「nm e」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The oscillation body 3 oscillates laser light of 914±1 nm in wavelength and the higher harmonic generating element 5 generates the blue laser light E of 457±1 nm in wavelength.例文帳に追加

発振体３から波長９１４ｎｍ±１ｎｍのレーザ光を発振させ、高調波発生素子５から波長４５７±１ｎｍの青色レーザ光Ｅを発生させる。 - 特許庁

Red colored light of not shorter than 610 nm and not longer than 700 nm sensing the pitch "d", and blue colored light of approximately not shorter than 431 nm and not longer than 495 nm sensing e=d/√2 are diffracted by the diffraction lattice 13, and taken out in a direction vertical to a surface of a figure respectively.例文帳に追加

６１０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の赤色の光はピッチｄを感じ、およそ４３１ｎｍ以上４９５ｎｍ以下の青色の光はピッチｅ＝ｄ／√２を感じ、回折格子１３によって回折され、それぞれ図面に垂直な方向に取り出すことができる。 - 特許庁

The epoxy resin composition for sealing semiconductors comprises (A) an epoxy resin, (B) a phenolic resin-based curing agent, (C) an inorganic filler other than the component (E) below, (D) a curing accelerator and (E) silicon carbide, where the average particle size of silicon carbide (E) is at least 1 nm and at most 1,000 nm.例文帳に追加

（Ａ）エポキシ樹脂、（Ｂ）フェノール樹脂系硬化剤、（Ｃ）下記（Ｅ）成分を除く無機充填材、（Ｄ）硬化促進剤、（Ｅ）炭化ケイ素を含むエポキシ樹脂組成物であって、前記炭化ケイ素（Ｅ）の平均粒径が１ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 - 特許庁

Light with wavelengths of 300 nm to 500 nm is irradiated to a hen eggs group E by a lighting part 4 and a diffusive reflector 5 disposed on an inner wall of an egg testing chamber 2 to emphasize contrast between eggshell surfaces and spots deposited on the surfaces by fluorescence of 600 nm to 700 nm radiated in the process of excited π-electrons in eggshell pigment returning to a base level.例文帳に追加

検卵室２の内壁に配設した照明部４と拡散反射板５によって、波長300nm〜500nmの光を鶏卵群Ｅに照射し、励起した卵殻色素中のπ電子が基底準位に復帰する過程で放射した600nm〜700nmの蛍光で卵殻表面と該面に付着した汚れのコントラストを強調する。 - 特許庁

The average diameter of crystal grains D, in the surface of the organic semiconductor layer in contact with the gate dielectric layer, is 160 to 600 nm and the average diameter of crystal grains E in the surface of the organic semiconductor layer opposite to the gate dielectric layer is 50 to 150 nm.例文帳に追加

有機半導体層のゲート絶縁層に接する面における結晶粒の平均粒径Ｄが１６０〜６００ｎｍであり、有機半導体層のゲート絶縁層とは反対側の面における結晶粒の平均粒径Ｅが５０〜１５０ｎｍである。 - 特許庁

The curable composition preferably contains 0.01-20 mass% photopolymerization initiator having ≤100 (1/mol/cm) extinction coefficient (e) per mol at 365 nm wavelength.例文帳に追加

該硬化性組成物は、波長３６５ｎｍにおけるモル当たりの吸光係数（ｅ）が１００（リットル／ｍｏｌ／ｃｍ）以下である光重合開始剤を０．０１〜２０質量％含むことが好ましい。 - 特許庁

An e×4WD C/U6 for controlling a motor 10 and the reducer clutch 17 for applying torque of the motor 10 to a motor driving wheel 12, stores a deferential gear oil temperature °C and characteristics of a deferential gear friction value Nm of the reducer clutch 17, and estimates a deferential gear friction value Nm from the characteristics and the estimated deferential gear oil temperature °C.例文帳に追加

モータ１０と、モータ１０のトルクをモータ駆動輪１２に印加する減速機クラッチ１７とを制御するｅ・４ＷＤ Ｃ／Ｕ６は、減速機クラッチ１７のデフ油温［℃］とデフフリクション［Ｎｍ］の特性を予め格納し、当該特性と推定されたデフ油温［℃］とからデフフリクション値［Ｎｍ］を推定する。 - 特許庁

The optical device having the porous antireflection film 2 composed of silicon oxide on the surface of a lens 1 is constituted so that the average hole diameter of the film 2 is ≤10mm, and a projection area of a part where the base plate tilt angle of the lens 1 is ≥50° is ≥10% of a projection area in an effective diameter E.例文帳に追加

レンズ１の表面に酸化ケイ素からなる多孔質反射防止膜２を有する光学素子であって、多孔質反射防止膜２の平均孔径が10 nm以下であって、レンズ１の基板傾斜角度50°以上の部分の投影面積が、有効径E内部の投影面積の10％以上である光学素子及びその製造方法。 - 特許庁

