「pattern shape」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

To make excellent the shape of a resist pattern obtained by the immersion lithography.例文帳に追加

浸漬リソグラフィにより得られるレジストパターンの形状を良好にする。 - 特許庁

The cavity parts 12a, 12b have different depths in the shape pattern.例文帳に追加

キャビティ部１２ａ、１２ｂの形状パターンは、深さにおいて異なっている。 - 特許庁

In the shape pattern updating step S4, the setting of a shape pattern of the bonding material to be formed in the mounting region is updated to such shape pattern as corresponds to the protruding state of the bonding material thus detected.例文帳に追加

形状パターン更新工程Ｓ４では、実装領域に形成する接合用材料の形状パターンの設定を、検出された接合用材料のはみ出し状態に応じた形状パターンに更新する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method capable of efficiently forming a required pattern with a high degree of accuracy independently of the shape of a formed pattern.例文帳に追加

形成されるパターンの形状に拘らず、所望のパターンを高い精度で効率よく形成できるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material capable of forming a high-definition pattern and excellent in tenting property and in the shape of a formed pattern; a pattern forming apparatus with the pattern forming material; and a pattern forming method using the pattern forming material.例文帳に追加

高精細なパターンを形成可能であり、しかもテント性と、形成したパターンの形状とに優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁

A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.例文帳に追加

マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁

Kujo-kesa (nine-strip Buddhist surplice which is in the shape of a large rectangle, wrapped around the left side of the body and tied with the loops in the corners) (Checked torimaru motif (literally, bird motif arranged in round shape) in yellow cloth for Denso (grid pattern kesa (Buddhist surplice) designed from shape of rice fields and azemichi (a path between rice fields)), sha (silk gauze) with peony motif in white cloth for Joyo (leaves (pieces) of Jo (part of kesa)); Tsuketari: Kesa-zutsumi (kesa bag) of Saiwaibishi mon (auspicious diamond pattern) in white aya (figured cloth) cloth 例文帳に追加

九条袈裟（田相黄地鳥丸格子文綾条葉白地牡丹顕紋紗）附白地幸菱文綾袈裟包 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The photomask is formed in a pattern after such shape correction, so that a transfer shape equal to the transfer shape obtained using a photomask formed in the pattern after OPC can be obtained.例文帳に追加

このような形状補正後のパターンでフォトマスクを形成し、ＯＰＣ後のパターンで形成したフォトマスクを用いたときに得られる転写形状と同等の転写形状を得るようにする。 - 特許庁

The preform comprises a disk part and a rim pattern part, and the rim pattern part is subjected to spinning working causing the reduction of thickness, so that a rim part having a final shape or a shape close to the final shape is obtained.例文帳に追加

プリフォームはディスク部とリム原形部とを有し、このリム原形部に減肉を伴うスピニング加工を施すことにより、最終形状または最終形状に近いリム部を得る。 - 特許庁

The rugged pattern D is composed of a projected shape, a recessed shape, or a combination of the projected shape and the recessed shape that are integrally formed on the outer peripheral surface 1a of the thread.例文帳に追加

凸凹模様Ｄは、糸外周表面１ａに一体に形成した凸形状、または凹形状、凸形状と凹形状の組み合わせ形状により構成される。 - 特許庁

To satisfactory perform a pattern transfer to a portion where a pattern film is closely attached regardless of the surface shape of a workpiece in a pattern transfer device for transferring a pattern layer of the pattern film to a surface of the workpiece.例文帳に追加

ワークの表面に絵柄フィルムの絵柄層を絵付けする絵付装置において、ワークの表面形状に拘わらず、絵柄フィルムが密着された部位に良好に絵付けすることを可能とする。 - 特許庁

To reduce a burden on a worker by permitting all data items of shape pattern data to be changed simply by changing some of the shape pattern data.例文帳に追加

形状パターンデータの一部を変更するだけで形状パターンデータの全てのデータ項目について変更することができ、作業者の負担を軽減する。 - 特許庁

METHOD OF EVALUATING PATTERN SHAPE, PROGRAM, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形状評価方法、プログラムおよび半導体装置の製造方法 - 特許庁

The planar shape and the sectional area of the metallic pattern 2b for soldering are substantially identical with the planar shape and the sectional area of the metallic pattern 1b, respectively.例文帳に追加

半田接合用金属パターン２ｂの平面形状およびその面積は、金属パターン１ｂの平面形状および面積と、実質的に同一にされている。 - 特許庁

METHOD OF FORMING PHOTORESIST PATTERN, AND METHOD OF ELECTRICALLY FORMING ISOLATED SHAPE例文帳に追加

フォトレジストパターンの形成方法および孤立形状の電気的形成方法 - 特許庁

To provide an imprinting mold capable of obtaining a pattern shape of a sol-gel material obtained by transfer as a desired pattern shape.例文帳に追加

転写により得られるゾルゲル材料のパターン形状が所望する形状のパターンで得ることが可能となるインプリント用モールドを提供することを目的とする。 - 特許庁

The planar shape and the planar area of a second active dummy pattern 11b is larger than the planar shape and the planar area of a first active dummy pattern 11a.例文帳に追加

第２アクティブダミーパターン１１ｂの平面形状および平面積は、第１アクティブダミーパターン１１ａの平面形状および平面積よりも大きい。 - 特許庁

A pattern shape of this wiring pattern 2 is formed in a zigzag shape, and is arranged so as to cover an area of the substantially whole surface of the gas barrier film 1.例文帳に追加

