「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(15ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method for correcting a mask pattern which can eliminate presence of an optically isolated pattern as much as possible so as to transfer a mask pattern with desired line width or the like onto a photoresist.例文帳に追加

光学的に孤立した孤立パターンの存在を出来る限り無くし、所望の線幅等を有するマスクパターンをフォトレジストに転写することを可能とするためのマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

To shape a rugged pattern by bringing a lugged pattern giving layer into close contact with a base material sheet and surely separating them from a transfer layer as a support sheet integral with the rugged pattern giving layer and the base material sheet when transferred.例文帳に追加

凹凸模様賦形層と基材シートとの密着を良くし、転写時は、これらが一体となった支持体シートとして確実に転写層から剥離して凹凸模様が賦形できる様にする。 - 特許庁

The mold 20 is pushed against the body 12 to be transferred with such a posture whereby the transfer pattern, substantially equal to a pattern obtained by projecting the pattern of the mold 20 on the body 12 to be transferred, can be obtained.例文帳に追加

このような姿勢をもってモールド２０を被転写体１２に対し押圧することにより、モールド２０のパターンを被転写体１２に投影させたのと実質的に等しい転写パターンが得られる。 - 特許庁

A graphic pattern to be included in a divided region 72 is transferred to a resist layer 74 via a mask 73 by using a pattern transfer method of an optical contact-less system to form a latent image 75b of the graphic pattern.例文帳に追加

光学的非接触方式のパタン転写方法を用いて、分割領域７２に含まれる図形パタンをマスク７３を介してレジスト層７４に転写し、図形パタンの潜像７５ｂを形成する。 - 特許庁

An inspection pattern 400 is arranged in, for example, the pattern transfer area 110, other than the pattern massed area 112, which has no problem regarding device characteristics and design and its space can be secured.例文帳に追加

検査パターン４００は，デバイス特性および設計上問題がなく，また検査パターン４００のスペースが確保できる，例えばパターン密集領域１１２以外のパターン転写領域１１０に配置する。 - 特許庁

A color shift correcting means includes: a pattern image forming means for forming a color shift pattern image in each color on a transfer surface; and a position detecting means for detecting the position of the formed pattern image.例文帳に追加

色ずれ補正手段は、各色ごとの色ずれのパターン画像を転写面上に形成するパターン画像形成手段と、形成されたパターン画像の位置を検出する位置検出手段とを含む。 - 特許庁

The disclosed manufacturing method for the PDP substrate comprises processes of: applying a paste 1 for forming a pattern to an irregular plate 50 which is a transfer mold of a partition pattern; hardening the paste 1 for forming the pattern; and forming an electrode pattern 3 on the hardened paste 1 for forming the pattern.例文帳に追加

開示されるＰＤＰの基板の製造方法は、隔壁パターンの転写型である凹凸版５０にパターン形成用ペースト１を塗布する工程と、パターン形成用ペースト１を硬化する工程と、硬化されたパターン形成用ペースト１上に電極パターン３を形成する工程とを有している。 - 特許庁

In the photomask, a chip pattern layout area 2 includes a mark pattern portion 3 including mark patterns 5, 6 to transfer marks onto a wafer, separately from a semiconductor chip pattern portion 1, and therefore, the chip size of the semiconductor chip can be reduced compared to a mask having a semiconductor chip pattern portion including a mark pattern.例文帳に追加

このフォトマスクでは、チップパターン配置領域２が、マーク類をウエハ上に転写するためのマークパターン５、６を含むマークパターン部３を半導体チップパターン部１とは別個に有するので、半導体チップパターン部がマークパターンを含んでいる場合に比べて、半導体チップのチップサイズを縮小できる。 - 特許庁

By removing extruded unnecessary transfer liquid 63a, after pattern transfer, liquid flow caused between the original plate 1 and the transferred medium 61 can be restrained when they are peeled and separated, and thus a pattern can be stabilized.例文帳に追加