The composition for abrasive comprises (A) a grinding agent comprising an organic polymer with 5-500 nm of average particle size, (B) benzotriazole or its derivative, (C) an organic acid, (D) hydrogen peroxide, (E) polyvinyl alcohol and (F) water.例文帳に追加

（Ａ）研磨材、（Ｂ）ベンゾトリアゾールまたはその誘導体、（Ｃ）有機酸、（Ｄ）過酸化水素、（Ｅ）ポリビニルアルコール及び（Ｆ）水からなり、研磨材が、平均粒径５〜５００ｎｍの範囲にある有機高分子化合物からなる研磨用組成物である。 - 特許庁

The manufacturing apparatus which is characterized in that one wavelength in exposure is 140 to 310 nm and the other is 360 to 440 nm and different and is for manufacturing different kinds of resist liquids containing the mutually different solvent components is equipped with a manufacture line PL formed by connecting the following (a) to (c) and a reverse washing line RL comprising the following (d) to (e).例文帳に追加

露光時の波長が一方は１４０〜３１０ｎｍの範囲、他方が３６０〜４４０ｎｍの範囲である点で異なり、且つ溶剤成分が互いに異なるレジスト液を製造するための装置であって、下記のａ）〜ｃ）をこの順に接続した製造ラインＰＬと下記のｄ）〜ｅ）からなる逆洗浄ラインＲＬとを備えた製造装置。 - 特許庁

For example, when near-infrared illumination light has a wavelength of about 850 nm, such light can be made incident on an imaging unit 7 without the loss of a light amount and visible light emitted from the internal fixation target 22 is projected onto a subject's eye E.例文帳に追加

例えば８５０ｎｍ前後の波長の近赤外照明光とすれば、光量の損失なく撮像手段７に入射させることができる共に、内部固視標２２から出射する可視光を被検眼Ｅに投影することができる。 - 特許庁

For example, when near-infrared illumination light has a wavelength of about 850 nm, such light can be made incident on an imaging means 7 without the loss of the amount of light and visible light emitted from the internal fixation target 22 is projected onto a subject's eye E.例文帳に追加

例えば８５０ｎｍ前後の波長の近赤外照明光とすれば、光量の損失なく撮像手段７に入射させることができる共に、内部固視標２２から出射する可視光を被検眼Ｅに投影することができる。 - 特許庁

In the multilayer interference filter 15, the total of thicknesses of layers 156 and 157 sandwiched between λ/4 multilayer films (a laminate of layers 151 to 153 and a laminate of layers 158 to 160) is set to 91 [nm] in the boundary regions D and E.例文帳に追加

多層干渉フィルタ１５では、境界領域Ｄ、Ｅにおいて、λ／４多層膜（層１５１〜１５３の積層体および層１５８〜１６０の積層体）で挟まれる層１５６、１５７の膜厚が、合計で９１［ｎｍ］に設定されている。 - 特許庁

The stable fibrate composition is composed of fibrate particles having effective average particle sizes of about less than 2,000 nm bound on their surfaces with at least one surface stabilizer wherein the surface stabilizer includes other than PEG derived vitamin E.例文帳に追加

約2000nm未満の有効平均粒径を有するフィブラート粒子とその表面に結合している少なくとも1種の表面安定剤であって、該表面安定剤がＰＥＧ誘導体化ビタミンＥではないものとを含む安定なフィブラート組成物。 - 特許庁

The coating composition includes: (A) a silicon alkoxide, (B) alcohols, (C) water, (D) acids, and (E) fine particles having hydrophobic surface and a primary particle diameter of ≤100 nm; wherein (A) silicon alkoxide, (B) alcohols, (C) water, and (D) acids have been mixed and aged.例文帳に追加

コーティング組成物は、（Ａ）シリコンアルコキシド、（Ｂ）アルコール類、（Ｃ）水、（Ｄ）酸類、および、（Ｅ）表面が疎水性で平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の微粒子を含有しており、（Ａ）シリコンアルコキシド、（Ｂ）アルコール類、（Ｃ）水、および、（Ｄ）酸類は混合されて熟成が完了した状態である。 - 特許庁

The light emitting device is constituted of the combination of an ultraviolet-emitting diode having a light emitting peak in a wavelength region of 350-410 nm, and a fluorescent layer containing a europium (Eu)-activated green light-emitting fluorescent expressed by general formula (Ca_1-xSr_x)_2-e-M1-Si_2O_7:Eu_e.例文帳に追加

波長３５０〜４１０ｎｍの波長領域に発光ピークを有する紫外発光ダイオードと、一般式（Ｃａ_１−ｘＳｒ_ｘ）_２−ｅ・Ｍ１・Ｓｉ_２Ｏ_７：Ｅｕ_ｅで表されるユーロピウム（Ｅｕ）賦活緑色発光蛍光体を含む蛍光体層とを組み合わせて発光素子を構成する。 - 特許庁

