattern data.例文帳に追加

複数の異なるパターン形成プロセス条件、及び／又は、複数の検証レイアウトパターンデータに対応して複数の仕上がりパターンを予測し、予測された複数の仕上がり予測パターンデータを図形演算することにより、予測パターンデータ間の相違箇所を検出する。 - 特許庁

When print data including print target data are received from an external device 100 while a print pattern setting mode is established, all the layout patterns, in which the print target data are arranged in respective print areas defined by the template data, are generated (S12).例文帳に追加

印刷パターン設定モードが設定されている場合に、外部装置１００から印刷対象データを含む印刷データが受信されると、テンプレートデータに規定された各印刷領域に印刷対象データを配置した配置パターンが全て生成される（Ｓ１２）。 - 特許庁

The slot machine 1 decides on winning by a random number lottery and displays a plurality of patterns corresponding to the result of the random number lottery in a main display 3, changes the display position of first to third reels R1, R2 and R3 displayed on the main display 3 from a reference layout.例文帳に追加

乱数抽選によって入賞の有無が決定され、乱数抽選の結果に対応する複数の図柄がメインディスプレイ３に表示されるスロットマシン１において、メインディスプレイ３に表示される第１〜第３リールＲ１，Ｒ２，Ｒ３の表示位置を基準レイアウトから変更する。 - 特許庁

The image forming support apparatus refers to an Orient tag of image file data with the TIFF format generated by a RIP processing, a BEP apparatus calculates layout information such as arrangement of patterns and pasted positions on each page on the basis of a file size, image data are electronically cut, and directions of top and bottom of each page are matched.例文帳に追加

ＲＩＰ処理で生成ｓれたＴＩＦＦフォーマットの画像ファイルデータのＯｒｉｅｎｔ ｔａｇを参照して面付けの並びといったレイアウト情報や各ページの貼り付け位置をファイルサイズからＢＥＰ装置で計算して電子裁断し、各ページの上下の向きを合わせる。 - 特許庁

After a mask pattern is formed by making the layout of a cell library subjected to the OPC processing, the correction amount of the OPC is adjusted by taking into consideration the influences of patterns of other cell libraries laid around the cell library on the peripheral region of the cell library.例文帳に追加

あらかじめＯＰＣ処理が施されたセルライブラリをレイアウトしてマスクパターンを形成した後、セルライブラリの周囲に配置された他のセルライブラリのパターンがセルライブラリの周辺領域に及ぼす影響を考慮することによって、上記ＯＰＣ補正の補正量を調整する。 - 特許庁

In the photomask, a chip pattern layout area 2 includes a mark pattern portion 3 including mark patterns 5, 6 to transfer marks onto a wafer, separately from a semiconductor chip pattern portion 1, and therefore, the chip size of the semiconductor chip can be reduced compared to a mask having a semiconductor chip pattern portion including a mark pattern.例文帳に追加

このフォトマスクでは、チップパターン配置領域２が、マーク類をウエハ上に転写するためのマークパターン５、６を含むマークパターン部３を半導体チップパターン部１とは別個に有するので、半導体チップパターン部がマークパターンを含んでいる場合に比べて、半導体チップのチップサイズを縮小できる。 - 特許庁

In a mask layout having aperture patterns continuously and discretely disposed, a device pattern having a chevron pattern selectively having a large aperture part can be formed with high controlling property by specifying the pattern pitch P to satisfy 0.69λ/NA≤P≤0.85λ/NA, wherein λ is the exposure light wavelength and NA is the numerical aperture of a projection lens.例文帳に追加

開口パターンを連続的に離散配置したマスクレイアウトにおいて、パターンピッチＰを０．６９λ／ＮＡ≦Ｐ≦０．８５λ／ＮＡ（ここで、λは露光光波長、ＮＡは投影レンズの開口数）とすることで、選択的に大開口部を有するシェブロンパターンを有するデバイスパターンを制御性よく形成することができる。 - 特許庁

An input layout data is sorted to rectangular shapes of different pattern widths, a boundary for dividing peripheral part or internal part is generated for each sorted figure, an input pattern is formed into a fine pattern at the boundary and a complementary mask, shared to form fine patterns in both sides of the boundary is used as different layers, in order to form a pattern.例文帳に追加

入力レイアウトデータをパターン幅別矩形などに分類し、分類した図形毎に周辺もしくは内部を分割する境界を作成し、入力パターンを境界で細分パターン化し、境界の両隣の細分パターンが互いに異なる層になるように振り分けた相補マスクを用いてパターン形成を行う。 - 特許庁

The system and method enumerate a set of variables and pattern intervals to construct (109) an inspection structure and analyze a series of layout patterns according to design rules by simulation (115) using a lithography model to obtain a partition of the pattern spaces into one portion 133 that requires only rule-based OPC and another portion 131 that requires model-based OPC.例文帳に追加

本システムおよび方法は、パターン空間の、ルールベースＯＰＣのみを必要とする部分１３３と、モデルベースＯＰＣを必要とする別の部分１３１との区分を得るために、リソグラフィ・モデルを用いたシミュレーション１１５によって、設計ルールしたがって変数値とパタン間隔の集合を列挙して検査構造を構築し１０９、一連のレイアウト・パターンを分析する。 - 特許庁

The layout method of the integrated circuit device comprises a step (S14) for searching an area where a functional cell is not arranged yet, and a step (S16) for arranging a power supply reinforcement cell including first and second power supply reinforcement lines at least a part of which is formed, respectively, of first and second polysilicon wiring patterns in an area where a functional cell is not arranged yet.例文帳に追加

本発明の集積回路装置のレイアウト方法は、機能セルが配置されていない未配置領域を探索するステップ（ステップＳ１４）と、未配置領域に、少なくとも一部が第１及び第２のポリシリコン配線パターンによりそれぞれ形成された第１及び第２の電源補強線と、を含む電源補強セルを配置するステップ（ステップＳ１６）と、を含む。 - 特許庁

The overlap evaluation method of the patterns uses an overlap evaluation pattern, acquires an image of the overlap evaluation pattern using electron microscopes 10, 109 (S1), compares the acquired image with layout information in which the overlap evaluation pattern registered in a storage part 111 is to be arranged to calculate the amount and the direction of displacement of each exposure step (S2) and displays an evaluation result (S3).例文帳に追加

重ね合わせ評価パターンを用いるパターンの重ね合わせ評価方法であって、重ね合わせ評価パターンの画像を、電子顕微鏡１０、１０９を用いて取得し（Ｓ１）、取得した画像と、記憶部１１１に登録されていた、重ね合わせ評価パターンが配置されるべきレイアウト情報とを比較して、各露光ステップのずれ量と方向とを算出（Ｓ２）し、評価結果を表示（Ｓ３）する。 - 特許庁