そして、この配線パターン２のパターン形状が、ジグザグ状になっていて、しかも、ガスバリア膜１のほぼ全面の領域をカバーできるように配置されている。 - 特許庁

Master information carriers 31a and 31b provided with areas where the rugged shape pattern is formed and areas where the rugged shape pattern is not formed, are used.例文帳に追加

凹凸形状パターンが形成された領域と凹凸形状パターンが形成されていない領域とが設けられたマスター情報担体31a,31bを用いる。 - 特許庁

To search a tread pattern shape optimum for required tire performance.例文帳に追加

要求されるタイヤ性能に関して最適なトレッドパターン形状を探索する。 - 特許庁

The drawing device 5 draws a pattern of an image 9 on the displacement shape 41.例文帳に追加

描画手段５は、変位形状４１に、画像９のパターンを描画する。 - 特許庁

To improve the shape of a resist pattern obtained by a chemical shrink method.例文帳に追加

化学的シュリンク法により得られるレジストパターンの形状を良好にする。 - 特許庁

To reduce a cost when forming a grid-shape pattern like a black matrix.例文帳に追加

ブラックマトリクスのような格子状パターンを形成する際のコストを低減する。 - 特許庁

The SiN film 104 is subjected to the pattern etching to be in a shape of a passage side wall.例文帳に追加

次に、ＳｉＮ膜104をパターンエッチングして流路側壁の形状にする。 - 特許庁

APPARATUS AND METHOD FOR SIMULATING SHAPE OF RESIST PATTERN AND RECORDING MEDIUM例文帳に追加

レジストパターン形状のシミュレーション装置、シミュレーション方法および記録媒体 - 特許庁

The generated shape group is compared with an actual pattern to detect defects.例文帳に追加

作成された形状群と実パターンの比較により欠陥を検出する。 - 特許庁

SOLID SHAPE DETECTOR AND PATTERN INSPECTION DEVICE AND THEIR METHOD例文帳に追加

立体形状検出装置及びパターン検査装置、並びにそれらの方法 - 特許庁

To verify a shape of a circuit pattern in relation to a plurality of layers each having a relationship in circuit pattern.例文帳に追加

各層の回路パターンの間に関係がある複数の層に対して回路パターンの形状を検証すること。 - 特許庁

To provide a technique for forming an optical pattern which reduces zero-order light without restricting an optical pattern shape.例文帳に追加

光パターンの形状を制限することなく０次光を低減できる光パターン形成技術を提供する。 - 特許庁

To prevent shape defects of a pattern by improving the adhesiveness of a resist pattern with a film to be treated.例文帳に追加

レジストパターンの被処理膜との密着性を向上して、パターンの形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in lithography characteristics and pattern shape, and to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a material pattern capable of forming a pattern with a complicated shape in a simple method.例文帳に追加

簡便な方法で複雑な形状のパターンを形成可能な材料パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN PIECE PRODUCTION METHOD FOR PRINTING PRINT DESIGN WITHIN BOUNDARY LINE DEFINING SHAPE OF PATTERN PIECE AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加

パタ—ンピ—スの形状を規定する境界線の内部にプリントデザインを印刷するパタ—ンピ—ス作製方法及び装置 - 特許庁

To provide technique for collating an inputted pattern by paying attention to an element other than a pattern shape.例文帳に追加

パターンの形状以外の要素に着目して、入力されたパターンの照合を行うための技術を提供する。 - 特許庁

To form a fine pattern under an identical exposure condition without depending on the shape and the density of the pattern.例文帳に追加

パターンの形状又は密集度合いに依存することなく、同一の露光条件で微細パターンを形成する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition excelling in pattern shape having a wide defocus latitude, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

パターン形状が良好で、デフォーカスラチチュードの広いネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To prevent a defective shape of a resist pattern by improving the adhesion of the resist pattern with a film to be processed.例文帳に追加

レジストパターンの被処理膜との密着性を向上して、パターンの形状不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method by which it is possible to obtain a resist pattern having an arbitrary proper shape.例文帳に追加

所望の良好な形状を有するレジストパターンを得ることが可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

After a shape of the exposed pattern is recognized, the exposed pattern is identified on layout data of the object to be processed.例文帳に追加

当該露出パターンの形状を認識した後、被加工体のレイアウトデータ上で露出パターンを特定する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition and a resist pattern forming method, forming a resist pattern of a good shape.例文帳に追加

良好な形状のレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide an image output unit which can draw a master pattern according to a user's intention in the case where the master pattern is drawn in a free pattern shape.例文帳に追加

任意の図形形状にマスクパターンを描画する場合に、ユーザの意図どおりにマスクパターン描画が可能な画像出力装置を提供する。 - 特許庁

Shape correction is performed to a device pattern 1 with a step 1a formed by OPC, and an assist pattern 2 adjacent to the device pattern 1.例文帳に追加

ＯＰＣによって段差１ａが形成されたデバイスパターン１と、そのデバイスパターン１に隣接するアシストパターン２とに対し、形状補正を行う。 - 特許庁

To prevent an edge shape of a resist pattern formed on a lower-layer film from becoming a fitting (overcut) shape.例文帳に追加

下層膜上に形成されるレジストパターンの裾形状がフッティング（裾引き）形状となることを防止する。 - 特許庁

In order to disperse the stress, the resist pattern is formed into a shape having no corners in a planar shape.例文帳に追加

この応力を分散させるために、レジストパターンは平面形状で角を有しない形状に形成される。 - 特許庁

To form a uniform linear shape which avoids becoming a plurality of dots shape when a linear pattern is drawn.例文帳に追加

線状パターンの描画時に複数個のドット形状になることを回避して均一な線形状を形成する。 - 特許庁