The photosensitive paste composition contains (A) a conductive particle, (B) an alkaline soluble polymer, (C) polyfunctional (meth)acrylate compound, (D) a photopolymerization initiator, and (E) a silver oxide powder having a 1-1,000 nm average particle size.例文帳に追加

上記の課題は、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）アルカリ可溶性重合体、（Ｃ）多官能（メタ）アクリレート化合物、（Ｄ）光重合開始剤、および（Ｅ）平均粒径が１〜１０００ｎｍである酸化銀粉末を含有してなることを特徴とする感光性ペースト組成物によって解決される。 - 特許庁

A chopping frequency fc is set at F1=7.5 Khz when the speed Nm is in region E lower than a low level w1 and at F0=15 Khz when w1 is exceeded.例文帳に追加

電動機コイル１aの両端に第１，第２スイッチ１８ａ，１８ｂを接続し、目標トルクＴrqおよび電動機速度Ｎmに基づいて、コイル１ａへのチョッピング通電を指示する信号Ｓ８を発生し、速度Ｎmが低値ｗ１以下のＥ領域のとき、チョッピング周波数ｆcをＦ1＝7.5Khzに、ｗ１を越えるとＦ0＝15Khzに定める。 - 特許庁

The photosensitive resin composition comprises: a dispersion composition that comprises (A) titanium dioxide particles having a mean particle diameter of 1 to 100 nm, (B) a graft copolymer bearing a graft chain that has a number of atoms of 40 to 10,000, exclusive of hydrogen, and (C) a solvent; (D) a polymerizable compound; and (E) a polymerization initiator.例文帳に追加

感光性樹脂組成物は、平均粒子径が１ｎｍから１００ｎｍである二酸化チタン粒子（Ａ）、水素原子を除いた原子数が４０〜１００００の範囲であるグラフト鎖を有するグラフト共重合体（Ｂ）、及び溶媒（Ｃ）を含む分散組成物と、重合性化合物（Ｄ）と、重合開始剤（Ｅ）とを含む。 - 特許庁

The photopolymerizable resin composition contains: (A) a compound expressed by a general formula I or a specified compound having two trihaloalkyl-substituted s-triazine cyclic groups; (B) an organic boron salt compound; (C) a sensitizing dye having absorption in a wavelength range from 380 to 410 nm; (D) a polymerizable compound; and (E) a binder polymer.例文帳に追加

（Ａ）一般式Ｉで表される化合物またはトリハロアルキル置換ｓ−トリアジン環基を２個有する特定の化合物、（Ｂ）有機ホウ素塩化合物、（Ｃ）３８０〜４１０ｎｍの波長域に吸収を有する増感色素、（Ｄ）重合性化合物、（Ｅ）バインダーポリマーを含有する光重合性樹脂組成物。 - 特許庁

The planographic printing plate precursor has a support and a photosensitive layer, characterized in that the photosensitive layer contains (A) a polymerizable compound having a specified cyclic structure, (B) a polymerization initiator, (D) a sensitizing dye having a maximum absorption in a wavelength region from 350 to 450 nm, and (E) a binder polymer.例文帳に追加

支持体及び感光層を有する平版印刷版原版であって、該感光層が、（Ａ）特定の環状構造を有する重合性化合物、（Ｂ）重合開始剤、（Ｄ）３５０〜４５０ｎｍの波長域に極大吸収を有する増感色素、および（Ｅ）バインダーポリマーを含有することを特徴とする平版印刷版原版。 - 特許庁

The herbicide composition in the O/W super-minute emulsion contains (a) an alkylene oxide derivative represented by formula (I) [e.g. polyoxyethylene (10 mol) polyoxypropylene (10 mol) dimethyl ether], (b) a herbicidal active ingredient, (c) a hydrophilic nonionic surfactant, (d) a lipophilic nonionic surfactant and (e) water, and has 10-500 nm average emulsion particle diameter.例文帳に追加

（ａ）下記（Ｉ）式で示されるアルキレンオキシド誘導体（例えば、ポリエチレン（１０モル）ポリオキシプロピレン（１０モル）ジメチルエーテル）と、（ｂ）除草活性成分と、（ｃ）親水性非イオン性界面活性剤と、（ｄ）親油性非イオン性界面活性剤と、（ｅ）水とを含有し、平均乳化粒子径が１０〜５００ｎｍであることを特徴とするＯ／Ｗ超微細エマルション除草剤組成物。 - 特許庁

