「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a method of manufacturing a molded product which, in fabricating a model mold, an FRP mold or a molded product by using a liquid resin, can transfer the texture pattern of a fabric precisely and reproduce the natural feel to give the molded product with decorative excellence, and to provide the molded product fabricated by this manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、液状樹脂を使用してモデル型、ＦＲＰ型、及び成形品を作製する場合に、織物の織り目模様が精密に転写され自然な風合が再現でき、装飾性に優れる成形品の製造方法及びこの製造方法により作製した成形品を提供することを目的とする。 - 特許庁

To thin a light-shielding layer (i.e., to thin a light-shielding film and a transfer pattern) necessary for generations of DRAM half-pitch (hp) 45 nm and after in a semiconductor design rule, especially for a generation of hp 32-22 nm, as to a photomask blank to be used for manufacturing a photomask for ArF eximer laser exposure.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー露光用フォトマスクを作製するために用いられるフォトマスクブランクに関し、半導体デザインルールにおけるＤＲＡＭハーフピッチ（ｈｐ）４５ｎｍ以降の世代、特にｈｐ３２−２２ｎｍ世代に必要な遮光層の薄膜化（ひいては遮光膜、転写パターンの薄膜化）を目的とする。 - 特許庁

A substrate transfer mechanism 20 is applied to a proximity scanning exposure apparatus 1 that irradiates an approximately rectangular substrate W with exposure light EL through a mask M to impart a pattern P of the mask M onto the substrate W; and the mechanism supports the substrate W by floating and transfers the substrate W in a prescribed direction.例文帳に追加

基板搬送機構２０は、略矩形状の基板Ｗに対してマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する近接スキャン露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板Ｗを所定方向に搬送する。 - 特許庁

Hereby, when the glass drop GD collides or comes into contact with the lower die 1, the fine structure of the concave-convex pattern CP can be transferred wholly precisely by utilizing properly its momentum, and a glass lens 100 having a high-precision optical surface transfer surface 11a or the like can be acquired comparatively easily.例文帳に追加

これにより、ガラス滴ＧＤが下型１に衝突又は接触する際に、その運動量を適度に利用して凹凸パターンＣＰの微細構造を全体的に精密に転写することができ、高精度の光学面転写面１１ａ等を有するガラスレンズ１００を比較的簡易に得ることができる。 - 特許庁

When a cleaning blade 17a comes in contact with the tip of the reference pattern toner image 1 and starts cleaning, the minimum load is first put on the cleaning device 17 and the load increases gradually in accordance with movement of the intermediate transfer belt in the direction of the arrow A, accordingly a rapid load variation can be prevented.例文帳に追加

それにより、クリーニングブレード１７ａが基準パターントナー像１の先端に接してクリーニングを開始したときには、クリーニング装置１７には最小の負荷が最初に加わり、中間転写ベルトが矢示Ａ方向に移動していくにしたがってその負荷が徐々に大きくなっていくので、急激な負荷変動を防止できる。 - 特許庁

The skew amount of the paper conveyed to the secondary transfer part, the deviation of a lead registration and the deviation of a side registration are obtained from the read result of the test pattern, and the attaching position, the driving timing and the driving speed or the like of various component members in the posture correction part 60 and the resist roll 61 are adjusted in accordance with the obtained deviation.例文帳に追加

また、テストパターンの読み取り結果から二次転写部に搬送されてくる用紙のスキュー量、リードレジのずれ量、サイドレジのずれ量を求め、これらのずれに応じて姿勢補正部６０やレジストロール６１における各種構成部材の取付位置、駆動タイミング、駆動速度等を調整する。 - 特許庁

This free cell generating circuit is composed of a 53-octet timing counter 2 of 53 cycles for counting the timing of an asynchronous transfer mode(ATM) cell, a gate circuit 4 for generating four kinds of timing signals from the output of 6 bits from the 53-octet timing counter 2, and a shift register 3 for converting the free cell pattern of 8 bits from parallel data to serial data.例文帳に追加