押し出された余剰の転写液６３ａを除去することで、パターン転写後、原版１と被転写媒体６１を剥離する際に、両者の間に生じる液流を抑制でき、パターンを安定させることができる。 - 特許庁

To effectively prevent a fine rugged pattern transferred to a resist layer of the transfer substrate from being damaged when separating a mold of the side of transferring the fine rugged pattern and the transfer substrate on the side of being transferred.例文帳に追加

微細凹凸パターンを転写する側のモールドと、転写される側の転写用基板とを剥離する際に、転写用基板のレジスト層に転写された微細凹凸パターンが損傷を受けることを効果的に防止できる。 - 特許庁

To improve shape accuracy and positional accuracy of a pattern to be formed and to increase the service life of a sheet plate for transfer in the sheet plate for transfer used when a fine pattern is formed on a base plate.例文帳に追加

基板上に微細なパターンを形成する際に使用される転写用シート版において、形成されるパターンの形状精度及び位置精度を改善するとともに、転写用シート版の寿命の増大を図る。 - 特許庁

To provide a master disk masking method in the magnetic transfer foreign matter inspection for masking a specified pattern part including a pattern groove part at high speed with constantly same parameters, and a magnetic transfer foreign matter inspection device using the method.例文帳に追加

常に同じパラメータでパターン溝部分を含む特定パターン部分を高速度でマスクする磁気転写異物検査におけるマスターディスクのマスク方法及びこれを用いた磁気転写異物検査装置を提供する。 - 特許庁

Subsequently, in S4, the substrate 10 is separated from the transfer target material 22, and the metal foil 12 is transferred onto the surface of the transfer target material 22 through the hot-melt adhesive layer 14 with a pattern reverse to the pattern in the mask image 18.例文帳に追加

その後Ｓ４にて、被転写材２２から基体１０を引き離し、被転写材２２の表面にホットメルト接着層１４を介して金属箔１２をマスク画像１８のパターンとは逆パターンで転写する。 - 特許庁

To reduce a pattern transfer time by minimizing the number of times of test pattern transfer from a buffer memory to a local memory, following a measurement sequence by a test program, and to thereby shorten the measuring time, in a function test of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の機能テストに際して、テストプログラムによる測定シーケンスにしたがうバッファメモリからローカルメモリへのテストパターン転送回数を最小化してパターン転送時間を削減し、測定時間を短縮する。 - 特許庁

A transfer pattern 201 of a flexographic printing plate 2 fitted on a plate cylinder is formed so as to be a rotated arrangement by a specified angle Θ to the center O of the arrangement of this transfer pattern 201 of the flexographic printing plate 2.例文帳に追加

版胴に取り付けるフレキソ版２の転写パターン２０１は、フレキソ版２でのこれら転写パターン２０１の配列中心０に関して、所定の角度Θだけ回転した配列となるように、成形されている。 - 特許庁

A pattern forming part 202 in a color printer 100 forms the pattern image of each color on an intermediate transfer belt 103, and a count part 204 numerates a passage time after the start of the rotary driving in the intermediate transfer belt 103.例文帳に追加

カラープリンタ１００のパターン形成部２０２は、中間転写ベルト１０３上に各色のパターン画像を形成し、カウント部２０４は、中間転写ベルト１０３が回転駆動し始めてからの経過時間を計数する。 - 特許庁

Since the minute defect of the mold which causes the destruction of the mold by an imprint and the defect of the transfer pattern can be reduced, the extension of the life of the mold and the formation of a good transfer pattern with defects reduced are made possible.例文帳に追加

これにより、インプリントによるモールド破壊や転写パターン欠陥の原因になるモールドの微小欠陥を低減できるため、モールドの長寿命化と欠陥の少ない良好な転写パターン形成が可能となる。 - 特許庁

To avoid generation of bends in the center of a transfer mask main body and to sufficiently suppressing the vibration of the transfer mask main body, concerning a transfer mask to be used at pattern transfer, in the manufacturing process of a semiconductor.例文帳に追加

