「pattern measurement system」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

When projecting an image having a predetermined pattern for measurement via a projection optical system PL, diffracted lights other than zeroth light L (0) and primary diffracted lights L (+1) and L (-1) are cut off using a variable aperture diaphragm AS.例文帳に追加

所定の計測用パターンの像を投影光学系ＰＬを介して投影する際に、可変開口絞りＡＳを用いて０次光Ｌ（０）、１次回折光Ｌ（＋１），Ｌ（−１）以外の回折光を遮光する。 - 特許庁

A base station device 1 has a switch 12, a transmission and reception system part 13, a switch controller 15, an RSSI measurement part 32, and a pattern decision part 34.例文帳に追加

本実施形態における基地局装置１は、スイッチ１２、送受信系統部１３、スイッチ制御部１５、ＲＳＳＩ測定部３２およびパターン決定部３４を備えた。 - 特許庁

The system is provided with a reference heat source 100 and with a measurement device main body 300 that automatically measures the NETD from a video signal of an infrared ray camera 800 that picks up an aperture mask 200 for one image pattern.例文帳に追加

基準熱源100 及び開口マスク200 を１画面中に撮像した赤外線カメラ800 の映像信号から自動的にNETDを測定する測定装置本体300 を備える。 - 特許庁

Observation devices 3 and 4 observe the pattern for measurement 15 projected on the surface of the work to be machined 20 via the reflection mirror of the deflection optical system.例文帳に追加

観測装置３，４が、加工対象物２０の表面上に映し出された前記計量用パターン１５を、偏向光学系の反射鏡を介して観測する。 - 特許庁

In this case, the light emitting position of the phosphors are calculated by calculating a reference position of a coordinate system for each measurement pattern and taking this reference position as an origin (step #6).例文帳に追加

この際、発光螢光体の発光位置は測定パターン毎に座標系の基準位置を算出し、この基準位置を原点として算出される（ステップ＃６）。 - 特許庁

To provide a system for realizing high-throughput film reduction detection or film reduction measurement of a resist pattern, applicable as a part of inline process management.例文帳に追加

本発明の目的は、インラインのプロセス管理の一環として適用が可能な，高スループットなレジストパターンの膜減り検知ないし，膜減り計測を実現するシステムを提供することにある。 - 特許庁

To provide an electron beam projecting inspection device capable of certainly inspecting the flaw and pattern of a magnetic recording medium regardless of the condition of an electronic optical system during measurement.例文帳に追加

磁気記録媒体に対して測定時の電子光学系の条件によらず、確実な欠陥検査及びパターン検査を可能にする電子線プロジェクション検査装置を提供する。 - 特許庁

To shorten a measurement time by reducing the number of input images in a system for measuring a three dimensional geometry of a specimen by measuring a phase obtained by applying Fourier transformation on the image of the specimen on which a pattern light is projected.例文帳に追加

パターン光を投影した試料の画像に、フーリエ変換を施し位相を求め、それをもとに試料の３次元形状を計測する装置において、入力する画像の枚数を削減し、計測時間の短縮を図る。 - 特許庁

To provide a film thickness inspection device for facilitating system construction to a great number-of-points measurement by obtaining spectral information in the inside of a pattern of the inside of a color filter and improving controllability.例文帳に追加

カラーフィルタ内のパターン内部の分光情報を高速で得ることができ、制御性が向上し、多数点測定に対するシステム構築が容易になる膜厚検査装置を提供する。 - 特許庁

At pattern drawing, the positional deviation amount of a sample is acquired from the pre-stored data based on the temperature fluctuation of the sample stage, and the positional deviation amount is corrected by a deflection control system 115 or a laser measurement system 109, and an electron lens control system 117.例文帳に追加

パターン描画時に、試料ステージの温度変動をもとに、予め記憶しておいたデータから試料の位置ずれ量を求め、偏向制御系１１５またはレーザ測定系１０９、電子レンズ制御系１１７で位置ずれ量の補正を行う。 - 特許庁

The system control device 40 is stored with data on correlation between a processing condition of the etching processing and a removal amount of the pattern structure on the wafer surface by the etching processing, and sets the processing condition of the etching processing based upon the measurement result of the size of the pattern structure on the wafer surface and the data on the correlation, so that the pattern structure on the wafer surface after the etching processing has a desired size.例文帳に追加

