「pattern table」に関連した英語例文の一覧と使い方(23ページ目) - Weblio英語例文検索

A shift frame 34 is formed in the vicinity of the 1st frame 35, and when a rod pattern is detected from the prescribed number of long frames, continuously read picture data corresponding to the prescribed number of frames are collected as one data group, a numeral string is formed from numerals judged from respective frames and compared with a prescribed character code table to allocate a character or a code.例文帳に追加

第１マスの近傍にシフトマス３４を設け、複数列の長マスの所定数から棒状パターンが検出されると、続けて読み込まれる画像データを対応所定数列分まとめて一データ群とし、各列から判定された数字により数字列を形成し、所定の文字コード表と比較して文字や記号を割り当てる。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises an illumination system for providing a projection radiation beam, a support structure for supporting a patterned device that functions to give a pattern on the sectional face of the projection beam, a substrate table for holding a substrate, and a projector for projecting a patterned beam on the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、投影ビーム中の放射を透過若しくは反射させ、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能するパターン化デバイスを支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影装置とを備えている。 - 特許庁

A substrate holder suits a small wafer to the wafer table of the lithographic apparatus for receiving a large wafer and comprises a large silicon wafer having a bar pattern for arranging the small wafer, a positioning pin for accurately arranging the small wafer, and a clamp formed by a magnet mounted to a clamp ring and the larger wafer.例文帳に追加

大きなウェハを受けるようにされたリソグラフィ装置のウェハテーブルに小さいウェハを適合させるための基板ホルダは、小さいウェハを配置するバールパターンを備えた大きなシリコンウェハと、小さいウェハを正確に配置するための位置決めピンと、クランプリングと大きなウェハに取り付けされた磁石により形成されたクランプとから構成される。 - 特許庁

The stop control table is set with a correspondence relation between a push-down detecting position and the stop position to make different the kinds of replays capable of displaying a pattern combination indicating a winning form on a winning determination line, in response to a winning section with a random value acquired in the internal lottery belonging thereto, when the plurality of replays is won.例文帳に追加

停止制御テーブルでは、複数種類のリプレイが当選している場合、内部抽選で取得した乱数値が属する当選区間に応じて、入賞形態を示す図柄組合せを入賞判定ライン上に表示させることができるリプレイの種類が異なるように、押下検出位置と停止位置との対応関係が設定されている。 - 特許庁

For instance, when both of discrimination results transmitted from a pattern matching means and a neural network means are "a prescribed object" (e.g. a pedestrian) as shown in Fig.1, a synthetic discrimination result that the object is finally discriminated as the "prescribed object" (e.g. pedestrian) is led out while collating it with the synthetic discrimination table.例文帳に追加

例えば、図１に示すように、パターンマッチング手法およびニューラルネットワーク手法からそれぞれ送信されてきた各判別結果がともに「所定の物体である」（例えば、「歩行者である」）とするものである場合には、総合判別テーブルに照らし合わせて、最終的に「所定の物体である」（例えば、「歩行者である」）とする総合判別結果を導き出す。 - 特許庁

A server 1 that distributes electronic mail, is capable of receiving a plurality of transmission destinations each having a portion that a user can arbitrarily determine, and when mail is received from a transmission line, a transmission address is extracted from the main in a mail receiving part 3 and collated with an address or an address pattern stored in a table 2a of a processing content storage part 2.例文帳に追加

電子メールを配信するサーバ１は、各ユーザのための送信先として、ユーザが任意に決められる部分を持つ複数の送信先を受信する事ができ、伝送路からメールを受信すると、メール受け付け部３において、メールから送信アドレスを抽出し、それを処理内容記憶部２のテーブル２ａに記憶されているアドレスあるいはアドレスパターンと照合する。 - 特許庁

To provide a liquid droplet discharge apparatus capable of preventing an unnecessary pattern from being formed (plotted) on a work while preventing a work transfer table from being deflected, an electro-optical apparatus manufactured by using the liquid droplet discharge apparatus, a manufacturing method of the electro-optical apparatus using the liquid droplet discharge apparatus, and an electronic apparatus provided with the electro-optical apparatus.例文帳に追加