本発明は半導体の製造プロセスでパターン転写の際に用いられる転写マスクに関し、転写マスク本体の中央部に撓みを生じさせることがなく、かつ、転写マスク本体の振動を十分に抑制することを目的とする。 - 特許庁

The medium transfer controller 14 controls to present or hide the medium to a pseudo transfer source terminal 20, based on the stored information related to the transfer pattern, and also controls to present or hide the medium to a pseudo transfer destination terminal 30.例文帳に追加

メディア移動制御部１４は、蓄積された移動パターンに関する情報に基づいて、擬似移動元端末２０に上記メディアを提示または隠蔽させると共に、擬似移動先端末３０に上記メディアを隠蔽または提示させる制御を行う。 - 特許庁

Through a magenta toner image is transferred by applying the transfer bias of +600 V at the point of time when the transfer material P2 is positioned at a transfer part TM, the transfer bias is lowered to +200 V for the prevention of the retransfer of the toner or the like when the image pattern GC passes.例文帳に追加

この転写部ＴMでは、転写材Ｐ２が位置した時点で＋６００Ｖの転写バイアスを印加してマゼンタトナー像を転写したが、画像パターンＧCが通過際には、トナーの再転写防止等のために転写バイアスを＋２００Ｖに落とす。 - 特許庁

Specifically, the direction of the deviation of the OPC pattern with respect to the design pattern is compared with the direction of the deviation of the simulated transfer image of the design pattern with respect to the design pattern and the portion where the directions of the deviation coincide is determined as an error.例文帳に追加

具体的には、設計パターンに対するＯＰＣパターンのズレ方向と、設計パターンの転写イメージのシミュレーション像の設計パターンに対するズレ方向とを比較して、各ズレ方向が同じ方向になる箇所をエラーとして出力する。 - 特許庁

To provide a reflection type mask having high pattern transfer precision.例文帳に追加

本発明は、高いパターン転写精度を実現することが可能な反射型マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a three-dimensional pattern transfer sheet showing a sharply defined image and a soft feeling, manufactured by a simple processing method.例文帳に追加

安易な加工方法で絵際がシャープで、風合いが柔軟な立体模様転写シートを提供すること。 - 特許庁

To provide the method of manufacturing a transfer substrate to which a conductive pattern in the shape of a floating island is transferred in a board thickness size.例文帳に追加

浮島状の導体パターンが板厚サイズで転写される転写基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a mold to achieve an excellent S/N ratio in a magnetic recording medium after transfer of a pattern.例文帳に追加

パターン転写後の磁気記録媒体において優れたＳ／Ｎ比が実現されるモールドを提供することにある。 - 特許庁

The transfer sheet has an inorganic pattern layer with a thickness of at least 5-10 μm on a surface of an organic film sheet.例文帳に追加

有機フィルムシートの表面に、少なくとも５〜１０μｍの無機質模様層を有する転写シートとする。 - 特許庁

In S104, an evaluation position for evaluating a transfer pattern, and an evaluation item at the evaluation position are set.例文帳に追加

Ｓ１０４で、転写パターンを評価するための評価位置、及び、かかる評価位置での評価項目を設定する。 - 特許庁

GRAY TONE MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, METHOD FOR MANUFACTURING GRAY TONE MASK AND GRAY TONE MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

グレートーンマスクブランクとその製造方法、グレートーンマスクの製造方法及びグレートーンマスク、並びにパターン転写方法 - 特許庁

Then a sensor 15 detects the color shift correction pattern on the secondary transfer belt 18 and corrects color shifts.例文帳に追加

そして、二次転写ベルト１８上の色ずれ補正パターンをセンサ１５により検出して色ずれを補正する。 - 特許庁

To provide an imprinting method capable of filling a recessed portion of a template pattern with a transfer material in a short period of time.例文帳に追加