システム制御装置４０は、エッチング処理時の処理条件とエッチング処理によるウェハ表面のパターン構造の削れ量との相関データが記憶され、ウェハ表面のパターン構造の寸法の測定結果と相関データに基づいて、エッチング処理後のウェハ表面のパターン構造が所望の寸法になるように、エッチング処理時の処理条件を設定する。 - 特許庁

This reduces the effect of defocusing of line widths or the like in the line pattern to be imaged on the wafer and also decreases the effect of reticle formation errors or the like, and enables a high-precision measurement of projection optical system imaging characteristics.例文帳に追加

このようにすれば、ウエハ上に形成されるラインパターンの像の線幅等のサイズへのデフォーカス量、レチクル製造誤差等の影響を少なくすることができ、高精度に投影光学系の結像特性を計測することができる。 - 特許庁

To accurately measure the light output of an LED easily affected by surrounding temperature according to the lighting pattern of the LED in an LED control system for controlling the output of the LED according to the measurement results by measuring the light output of the LED.例文帳に追加

ＬＥＤの光出力を測定し、その測定結果に応じてＬＥＤの出力を制御するＬＥＤ制御システムにおいて、周囲温度の影響を受け易いＬＥＤの光出力を、ＬＥＤの点灯パターンに応じて正確に測定する。 - 特許庁

The position of a movable stage is measured by the position measuring system, the movable stage is driven using information on measurement, and a measuring mark consisting of the out-of-movable-stage periodic pattern is detected by a detector which is partially disposed on the movable stage.例文帳に追加

可動ステージの位置を位置計測系を用いて計測し、その計測情報を用いて可動ステージを駆動するとともに、可動ステージ外の周期パターンから成る計測用マークを可動ステージに一部が配置された検出器を用いて検出する。 - 特許庁

To provide an optical imaging device making the light quantity of a measurement light constant independently of a modulation pattern by a compensation optical system using a spatial light modulation means, and improving the SN ratio of a tomographic image, and to provide a method for imaging an optical tomographic image.例文帳に追加

空間光変調手段を用いた補償光学系により、変調パターンに依らず、測定光の光量を一定とすることができ、断層画像のＳＮ比を向上させることが可能となる光画像撮像装置および光断層画像の撮像方法を提供する。 - 特許庁

A system (1) for measurement of three-dimensional motion of an object (5) includes light projection means (2) adapted for projecting light (17) of at least two different colors with a cross-sectional pattern (18) of a succession of parallel lines (11), onto a surface (6) of the object (5) at distinct time intervals (T_R, T_G, T_B).例文帳に追加

物体(5)の3次元運動を測定するシステム(1)は、縞模様の線(11)の断面パターン(18)を有する少なくとも2つの異なる色の光(17)を、別個の時間間隔(T_R、T_G、T_B)で物体(5)の表面(6)上へ投影するようになされた光投影手段(2)を含む。 - 特許庁

The measurement system is provided with a target mounted to any one of the substrate support and the reference frame, a radiation source mounted to the other one and a sensor configured to detect a pattern of radiation propagating from the target, indicating the position or movement of the substrate support.例文帳に追加

この測定システムは、基板支持体および基準フレームのうち一方に設けられたターゲットと、他方に設けられた放射源と、ターゲットから伝播した、基板支持体の位置または移動を示す放射のパターンを検出するように構成されたセンサと、を備える。 - 特許庁

To conduct accurate measurement by correcting a measuring error caused by a value of fine parasitic resistance such as a cable between a measuring instrument and a measured object, a probe and a wire on a test pattern, in a measuring system by a direct current for an electric sample having three or more of terminals.例文帳に追加

３つ以上の端子を持つ電気的試料の直流での測定系において、測定器と被測定物の間のケーブル、プローブ、テストパターン上の配線等の微小な寄生抵抗の値による測定誤算を補正することで、より高精度な測定を行うことを目的とする。 - 特許庁

The wafer stage WST is driven based on the known position relation and the position measurement result of the wafer stage WST, which is obtained using a position measuring system, and a detection pattern m_ijk is exposed over again on the mark M_ijk on the reference wafer WF.例文帳に追加

既知の位置関係と、位置計測系を用いて得られるウエハステージＷＳＴの位置計測結果と、に基づいてウエハステージＷＳＴを駆動し、基準ウエハＷＦ上のマークＭ_ijkに検出パターンｍ_ijkを重ね露光する。 - 特許庁