ワーク搬送テーブルの撓み変形を防止しつつ、ワーク上に不必要なパターンを形成（描画）するのを回避することができる液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁

Plural transmitting destinations with parts which can be optionally decided by a user are received as the transmitting destinations for each user, when a mail is received from a transmission line, a transmitting address is extracted from the mail at a mail accepting part 3 and collected with an address or an address pattern stored in a table 2a of a processed contents storage part 2 by a server 1 to distribute an electronic mail.例文帳に追加

電子メールを配信するサーバ１は、各ユーザのための送信先として、ユーザが任意に決められる部分を持つ複数の送信先を受信する事ができ、伝送路からメールを受信すると、メール受け付け部３において、メールから送信アドレスを抽出し、それを処理内容記憶部２のテーブル２ａに記憶されているアドレスあるいはアドレスパターンと照合する。 - 特許庁

A supervisory control CPU chooses an advance notice performance distribution table TG in which a mobile body advance notice is not set as a performance, in deciding on the advance notice performance when a loss performance variation pattern P4 made up of two variation cycles is chosen on the basis of start reservation balls after the mobile body advance notice is made during a preceding symbol variation game.例文帳に追加

統括制御用ＣＰＵは、前回の図柄変動ゲーム中に可動体予告が実行された後、始動保留球に基づいて２回の変動サイクルからなるはずれ演出用の変動パターンＰ４が選択された場合には、予告演出の内容を決定する際、演出内容として可動体予告が設定されていない予告演出振分けテーブルＴＧを選択する。 - 特許庁

The pattern control board 3 is divided into a one-chip microcomputer 10 for determining a display mode of the respective sprite in accordance with the control command received from the lamp control board 2, and a graphic controller 12 for obtaining the drawing operation on the liquid crystal display based on operation parameters for specifying the display mode written in an instruction table TBL by a first circuit.例文帳に追加

図柄制御基板３は、ランプ制御基板２から受けた制御コマンドに基づいて各スプライトの表示態様を決定するワンチップマイコン１０と、表示態様を特定する動作パラメータが前記第１回路によって指示テーブルＴＢＬに書込まれ、書込まれた動作パラメータに基づいて、液晶ディスプレイの描画動作を実現するグラフィックコントローラ１２とに区分されて構成されている。 - 特許庁

The lithographic apparatus includes: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付き放射ビームを形成可能なパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、基板上のターゲット部分上にパターン付き放射ビームを投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The lithographic device is equipped with an illumination system constituted to adjust an irradiation beam, a supporting body constituted to support a patterning device capable of forming a patterned irradiation beam by setting a pattern on the sectional surface of the irradiation beam, a substrate table constituted to support a substrate, and a projection system constituted to project the patterned irradiation beam to the target of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調節するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを付与してパターン付放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構築された支持体と、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン付放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを備える。 - 特許庁

To provide a device for automatically controlling a train and a method for automatically controlling a train improving system maintenability and reducing a running cost by an on-train device controlling train traveling speed based on a speed control pattern calculated by the on-train device from a speed control table transmitted to each track circuit by a ground device.例文帳に追加

本発明の課題は、地上装置が各軌道回路に伝送する速度制御テーブルにより列車の車上装置が演算した速度制御パターンに基づいて、当該車上装置が列車の走行速度を制御することでシステムの保守性の向上をはかり運用コストを低減する自動列車制御装置及び自動列車制御方法を提供することである。 - 特許庁

The game machine is provided with an internal lottery table for stipulating a plurality of numerical ranges of deciding an internal winning role relating to non-winning, and the stop control of the variation of patterns is performed so as to display respectively different symbol combinations by a pattern display means corresponding to the plurality of numerical ranges when a specified internal winning role is carried over.例文帳に追加