The photosensitive resin composition forms a resin layer of 250 μm thickness having a light transmission of ≤5% at a wavelength of 450-650 nm by photocuring, wherein the photosensitive resin composition comprises (A) a binder polymer, (B) a photopolymerizable compound, (C) a photopolymerization initiator, (D) a red pigment, (E) a yellow pigment and (F) a leuco dye.例文帳に追加

波長４５０ｎｍ〜６５０ｎｍにおける光透過率が５％以下である膜厚２５０μｍの樹脂層を光硬化により形成する感光性樹脂組成物であって、（Ａ）バインダーポリマーと、（Ｂ）光重合性化合物と、（Ｃ）光重合開始剤と、（Ｄ）赤色顔料と、（Ｅ）黄色顔料と、（Ｆ）ロイコ染料とを含有する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

The active energy ray-curable composition comprises (A) a resin having an alkoxysilyl group and a (meth)acryloyl group, (B) a colloidal silica having 1-200 nm primary particle diameter, (C) an ultraviolet light absorbent and/or (D) a light stabilizer and optionally further (E) a (meth)acrylate having two or more (meth)acryloyl groups in the molecule.例文帳に追加

（Ａ）アルコキシシリル基及び（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、（Ｂ）一次粒子径が１〜２００ｎｍのコロイダルシリカ、（Ｃ）紫外線吸収剤及び／又は（Ｄ）光安定剤を含有することを特徴とする活性エネルギー線硬化性組成物、及び更に（Ｅ）分子中に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレートを含有させてなる活性エネルギー線硬化性組成物。 - 特許庁

To provide a method for producing nickel-iron-molybdenum alloy nanoparticles free from the fusion bonding of particles to each other and the coarsening of the particles, and suitable as a filler for imparting magnetic properties, and to provide nickel-iron-molybdenum alloy nanoparticles with a mean primary particle diameter of ≤200 nm and a coercive force of ≤500 e produced by the method for producing nickel-iron-molybdenum alloy nanoparticles.例文帳に追加

磁気特性を付与するためのフィラーとして好適な、粒子同士の融着や粗大粒子化がないニッケル—鉄—モリブデン合金ナノ粒子の製造方法、および、このニッケル—鉄—モリブデン合金ナノ粒子の製造方法によって製造された平均一次粒子径が２００ｎｍ以下、保磁力が５０Ｏｅ以下のニッケル—鉄—モリブデン合金ナノ粒子を提供する。 - 特許庁

The polarizer P and the polyester film E are preferably laminated through an adhesive layer which is composed of a resin solution containing a polyvinyl alcohol resin, a crosslinking agent and a metal compound colloid having an average particle diameter of 1-100 nm, wherein the metal compound colloid is contained in the adhesive layer in an amount of not more than 200 parts by weight based on 100 parts by weight of the polyvinyl alcohol resin.例文帳に追加

該偏光子Ｐと、該ポリエステルフィルムＥは、ポリビニルアルコール系樹脂、架橋剤及び平均粒子径が１〜１００ｎｍの金属化合物コロイドを含有してなる樹脂溶液であって、かつ、金属化合物コロイドは、ポリビニルアルコール系樹脂１００重量部に対して、２００重量部以下の割合で配合されている接着剤層を介して積層されていることが好ましい。 - 特許庁

The epoxy resin composition for sealing optical semiconductors essentially comprises an epoxy resin (A) containing a brominated epoxy resin, a phenolic resin hardener (B), a hardening accelerator (C), a filler (D) and a dye (E) which absorbs rays with a wavelength range of 400-800 nm, wherein the amount of the brominated epoxy resin is 2-12 wt.% in the total resin composition.例文帳に追加

ブロモ化エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂（Ａ）、フェノール樹脂硬化剤（Ｂ）、硬化促進剤（Ｃ）、充填材（Ｄ）、４００ｎｍ〜８００ｎｍの波長域での光線を吸収する染料（Ｅ）を必須成分とし、該ブロモ化エポキシ樹脂が全樹脂組成物中に２重量％以上、１２重量％以下であることを特徴とする光半導体封止用エポキシ樹脂組成物。 - 特許庁

This ultraviolet shielding pressure-sensitive type adhesive composition contains a polyester resin D with a glass transition temperature in a range of -80 to 0°C, and having a hydroxy group and/or a carboxy group in side chain, ultraviolet shielding particles E of an average particle size of 0.1 to 100 nm, and a reactive compound F reacting with the hydroxy group and/or the carboxy group in the resin D.例文帳に追加

ガラス転移温度が−８０〜０℃の範囲である、側鎖に水酸基及び／またはカルボキシル基を有するポリエステル系樹脂（Ｄ）、平均粒子径が、０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満である紫外線遮断性粒子（Ｅ）及び前記樹脂（Ｄ）中の水酸基及び／またはカルボキシル基と反応し得る反応性化合物（Ｆ）を含むことを特徴とする紫外線遮断性感圧式接着剤組成物。 - 特許庁