空きセル生成回路は、ＡＴＭセルのタイミングカウントを行う５３周期の５３オクテットタイミングカウンタ２と、５３オクテットタイミングカウンタ２の６ビットの出力から４種類のタイミング信号を生成するゲート回路４と、８ビットの空きセルパターンをパラレルデータからシリアルデータに変換するシフトレジスタ３とにより構成する。 - 特許庁

Since the carbon atoms or molecules constituting a diamond substrate 12 are diffused into a carbon-absorbing material by heating and pressing, the surface of the diamond substrate 12 moves toward the carbon-absorbing material to effect the transfer of the pattern on the carbon-absorbing material to the surface of the diamond substrate.例文帳に追加

本方法によれば、加熱及び加圧によって炭素吸収材料１３ｍ’内にダイヤモンド基板１２を構成する炭素の原子又は分子が拡散していくため、ダイヤモンド基板１２表面が炭素吸収材料１３ｍ’方向に進行し、炭素吸収材料１３ｍ’のパターンがダイヤモンド基板表面に転写される。 - 特許庁

The sheet S is accommodated in the accommodating path C during normal printing operation and is fed to the image transfer parts during image adjustment and during cleaning the photoreceptor 11, where the toner pattern image is transferred to the sheet S, or the sheet S cleans a surface of the photoreceptor 11, according to the relative difference between conveying speed of the sheet S and the circumferential speed of the photoreceptor 11.例文帳に追加

シートSは通常のプリント動作時には格納通路Cに格納されており、画像調整時及び感光体11のクリーニング時には画像転写部へ送り出され、トナーパターン像を転写され、あるいは、シートSの搬送速度と感光体11の周速との相対的な差によってシートSが感光体11の表面を清掃する。 - 特許庁

The curve amount of the image formation line in the main scanning line direction is calculated, on the basis of a mark-pattern formed in three parts different from one another in the main scanning line direction of an intermediate transfer belt 20, and color shift in a subscanning line direction is corrected, on the basis of the curve amount of the image formation line in the main scanning line direction.例文帳に追加

中間転写ベルト２０の主走査線方向の互いに異なる３箇所に形成されたマークパターンに基づいて、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量を算出し、主走査線方向の像形成ラインの曲がり量に基づき、副走査線方向の色ずれ（レジスト）補正を行う。 - 特許庁

In the master information carrier 2 wherein a magnetic section having the pattern corresponding to the information and consisting of a ferromagnetic thin film is provided onto a transfer surface for magnetically transferring the information to the magnetic recording medium 1, the film thickness on the outer peripheral side is thicker than the film thickness on the inner peripheral side with respect to the ferromagnetic thin film.例文帳に追加

磁気記録媒体１に対して情報を磁気転写するための転写面に対して前記情報に対応したパターンで強磁性薄膜からなる磁性部が設けられているマスター情報担体２であって、前記強磁性薄膜に関して外周側における膜厚が、内周側における膜厚よりも大きくされている。 - 特許庁

In the method of producing a semiconductor base material, when an etching mask for forming protrusions and recesses on the surface of a semiconductor base material by photolithography processing of a resist film, a transfer mask 100 where the dimensions of a dot-shaped light-shielding portion 104, i.e. a pattern of protrusions and recesses near the region where the exposure shots overlap, are corrected previously.例文帳に追加

半導体基材を製造する方法において、半導体基材の表面に凹凸部を形成するためのエッチングマスクをレジスト膜のフォトリソグラフィ処理により形成する際、転写用マスク１００として、あらかじめ露光ショットの重なる領域付近にある凹凸パターンであるドット状遮光部１０４の寸法を補正した転写用マスクを使用する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element capable of forming an organic layer having the excellent linearity of the end of a pattern on a substrate without causing a transfer defect that a part of an ink layer to be transferred and removed is left on a blanket, in a manufacturing method of an organic EL element using letterpress reversing offset printing.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のない有機層を形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In the sheet 1 for transfer consisting of a water permeable mounting sheet 2, a water soluble polymeric layer 3 applied onto the mounting sheet 2 and a water insoluble polymeric layer 4 applied onto the water soluble polymeric layer 3, slits 5 for cutting off the water insoluble polymeric layer 4 into a plurality of pattern printing regions are provided from the surface of the water insoluble polymeric layer 4.例文帳に追加