転写材を短時間でテンプレートパターンの凹部に充填することができるインプリント方法を提供すること。 - 特許庁

In S2, transfer to the test pattern is simulated by using a model used for the proximity effect correction method for the model base.例文帳に追加

Ｓ_２ でモデルベースの近接効果補正法に使用するモデルを使ってテストパターンに転写シミュレーションを行う。 - 特許庁

To efficiently expose patterns on a plurality of pattern transfer regions arranged variously on a substrate subjected to the exposure.例文帳に追加

露光対象の基板上の種々の配列の複数のパターン転写領域に効率的にパターンを露光する。 - 特許庁

WIRING PATTERN FORMING MATERIAL FOR TRANSFER, MANUFACTURING METHOD THEREFOR, WIRING BOARD USING THE MATERIAL, AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加

転写用配線パターン形成材とその製造方法およびそれを用いた配線基板とその製造方法 - 特許庁

To prevent a pattern on a coating film layer, which is formed on the rear surface of a transparent base material by hydraulic transfer, from being disturbed.例文帳に追加

水圧転写により透明基材の裏面に形成される塗膜層の絵柄が乱れないようにする。 - 特許庁

The transfer device transfers a pattern on a target object on a substrate 102 by contacting a mold 101 with the object.例文帳に追加

転写装置は、型１０１を接触させることにより基板１０２上の被転写物にパターンを転写する。 - 特許庁

The method of manufacturing the ribbon 3 for a ribbon type microphone that has a pattern formed by a transfer mold 11 is provided.例文帳に追加

転写型１１によって形成されたパターンを有してなるリボン型マイクロホン用リボン３の製造方法。 - 特許庁

LIGHT-DIFFUSING PLATE, SURFACE LIGHT SOURCE DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING SURFACE PATTERN TRANSFER RESIN SHEET例文帳に追加

光拡散板、面光源装置、液晶表示装置および表面形状転写樹脂シートの製造方法 - 特許庁

To provide an image forming apparatus of high quality giving high transfer efficiency, regardless of the image pattern.例文帳に追加

画像パターンに関らず高い転写効率を得る高品質な画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

A pattern is provided to the ink layer 24 of the transfer sheet 2 with ink dots 24A thermally fused by heating.例文帳に追加

さらに、転写用シート２は、インク層２４に、加熱されて熱溶融するインクドット２４Ａで模様を設けている。 - 特許庁

SUBSTRATE FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK, SUBSTRATE SET FOR PHOTOMASK, PHOTOMASK SET, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスク用基板、フォトマスク、フォトマスク用基板セット、フォトマスクセット、フォトマスクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁

The EUV light is inputted onto the mask 8 from the tilted direction and is reflected/scattered to transfer the pattern onto the wafer 11.例文帳に追加

ＥＵＶ光は、マスク８に斜めに入射して反射・散乱され、パターンがウェハ１０上に転写される。 - 特許庁

PHOTOSETTING RESIN, PHOTOSETTING RESIN COMPOSITION, METHOD FOR FORMING MINUTE UNEVEN PATTERN, TRANSFER FOIL, OPTICAL ARTICLE AND STAMPER例文帳に追加

光硬化性樹脂、光硬化性樹脂組成物、微細凹凸パターン形成方法、転写箔、光学物品及びスタンパー - 特許庁

To improve transfer accuracy of a mask pattern onto a substrate, irrespective of the position of an exposure object region on the substrate.例文帳に追加

露光対象領域の基板上の位置に拘わらず、マスクパターンの基板への転写精度を向上させる。 - 特許庁

To provide a printing blanket stabilized in ink transfer and capable of improving pattern formation accuracy.例文帳に追加

インキの転移が安定しており、パターン形成精度の向上を図ることができる印刷用ブランケットを提供する。 - 特許庁

To prevent the erasure of a magnetization pattern due to a leaked magnetic field from a magnetic field generating means, in a magnetic transfer apparatus.例文帳に追加

磁気転写装置において、磁界発生手段からの漏れ磁界による磁化パターンの消去を防止する。 - 特許庁