「order blank」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for manufacturing the cylindrical case, is performed as the followings, with which a platy blank 11 arranging guide holes 12 at a prescribed pitch along the longitudinal direction is sent out in order while guiding by using these guide holes 12 to punch out the cylindrical case 1 with a pressing apparatus 8 while sending one by one.例文帳に追加

順送プレス装置８にて、長手方向に沿って所定ピッチでガイド孔１２を設けたプレート状素材１１をこのガイド孔１２にガイドさせつつ順次送り出して筒状ケース１を打ち抜く筒状ケース製造方法である。 - 特許庁

The booklet storage body is created from the blank paper; a booklet storage space is formed between the bottom plate and the lapped plate superposed on the bottom plate; and the photograph and the like associated with the contents of the booklet housed are printed on the surfaces of the first double doors, the surfaces of the second double doors and the surface of the bottom plate in the fixed order.例文帳に追加

冊子収納体は、空白紙から作成され、底板とその上に重ね合わせた重ね板の間に冊子収納空間が形成され、第１観音扉、第２観音扉並びに底板の表面に、収納される冊子の内容に関係する写真等が一定順序に沿って印刷されている。 - 特許庁

In order to use the photomask blank for producing a mask for ArF exposure, the film thickness and composition of the light shielding film 12 are selected to obtain the optical density OD of the film in the range of 1.2 to 2.3 with respect to light at 193 nm or 248 nm wavelength.例文帳に追加

このフォトマスクブランクをＡｒＦ露光用のマスク作製用とする場合には、遮光性膜１２の光学濃度が、波長１９３ｎｍまたは２４８ｎｍの光に対して１．２〜２．３の範囲の値となるように、その膜厚と組成が選択される。 - 特許庁

After a seed layer 2a, a ground layer 2b, a magnetic layer 3 and a carbon/hydrogen protective layer 4 are formed on a disk blank 1 with this order, a lubricant film consisting of a lubricant containing a solvent is formed on the carbon/hydrogen protective layer 4 in a film-forming process.例文帳に追加

ディスクブランク１上に、シード層２ａ、下地層２ｂ、磁性層３、炭素水素保護層４をこの順に形成した後、成膜工程において、炭素水素保護層４の上に溶媒を含む潤滑剤からなる潤滑剤膜を成膜する。 - 特許庁

A CP selective deflector 32 deflects the electron beam surely from the sample surface during the beam blanking period in order to adjust the synchronization error during the beam blank period, so that the synchronization error of a plurality of electrodes of the deflector 32 is below an allowable value, thus surely preventing the patterning failure due to the beam leakage.例文帳に追加

CP選択偏向器３２の複数の電極部の同期誤差が許容値以下となるように、ビームブランク期間内に同期誤差の調整を行うため、ビームブランク期間に確実に電子ビームを試料面からそらすことができ、ビーム漏れによるパターニング不良を確実に防止できる。 - 特許庁

In order to use the halftone phase shift mask blank for producing a mask for ArF exposure, the film thickness and composition of the light shielding film 12 are selected to obtain the optical density OD of the film in the range of 1.2 to 2.3 with respect to light at 193 or 248 nm wavelength.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクブランクをＡｒＦ露光用のマスク作製用とする場合には、遮光性膜１２の光学濃度ＯＤが、波長１９３ｎｍまたは２４８ｎｍの光に対して１．２〜２．３の範囲の値となるように膜厚と組成が選択される。 - 特許庁

In the manufacturing method for an aluminum-alloy blank material for the magnetic disc where hot rolling, cold rolling, punching press, pressed annealing, and grinding are applied to the aluminum-alloy material in those order, a sandblast treatment is applied to the material between after the cold rolling and before the grinding.例文帳に追加

アルミニウム合金素材に熱間圧延、冷間圧延、プレス打ち抜き、加圧焼鈍、グラインディング加工をこの順に施す磁気ディスク用アルミニウム合金製ブランク材の製造方法において、前記冷間圧延後からグラインディング加工前までの間にサンドブラスト処理を施す。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask for EUV lithography (EUVL) using a reflective mask blank for EUVL configured by forming a reflective layer which reflects EUV light, an absorber layer which absorbs the EUV light at least in this order on a substrate, and which prevents formation of a diffusion layer on a reflective layer interface and decline of EUV light reflectivity by the formation of the diffusion layer.例文帳に追加

基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層、および、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層が少なくともこの順に形成されたＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用反射型マスクブランクを用いてＥＵＶＬ用反射型マスクを製造する方法であって、反射層界面での拡散層形成、およびそれによるＥＵＶ光線反射率の低下を防止する製造方法を提供する。 - 特許庁

A blank sheet constituting the body part of a container forming material is constituted by stacking a resin layer including a low melting point olefine resin, a starch layer 13 including starch granules, a resin layer including a low melting point olefine resin, an ink layer 15 and a varnish layer 16 including starch granule on the surface of a paper base material 11 in this order.例文帳に追加