透水性の台紙２と、該台紙２上に塗布された水溶性ポリマー層３と、該水溶性ポリマー３上に塗布された非水溶性ポリマー層４とからなる転写用シート１において、該非水溶性ポリマー層４の表面から前記水溶性ポリマー層４を複数の絵柄印刷用領域に区分けするように分断する切れ込み５を設けた。 - 特許庁

An electrophotographic color laser printer 2 connected to a host computer 1 is provided with a scanner unit 25 common to first and second stations, a scanner unit 26 common to third and fourth stations, a resist position detection means 30 which reads an image pattern formed on an intermediate transfer belt 29 to detect the resist position of the image of a laser beam.例文帳に追加

ホストコンピュータ１と接続された電子写真方式のカラーレーザプリンタ２において、第１及び第２のステーションに共通のスキャナユニット２５と、第３及び第４のステーションに共通のスキャナユニット２６と、中間転写ベルト２９に形成された画像パターンを読み取ってレーザビームの画像のレジスト位置を検知するレジスト位置検知手段３０を備える。 - 特許庁

The positive electrode member 27 and the negative electrode member 28 are electrically connected with the circuit patterns 35a and 35b of the power source adjustment substrate 31 and the copper pattern 24 of the insulation metal substrate 22, and come in surface contact with the heat sink 11 via the insulation metal substrate 22 to be coupled to the heat sink 11 in a manner capable of heat transfer.例文帳に追加

正極用電極部材２７及び負極用電極部材２８は、電源調整用基板３１の回路パターン３５ａ，３５ｂ、及び絶縁金属基板２２の銅パターン２４と電気的に接続されるとともに絶縁金属基板２２を介してヒートシンク１１に面接触して、このヒートシンク１１に熱伝達可能に結合されている。 - 特許庁

Assuming that N is an integer ≥1, a pattern toner image is formed on the image carrier 2Y at the interval of 1/N of the peripheral length of the image carrier 2Y, transferred over the entire length of the transfer belt 3, and also detected by a positional deviation detection sensor 25 so as to obtain positional deviation data, then the moving average of N positional deviation data is calculated.例文帳に追加

Ｎを１以上の整数としたとき、像担持体２Ｙの周長の１／Ｎの間隔で、像担持体２Ｙ上にパターントナー像を形成し、該パターントナー像を転写ベルト３の全長に亘って転写すると共に、その各パターントナー像を位置ずれ検知センサ２５により検知して位置ずれデータを得、その位置ずれデータのＮ個の移動平均を算出する。 - 特許庁

This sheet-shaped mold position detector 183 used when the sheet-shaped mold M having the minute transfer pattern M1 formed thereon is transferred and positioned, includes a sheet-shaped mold position detection means 191 detecting a predetermined portion of the sheet-shaped mold M by detecting a light transmission rate in the sheet-shaped mold M.例文帳に追加

微細な転写パターンＭ１が形成されているシート状モールドＭを移送して位置決めするときに使用されるシート状モールド位置検出装置１８３において、シート状モールドＭにおける光の透過率を検出することによって、シート状モールドＭの所定部位を検出するシート状モールド位置検出手段１９１を有する。 - 特許庁

A molten ink 4 in a molten condition is coated on a printed wiring board, having at least a conductive layer 2 on an insulative base; an absorptive sheet 5 capable of absorbing the heat melting ink is overlaid on the printed wiring board; and a non-patterning part is heated in accordance with data to heat transfer it, thereby forming a resist pattern.例文帳に追加

絶縁性基材上に少なくとも導電性層２を設けてなるプリント配線板上に、熱溶融インク４を溶融状態でプリント配線板にコーティングし、次に熱溶融インクを吸収しうる吸収シート５をプリント配線板に貼り合わせ、データに従って非画像部を加熱し、吸収シートに熱転写することによりレジスト画像を形成する。 - 特許庁

To provide an inexpensive aligner capable of transferring a fine pattern en bloc with high precision at a low cost, using an electron gun capable of irradiating charge particles of a large area to transfer over the entire chip area en bloc, without horizontally scanning or deflecting an electron beam and without using a complicated deflector or scale reducing projection mechanism.例文帳に追加