This exposure system includes an exposure unit 1 provided with a wafer stage WST for placing a wafer holder WH for holding a wafer W and exposing a pattern DP of a reticle R on the wafer W, a measurement unit 2, and a carrying apparatus 3.例文帳に追加

本発明の露光システムは、ウェハＷを保持するウェハホルダＷＨを載置するウェハステージＷＳＴを備え、レチクルＲのパターンＤＰをウェハＷ上に露光する露光ユニット１と、計測ユニット２と、搬送装置３とを含んでなる。 - 特許庁

This grating scale measurement system is composed of a telephoto lens (250) which is arranged so as to form an image of a grating (120), and is composed of a plurality of aspheric lenses (252, 254), and detectors (180) arranged so as to measure the movement of the intensity distribution pattern (175) in the image plane of the telephoto lens.例文帳に追加

本願発明の格子スケール計測システムは、格子（120）の像を形成するように配置され、複数の非球面レンズ（252、254）からなる望遠レンズ（250）と、望遠レンズの像平面における強度分布（175）の移動を計測するように配置されている検出器（180）からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a measuring apparatus for optical, for example interferometric, measurement of an optical imaging system, for imaging an effective pattern in an imaging operation, including a device for producing radiation information, for example interference information, which indicates heating-dependent imaging errors.例文帳に追加

撮像動作において有効パターンを撮像する光学撮像システムの、光学、例えば、干渉計測定用の測定装置であって、例えば、加熱依存性撮像エラーを示す干渉情報である、放射情報を製造する装置の実現。 - 特許庁

The system measures the characteristics of a transmission line by a reception error rate and a received signal level for a fixed form pattern signal before data communication origination, and feeds back the measurement result to a transmitter side, while signal processing is reestablished at a receiver side.例文帳に追加

伝送線路の特性を、データ通信開始前の定型パターン信号の受信誤り率と受信信号レベルで測定し、測定結果を送信側にフィードバックすると共に、受信側の信号処理も設定しなおすことで、最適な信号伝送処理を提供する。 - 特許庁

The position/direction measurement system comprises: the projector (pointer) 2 for projecting the concentric pattern 1; the imaging devices (sensors) 3 to 5 of at least 3 for taking images of the concentric circular pattern 1; and the operational device 6 for calculating 3-D position of the projector device and the optical axis directional angle from the image taken by the imaging devices 3 to 5.例文帳に追加

この位置・方向計測システムは、同心円模様１を投影する投影装置（ポインター）２と、同心円模様１を撮像する少なくとも３個の撮像装置（センサー）３〜５と、撮像装置３〜５が撮像した画像から投影装置２の３次元位置およびその光軸方向角度を算出する演算装置６とを備える。 - 特許庁

An ocular fundus of a test eye E is imaged through a stereographic imaging system after an objective lens 24 and the obtained parallax image is used for three-dimensional measurement treatment in the image processing system, and optical characteristics of human eyes are simulated while the simulated eye 300 is loaded with a gray-scale pattern to a simulated ocular fundus corresponding to the ocular fundus and imaged on stereo through the stereographic imaging optical system.例文帳に追加

被検眼Ｅの眼底を対物レンズ２４以降のステレオ撮影光学系を介してステレオ撮影し、得られた視差画像を用いて３次元測定処理を行う画像処理装置において、人眼の光学特性を模擬するとともに、眼底に相当する眼底模擬面に濃淡パターンを付与した模型眼３００をステレオ撮影光学系を介してステレオ撮影する。 - 特許庁

The apparatus further includes a heating irradiation mechanism 7 for radiation heating of the optical imaging system during measurement operation so that the heating effect of radiation applied to the optical imaging system 1 to be measured becomes equal to the heating effect of radiation that passes through the effective pattern during the imaging operation of the optical imaging system within a tolerance that can be determined in advance.例文帳に追加

装置は更に、測定される光学撮像システム1に加えられる放射の加熱効果が、予め決定できる許容範囲内で、光学撮像システムの撮像動作中に有効パターンを介して通過する放射の加熱効果と等しくなるように、測定動作中の光学撮像システムの放射加熱用の加熱照射機構7を含む。 - 特許庁

When successively transferring the pattern of a mask R on those partition regions on the substrate via a projection optical system PL, by making accurate alignment of the partition regions on the substrate with the image surface of the projection optical system, based on the measurement results, defective exposures caused by defocusing can be prevented.例文帳に追加