遊技機は、非入賞に係る内部当籤役が決定される数値範囲を複数規定する内部抽籤テーブルを備えており、特定の内部当籤役の持ち越しが行われている場合において、当該複数の数値範囲に応じて夫々で異なる図柄の組合せが図柄表示手段により表示されるように図柄の変動の停止制御を行うようにしている。 - 特許庁

A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを調整するように構成された照明システムと、放射ビームの断面にパターンを与えて、パターン付き放射ビームを形成することができるパターニングデバイスを支持するように構成された支持体と、基板を保持するように構成された基板テーブルと、パターン付き放射ビームを基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムとを含む。 - 特許庁

The stepping motor control circuit is provided with a comparing circuit composed of a period setting register and a counter whose count value is compared with a set value stored in the period setting register, and a data transfer register 30 provided with addresses to and from which exciting patterns are transferred, and addresses to and from which pulse period data is transferred, and performs both through up and through down with one exciting pattern table.例文帳に追加

ステッピングモータ制御回路において、周期設定レジスタと該周期設定レジスタに記憶された設定値とを比較するカウンタとからなる比較回路と、励磁パターンを転送する転送元アドレスと転送先アドレスと、パルス周期データを転送する転送元アドレスと転送先アドレスを備えるデータ転送レジスタ３０とを備え、一つの励磁パターンテーブルでスルーアップとスルーダウンの両方を行う。 - 特許庁

An alarm condition table 58 stores a reporting state, to perform reporting as an alarm condition in association with reporting timing, and an alarm condition success probability calculation part 53 calculates the alarm condition success probability capable of correctly sounding an alarm by the alarm condition, by using the state estimation success probability stored, in association with the moving pattern indicating the reporting state indicated by the alarm condition.例文帳に追加

アラーム条件テーブル５８は、報知を行う報知状況を報知タイミングと対応つけてアラーム条件として記憶し、アラーム条件成功確率算出部５３は、アラーム条件によって表される報知状況を表す移動パターンと対応付けて記憶された状況推定成功確率を用いて、当該アラーム条件によってアラームを正しく鳴らすことができるアラーム条件成功確率を算出する。 - 特許庁

A test pattern generation part 110 in a debugging support host program 100 generates a status transition pass from a status transition table 1 and supposed events and unexpected events for respective states of the status transition pass as test patterns, and an event issue part 210 in a debugging support target program 200 issues all unexpected events in respective states of the status transition pass before the supposed events by using the test patterns.例文帳に追加

デバッグ支援ホストプログラム１００のテストパターン生成部１１０が状態遷移表１から状態遷移パスならびに状態遷移パスの各状態に対する想定内イベントおよび想定外イベントをテストパターンとして生成し、デバッグ支援ターゲットプログラム２００のイベント発行部２１０がテストパターンを用いて状態遷移パスの各状態の想定外イベントを想定内イベントの前に全て発行するよう構成する。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam; a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto an elongate target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されたパターニング・デバイスを支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の細長い目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

A lithographic apparatus comprises: an illumination system configured to condition a radiation beam; a support formed to support a patterning device (formed to impart a cross-sectional pattern to the radiation beam to form a patterned radiation beam); a substrate table formed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、放射ビームを条件付けるようになされた照明システムと、パターニング・デバイス（パターン化された放射ビームを形成するべく放射ビームに断面パターンを付与するように構築されている）を支持するように構築されたサポートと、基板を保持するように構築された基板テーブルと、パターン化された放射ビームを基板の目標部分に投射するようになされた投影システムとを備えている。 - 特許庁

The lithographic equipment has a radiation system for providing a projection beam of radiation, a support structure for supporting the patterning means that patterns the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam onto a target area on the substrate, and an interferometer system to help positioning an object in the equipment, wherein the interferometer system performs position measurement.例文帳に追加

リソグラフィ投影装置であって、放射線の投影ビームを供給するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターニング手段を支持するための支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影するための投影システムと、装置内での対象物の位置決めを助ける干渉計システムとを備えていて、干渉計システムが位置測定を行うように配置されているリソグラフィ投影装置。 - 特許庁