転写されるチップ面積全体を一括転写が行える大面積の荷電粒子を照射できる電子銃を用いて、電子ビームの水平方向の走査や、偏向は行わない、複雑な偏向器や、縮小投影用機構を用いない高精度で微細なパターンを一括転写できる高精度で低価格な露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide printed matter, which has no problem on manufacturing cost and the desired matte pattern with surface unevenness on which can be favorably reproducibly and stably obtained, its forming method and an intermediate transfer recording medium in order to obtain a mat-like printed matter, which has a thermally transferred image thereon and the surface of which has fine unevenness.例文帳に追加

熱転写画像を有する印画物で、表面に微細な凹凸を有するマット状の印画物を得るために、製造コスト上、問題がなく、また表面凹凸を有した所望のマット柄を再現性良く、安定して得られることができる印画物とその形成方法、及びその印画物を形成するために使用する中間転写記録媒体を提供する。 - 特許庁

Specifically, the heat transfer pattern 22a is formed directed radially toward the temperature detection element 23 from a part on the printed circuit board 22, where the metal screw, nearest the temperature detection element 23, is in contact with the printed circuit board 22, and is formed to enclose toroidally the outer periphery of the temperature detecting element 23 near the temperature detection element 23.例文帳に追加

具体的に、伝熱パターン２２ａを、プリント基板２２上における、温度検出素子２３に最も近い金属ネジがプリント基板２２に接する部分から、温度検出素子２３に向かって放射状に形成し、更に、温度検出素子２３の近傍において、温度検出素子２３の外周を円環状にとり囲む形状とした。 - 特許庁

A luminous layer-formed film, on which a luminous layer is formed beforehand on a base film, is pasted on a substrate and laser irradiation is applied selectively, and a luminous layer having a desired pattern is formed, and then the base film is peeled off, thereby forming the luminous layer by a laser thermal transfer method.例文帳に追加

このような課題を解決するため、本発明は、発光層の形成する方法として、基板上にベ−スフィルムに予め発光層を形成した発光層形成フィルムを貼付け、選択的にレ−ザ照射を行い、所望のパタ−ンの発光層を形成した後、ベ−スフィルムを剥がすことを特徴としたレ−ザ熱転写方式による発光層の形成。 - 特許庁

By using a sputtering target 14, containing silicon and having a hardness of 900 HV or more in Vickers' hardness, a thin film for forming the mask pattern on a substrate 1 is formed by sputtering, and the high-quality mask blank that suppresses generating of defects is manufactured; and further, the transfer mask is manufactured by patterning the thin film.例文帳に追加

シリコンを含有するスパッタリングターゲット１４であって、ターゲットの硬度が、ビッカース硬さで９００ＨＶ以上であるスパッタリングターゲットを用いて、基板１上にマスクパターンを形成するための薄膜をスパッタリング法で形成し、欠陥発生を抑えた高品位のマスクブランクを製造し、さらに、薄膜をパターニングすることで転写マスクを製造した。 - 特許庁

A main pattern of a photomask having a focus monitor mark capable of controlling a focus position can be subjected to a transfer simulation giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity, only by setting a focus controlling system 80 on a measurement stage of a lithographic simulation microscope, the system capable of giving a just-focus and accurate contrast of transmitted light intensity.例文帳に追加

リソグラフィシュミレーション顕微鏡の測定ステージに、ジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られるフォーカス制御システム８０をセットするだけで、フォーカス位置が制御可能なフォーカスモニターマークが配置されたフォトマスクのメインパターンをジャストフォーカスで正確な透過光強度のコントラストが得られる転写シュミレーションを行うことができる。 - 特許庁

This device is provided with a transfer belt joint recognition pattern and a joint recognition sensor.例文帳に追加

本発明によれば、転写ベルトのつなぎ目認識パターン及びつなぎ目認識センサの設置により、転写ベルトのつなぎ目を、スケール上に付着したごみ等と誤認することなく、確実に認識し、その結果に基き、フィードバック制御手段が、つなぎ目区間に対して、ダミー信号を用いることで、転写ベルトの移動速度を自己補正制御し、高精度に転写ベルトを等速駆動する。 - 特許庁