従って、基板上の複数の区画領域に投影光学系ＰＬを介してマスクＲのパターンを順次転写する際に、前記計測結果に基づいて、基板上の区画領域を投影光学系の像面に精度良く位置合わせすることにより、デフォーカスに起因する露光不良の発生を防止することができる。 - 特許庁

When a plurality of sectioned regions on a wafer are exposed by the step-and-scan system, a processing for enhancing the precision of alignment between a pattern and an object is performed based on the measurements of the encoder systems for every exposure start point where the measurement error of the encoder system caused by acceleration of the wafer stage WST is reduced.例文帳に追加

すなわち、ウエハ上の複数の区画領域をステップ・アンド・スキャン方式で露光する際に、ウエハステージＷＳＴ体の加速度に起因するエンコーダシステムの計測誤差が小さくなる露光開始点毎に、エンコーダシステムの計測値に基づいてパターンと物体との位置合わせ精度を向上させるための処理が行なわれる。 - 特許庁

To provide an image data creation method capable of solving a problem in association with projection transformation and creating an artificial image model to be used for pattern matching, especially, solving a problem in an image processing system which uses a stereo optical system for performing three-dimensional measurement and creating an image model with influences by projection distortion.例文帳に追加

投影変換に伴う問題点を解決して、パターンマッチングに使用する人工画像モデルを作成すること、特に、３次元測定をするためのステレオ光学系を用いた画像処理システムにおいて問題点が解消され、投影歪みの影響を取り入れた画像モデルを作成できる画像データ作成方法を提供する。 - 特許庁

A main pattern of a photomask having a focus monitor mark capable of controlling a focus position can be subjected to a transfer simulation giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity, only by setting a focus controlling system 80 on a measurement stage of a lithographic simulation microscope, the system capable of giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity.例文帳に追加

リソグラフィシュミレーション顕微鏡の測定ステージに、ジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られるフォーカス制御システム８０をセットするだけで、フォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークが配置されたフォトマスクのメインパターンをジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られる転写シュミレーションを行うことができる。 - 特許庁

Namely, since it is possible to prevent the phenomenon that the circumferential portion of the pattern images formed via the projection type optical system is shielded and cannot pass through the photosensitive aperture by changing the aperture used for the measurement, the optical characteristic of the projection type optical system can be calculated with higher accuracy without relation to the focusing condition.例文帳に追加

すなわち、ピンホールパターンの結像状態に応じて、計測に用いる開口を変更することにより、投影光学系を介して形成されるパターン像の周縁部が受光用開口を通過せずに遮られてしまうという事態を防止することができるので、結像状態にかかわらず、投影光学系の光学特性を高精度に算出することが可能となる。 - 特許庁

Further, an interference fringe forming optical system 70 projecting a prescribed interference fringe pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.例文帳に追加

また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の干渉縞パターンを被検面８０に投影する干渉縞形成光学系７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 - 特許庁

Since the marks are placed at the center of field of view of the alignment sensor to observe and since the same component of both the distortion of optical system of the alignment sensor or the fixed pattern noise and the like of the imaging device are superimposed at each time, degradation of reproducibility of measurement caused by them can be prevented to implement the stable reticle alignment.例文帳に追加

マークを、必ずアライメントセンサの視野中心において観察していることとなり、アライメントセンサの光学系のディストーション、あるいは、撮像素子の固定パターンノイズ等については、毎回同じ成分が重畳されることとなるので、これらに起因する計測再現性の悪化を防ぐことができ、安定したレチクルアライメントを行なうことができる。 - 特許庁

The exposure apparatus EX executes exposure processing for projecting a pattern of a reticle onto a wafer by a projection optical system 13 by using a light supplied from a light source 1, thereby exposing the wafer, and a measurement processing for adjusting the positions of the reticle and wafer in the exposure processing, by using the light supplied from the light source 1.例文帳に追加

露光装置ＥＸは、光源１から供給される光を使ってレチクルのパターンを投影光学系１３によってウエハに投影してウエハを露光する露光処理、および、光源１から供給される光を使って露光処理におけるレチクルとウエハとの位置合わせのための計測処理を実行する。 - 特許庁

Further, a transmission liquid crystal display element 70 for projecting a prescribed shading pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.例文帳に追加

また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の遮光パターンを被検面８０に投影する透過型液晶表示素子７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 - 特許庁

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