容器形成材料の胴部を構成するブランク板は、低融点オレフイン系樹脂含む樹脂層、澱粉粒を含む澱粉層１３、低融点オレフィン系樹脂含む樹脂層、澱粉粒を含むインキ層１５及びニス層１６を、この順で紙製の基材１１の表面に積層して構成されている。 - 特許庁

A vertical scanning circuit 60 supplies a reset pulse RTi and a transfer pulse TXi in order to a pixel 10 to be read to read a pixel signal, and then supplies the reset pulse RTi and the transfer pulse TXi simultaneously to make what is called a blank read of accumulated charges from the PD 101, thereby erasing the accumulated charges in the PD 101.例文帳に追加

垂直走査回路６０は、読み出し対象である画素１０にリセットパルスＲＴｉおよび転送パルスＴＸｉを順次与えて、画素信号の読み出しを行わせた後、リセットパルスＲＴｉおよび転送パルスＴＸｉを同時に与えて、いわばＰＤ１０１の蓄積電荷の空読み出しを行い、ＰＤ１０１の蓄積電荷を消去する。 - 特許庁

The method has a positioning stage 120, a primary molding stage 130, a secondary molding stage 140, a tertiary molding stage 150, and a carrying-out stage 160 in order to mold the paper tray 1 by folding the paper blank material 1A which has an adhesive film on one surface and is provided with the prescribed folding ruled line along the ruled line.例文帳に追加

一方面に接着フィルムを備え、所定の折り曲げ罫線が設けられた紙製のブランク材１Ａを、上記折り曲げ罫線に沿って折り曲げることにより、紙製トレイ１を成型するため、位置決めステージ１２０、一次成型ステージ１３０、二次成型ステージ１４０、三次成型ステージ１５０、および、搬出ステージ１６０を備える。 - 特許庁

The device is made up to provide a clipping setting page having a keyword list blank column 121 where several kinds of keywords which a clipping service user uses as a retrieval condition is displayed by list together with order information which indicates the aptitude of the keyword as the keyword and also items 124 and 125 for inspecting the aptitude of a certain word as the keyword.例文帳に追加

クリッピングサービス提供装置を、クリッピングサービスの利用者が検索条件として使用している何種類かのキーワードが、そのキーワードのキーワードとしての適性を示す順位情報と共にリスト表示されるキーワードリスト欄１２１を備えるとともに、或る単語のキーワードとしての適性を調査するためのアイテム１２４、１２５を備えるクリッピング設定ページを提供できるように構成する。 - 特許庁

The photomask blank is for dry-etching processing and has, in order from the light-transmissive substrate side, a layer comprising a material having metal, silicon, oxygen, and/or nitrogen as main components and a layer comprising a material mainly containing chromium and nitrogen and substantially having a diffraction peak of CrN(200) in X-ray diffraction.例文帳に追加

該フォトマスクブランクは、ドライエッチング処理用のフォトマスクブランクであって、透光性基板側から、金属、シリコン、酸素及び／又は窒素を主たる構成要素とする材料からなる層と、主にクロムと窒素とを含む材料からなり、かつ、Ｘ線回折による回折ピークが実質的にＣｒＮ(２００)からなる層とを有する。 - 特許庁

In a reflective mask blank for EUV lithography where a layer 12 reflecting EUV light, a layer 14 for absorbing EUV light, and a low reflection layer 15 for the inspection light (wavelength 190-260 nm) of a mask pattern are formed on a substrate 11 in this order, the low reflection layer 15 contains hafnium Hf, nitrogen N and oxygen O at content in total of 80 at% or more.例文帳に追加

基板１１上に、ＥＵＶ光を反射する反射層１２と、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層１４と、マスクパターンの検査光（波長１９０〜２６０ｎｍ）に対する低反射層１５が、この順に形成されたＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクであって、前記低反射層が、ハフニウム（Ｈｆ）、窒素（Ｎ）および酸素（Ｏ）を合計含有率で８０ａｔ％以上含有する。 - 特許庁

A plate-shaped or bottomed cylindrical blank in drawn by a punch 2 and dies 1 to form a bottomed cylinder (work W) having a prescribed shape, the work W is moved in the outer side direction of the dies 1 together with the punch 2, and in order to remove the punch 2 inside the work W, a pressurized gas of 90-600 KPa is supplied into the work W.例文帳に追加

パンチ２とダイ１とで平板状または有底筒状のブランクを絞り加工して所定形状の有底筒体（ワークＷ）に形成し、そのワークＷをパンチ２とともにダイ１の外側方向へ移動し、そのワークＷ内のパンチ２を離脱すべく、ワークＷに対して相対移動を開始する時期から離脱するまでの間に、９０〜６００ＫＰａの圧力気体をワークＷ内に供給して、ワークＷからパンチ２を離脱させるようにした絞り加工方法である。 - 特許庁