A hydraulic transfer film is formed having a printing pattern printed on a water-soluble film using an ink including a highly bright ink including a golden highly bright pigment, the golden highly bright pigment in the highly bright ink is made by covering a mica piece 10 with titan oxide 20, iron oxide in series further covering with the protecting film 40 on the iron oxide.例文帳に追加

金色高輝性顔料を含有する高輝性インキを含むインキを用いて水溶性フィルム上に印刷された印刷パターンを有する水圧転写フィルムを形成するが、高輝性インキ中の金色高輝性顔料は、マイカ片１０に酸化チタン２０、酸化鉄３０が順次被覆され、更にその上部に保護膜４０が被覆されて形成されている。 - 特許庁

The microcup array is manufactured by (a) coating a male mold where a pattern is preformed with a thermosetting or thermoplastic precursor composition to form a contiguous precursor layer on the male mold; (b) bringing the precursor layer into contact with a transfer sheet; (c) curing the precursor to form a cured microcapsule array; and (d) releasing the microcup array from the mold.例文帳に追加

マイクロカップアレイを製造するために、ａ）予めパターン形成した雄型上に熱硬化性または熱可塑性前駆体組成物を被覆して、隣接する前駆体層を雄型上に形成し、ｂ）前駆体層をトランスファーシートと接触させ、ｃ）前駆体を硬化させて、硬化したマイクロカップアレイを形成し、およびｄ）マイクロカップアレイから型をリリースする。 - 特許庁

In the transfer sheet obtained by laminating at least a pattern layer and an adhesive layer on a support, the adhesive comprises a binder resin having a crosslinkable reaction group and a latent curing agent and the ratio of the reaction group equivalent of the binder resin to the reaction group equvalent of the latent curing agent is 1 : 1 to 1 : 3.例文帳に追加

支持体上に少なくとも絵柄層、接着層を積層してなる転写シートにおいて、接着層が架橋性反応基を有するバインダー樹脂と潜在性硬化剤よりなり、該バインダー樹脂の反応基当量と潜在性硬化剤の反応基当量との比が１：１〜１：３であることを特徴とする転写シートである。 - 特許庁

To improve durability to transfer number of a master information carrier which transfers a preformat signal such as a servo signal onto a magnetic recording medium by surface contact by magnetizing a ferromagnetic material accumulated on a nonmagnetic substrate in a signal pattern shape by being in close contact with or close to the magnetic recording medium.例文帳に追加

非磁性基体上に信号パターン状に堆積された強磁性材料を、磁気記録媒体に密着もしくは近接させて磁化することにより、磁気記録媒体にサーボ信号などのプリフォーマット信号を面接触で転写するマスター情報担体の転写回数に対する耐久性を向上させるとともに、連続転写にかかる時間を短縮する。 - 特許庁

A luminescence layer, an electron transportation layer 13 and a cathode are uniformly deposited by a vacuum deposition method, the developer used for the separating barrier ribs is removed by transfer after deposition, a layered product of the luminescence layer, an electron transportation layer 13 and a cathode is selectively removed together, and picture element formation is made after luminescence pattern formation and cathode separation.例文帳に追加

次いで、真空蒸着法により発光層、電子輸送層、陰極を一様蒸着し、その蒸着後、分離隔壁に用いた現像剤を転写により取り去ることにより、発光層、電子輸送層、陰極の積層体も一緒に選択的に除去して、発光パターン形成、陰極分離を行って、画素形成を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask, which can simply form a light shielding region and can achieve highly accurate pattern transfer, without increasing a manufacturing process such as resist coating, drawing, developing and etching, and without needing to prepare a special mask blank; an ion beam device for the reflective mask; and the reflective mask.例文帳に追加

本発明は、レジスト塗布、描画、現像、エッチング等の製造工程を増やすことなく、特殊なマスクブランクを準備する必要もなく、簡便に遮光領域を形成することが可能であり、高精度なパターン転写を実現することが可能な反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

The apparatus comprises a projection optical system PL for projecting a transfer pattern image of a reticle R on a wafer W, an alignment system 22 for measuring the position of either the reticle R or the wafer W to relatively align the reticle R with the wafer W, and an instrument 31 for measuring the wave front aberration of the alignment system 22.例文帳に追加

レチクルＲに形成された転写パターン像をウエハＷに投影する投影光学系ＰＬと、レチクルＲとウエハＷとの相対的な位置合わせを行うためにレチクルＲとウエハＷとの少なくとも一方の位置を計測するアライメント系２２と、アライメント系２２の波面収差を計測する波面収差計測装置３１とを備える。 - 特許庁

In the diffracting structural body transfer foil, in which the patterns (14) made of a diffracting structure and the patterns comprising portions (13) having reflecting layers and portions (12) having no reflecting layer are provided under the state being registered, transferring sensor marks (11) made of a pattern formed at least through the absence and presence of the reflecting layers are provided.例文帳に追加

回折構造により形成した絵柄（１４）と、反射層の有る部分（１３）と反射層の無い部分（１２）により形成した絵柄とが、見当を合わせて設けられた回折構造体転写箔において、少なくとも反射層の有無によるパターンで形成された転写用センサーマーク（１１）を有することを特徴とする回折構造体転写箔。 - 特許庁

To provide a reflective mask with a light blocking region capable of minimizing overexposure in the exposure field boundary on a wafer by enhancing the light blocking properties of the light blocking region on a reflective mask while eliminating the risk of damaging a transfer pattern, and to provide a reflective mask blank and a method of manufacturing a reflective mask.例文帳に追加

本発明は、転写パターンに損傷を及ぼす危険性を解消しつつ、反射型マスク上の遮光領域の遮光性を高めてウェハ上の露光フィールド境界部のオーバー露光を抑制できる遮光領域を有する反射型マスク、反射型マスクブランクス、および反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

A metal substrate in which ruggedness in accordance with a transfer pattern in accordance with information to be transferred to the magnetic recording medium is formed on a surface is formed, a master substrate having the prescribed shape is formed by separating from the metal substrate by etching, and a magnetic layer is formed so that at least ruggedness out of the surface of the master substrate is covered with the magnetic layer.例文帳に追加

磁気記録媒体に転写すべき情報に応じた転写パターンに応じた凹凸が表面に形成された金属基板を成形し、金属基板からエッチングによって分離することで所定の形状を有するマスター基板を成形し、マスター基板の表面のうち少なくとも凹凸を覆うように磁性層を形成する。 - 特許庁

The aligner comprises a projection optical system having a plurality of reflectors (M1-M6) performing exposure and transfer of a pattern formed on a mask onto a photosensitive substrate using extreme ultravoilet light wherein at least one of the plurality of reflectors is held in a state insulated from the outside.例文帳に追加

極端紫外光を用いて、マスクに形成されたパターンを感応基板上に露光転写するための複数の反射鏡（Ｍ１−Ｍ６）を有する投影光学系を備えた露光装置であって、前記複数の反射鏡のうち、少なくとも１つの反射鏡を外部と絶縁した状態で保持することを特徴とする露光装置である。 - 特許庁

The servo master includes: a membrane which includes a first face and a second face; a plurality of stamp areas which are formed in the first face and includes a magnetic layer patterned in a servo pattern shape which is going to perform magnetic transfer to the magnetic recording medium; and a pressure means which is formed in the second face and applies the pressure to a plurality of the stamp areas.例文帳に追加

第１面及び第２面を有するメンブレンと、第１面に形成されたものであり、磁気記録媒体に磁気転写しようとするサーボパターン形状にパターン化された磁性層を含む複数のスタンプ領域と、第２面に形成されたものであり、複数のスタンプ領域に圧力を加える加圧手段とを備えているサーボマスターである。 - 特許庁

To provide a color image forming apparatus that securely detects the position of toner even in the case of toner having high reflectance, prevents erroneous detection of a pattern which is caused by a change in the surface of a body to be subjected to transfer or scratch on the surface of the body, detects a reliable amount of color slippage and therefore, forms a color image of high image quality.例文帳に追加

反射率の高いトナーにおいても確実にトナー位置を検出可能であり、又被転写体の表面変動や被転写体の表面の傷などによるパターンの誤検知を防止することができ、適正な色ずれ量を検出して、高画質なカラー画像を形成することが可能なカラー画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a container for transferring a substrate and a method for controlling a driving which are characterized by that a driving pattern is changed so that an environment formed in a container for transferring the substrate having a particle removing means, a gaseous-impurity removing means, and a dehumidifying means are made in the optimum conditions to the substrate in each process in order to automate a transfer and a control.例文帳に追加

搬送と管理の自動化を前提として、粒子除去手段とガス状不純物除去手段と除湿手段を備えた基板搬送容器内で構築される環境を、各プロセスにおける基板に最適な条件になるように運転パターンを変化させることを特徴とした基板搬送容器、およびその運転制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an FRP molded product which can transfer the texture pattern of a fabric precisely and reproduce the natural feel to give the molded product having decorative excellence in fabricating an FRP mold or an FRP molded product by using a liquid resin, and to provide the FRP molded product fabricated by this manufacturing method.例文帳に追加

本発明は、液状樹脂を使用してＦＲＰ型、及びＦＲＰ成形品を作製する場合に、織物の織り目模様が精密に転写され自然な風合が再現でき、装飾性に優れるＦＲＰ成形品の製造方法及びこの製造方法により作製したＦＲＰ成形品を提供することを目的とする。 - 特許庁

The pattern transfer method for filling a concave-convex pattern on a template with a resist material includes steps of: contacting the template with the resist material applied on a substrate, curing the resist while contacting the template with the resist, electrically charging the template and the cured resist with an identical polarity, and removing the template from the resist material while eclectically charging the template and the resist with an identical polarity.例文帳に追加

テンプレートの凹凸パターンにレジスト材料を充填するパターン転写方法であって、前記テンプレートを基板上に塗布された前記レジスト材料に接触させる工程と、前記レジストに前記テンプレートを接触させた状態で前記レジストを硬化させる工程と、前記テンプレート及び硬化した前記レジスト材料を同じ極性に帯電させる工程と、前記テンプレート及び前記レジスト材料を同じ極性に帯電させた状態で、前記レジスト材料から前記テンプレートを離すことを特徴とするパターン転写方法。 - 特許庁

In the case where the communication schedule in the LIN is constituted of (transmission of) a transmission frame and (reception of) a reception frame, when the communication schedule in the LIN is started just after the reception timing in the CAN, data received in the CAN are immediately transferred to the LIN in accordance with the communication schedule, like a LIN communication schedule pattern (11), thereby improving transfer efficiency.例文帳に追加

ＬＩＮにおける通信スケジュールが、送信フレーム（の送信）、受信フレームの（受信）で構成される場合、ＬＩＮ通信スケジュールパターン（１１）のように、ＣＡＮにおける受信タイミングの直後にＬＩＮにおける通信スケジュールが起動すると、その通信スケジュールにてＣＡＮにて受信したデータが即座にＬＩＮに転送されるため、転送効率が向上する。 - 特許庁

The method for manufacturing a polarized light diffractive cholesteric liquid crystal film contains the first step to form a cholesteric liquid crystal film on an alignment supporting substrate, the second step to transfer a diffraction pattern of a diffraction element substrate to the surface of the cholesteric liquid crystal film and to form a region exhibiting diffractiveness on a part of the film and the third step to release the alignment supporting substrate from the cholesteric liquid crystal film.例文帳に追加

配向支持基板上にコレステリック液晶フィルムを形成する第１工程、コレステリック液晶フィルム面に回折素子基板の回折パターンを転写し、フィルムの一部に回折能を示す領域を形成する第２工程、及びコレステリック液晶フィルムから配向支持基板を剥離する第３工程、を含む偏光回折性コレステリック液晶フィルムの製造方法である。 - 特許庁

To provide a process by which thick platings such as bumps and wirings are produced with high precision while a resist shows high swelling resistance to a plating solution and the plating solution is prevented from leaking in between the pattern and substrate, a radiation-sensitive negative resin composition which shows sensitivity suitable for the production process and possesses excellent resolution and heat resistance, and a transfer film including the composition.例文帳に追加

レジストのメッキ液に対する膨潤が少なく、パターンと基板との界面へのメッキ液のしみ出しが抑制され、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度を示し、解像度、耐熱性などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供する。 - 特許庁