「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(45ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a printing plate cylinder and a printing apparatus capable of using viscous, water or oil ink, resin and conductive paste, etc., also, capable of optionally increasing/decreasing the thickness of a transfer film, and achieving an image line, a pattern and the like of thick film-thickness.例文帳に追加

粘度の高い水性または油性のインキ、樹脂、導電ペーストなどを用いることが可能であり、かつ転写する膜の厚さを任意に増減でき、更に膜厚の厚い画線やパターン等を実現する印刷用版胴および印刷装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a method of performing positional accuracy±10 μm of a pattern in a square of about 50 cm even when a metal mask is once adhered on a screen fabric adhered to a frame and the deposition metal mask is manufactured by a transfer method of transferring the metal mask to a body frame.例文帳に追加

枠に貼り付けられた紗の上に、一旦メタルマスクを貼り付け、メタルマスクを本枠上へ転写する転写法によって蒸着マスクを製造しても、約５０ｃｍ角大でパターンの位置精度±１０μｍを達成する製造方法を提供すること。 - 特許庁

If the transfer to the specific game state is decided to be caused after the performance of the second special game, the performance pattern having a shorter display time as compared with the case when it is decided to be caused after the performance of the first special game is selected.例文帳に追加

特定遊技状態への移行が第２特別遊技の実行終了後になされたものと判定された場合、第１特別遊技の実行終了後になされたものと判定された場合と比べて表示時間の短いデモ演出の演出パターンを選択する。 - 特許庁

In this regard, the die basic material is provided with protrusions in accordance with the depths of the wiring grooves formed in the substrate in wiring pattern and the lengths of the through holes, thus manufacturing a die capable of transfer-molding the wiring grooves and the through holes collectively.例文帳に追加

このとき、型基材には、基板に形成する配線パターンの配線溝の深さとスルーホール用の孔の長さに合わせて凸部を形成することにより、配線溝とスルーホール用の孔とを一括して転写成形することのできる転写成形用型が製造される。 - 特許庁

To change at least one haze ratio of a translucent insulation substrate and a transparent conductive film to change a light absorbed amount in a photoelectric transfer layer, whereby a pattern is displayed in a thin-film solar cell without having to decrease substantially an area of a power generation region.例文帳に追加

透光性の絶縁基板と透明導電膜との少なくとも一方のヘイズ率を変えて、光電変換層での光吸収量を変えることにより、発電領域の面積を実質的に減少させずに、薄膜太陽電池に模様を表示する。 - 特許庁

Three-color (R, G, B) organic emission coloring matter pattern layers 82 (82R, 82G and 82B) corresponding to three primary colors of light, and a marker 83 for alignment are arranged on one surface of a substrate body 81 for transmitting laser beams, thus composing the transfer base 80.例文帳に追加

レーザ光を透過可能な基板本体８１の一面に、光の３原色に対応する３色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）の有機発光色素パターン層８２（８２Ｒ，８２Ｇ，８２Ｂ）と、位置合わせ用のマーカー８３とを配列させることにより、転写基板８０を構成する。 - 特許庁

The transfer sheet composed of a peelable protective layer 12, a printing layer 13 and a bonding layer 14 is produced to be transferred to a base material layer 11, on one side of which a fine unevenness is formed, resulting in simultaneously realizing the transferring of the pattern to and the roughening of the surface of the matter to be transferred.例文帳に追加

片面に微細な凹凸を形成した基材層１１に、剥離性保護層１２，印刷層１３，接着層１４を設けた転写シートを作製し、これを転写することによって、絵柄を転写するとともに、その表面を粗面化する。 - 特許庁

In the first step, a first resin is interposed between a first stamper having, in its transfer surface, pattern-shaped recessed parts corresponding to first magnetic parts of a plurality of servo regions in a BPM to be manufactured and a magnetic film 5 and the first stamper is pushed to the first resin.例文帳に追加

第１工程では、製造目的のＢＰＭにおける複数のサーボ領域の第１磁性部に対応したパターン形状の凹部を転写面に伴う第１スタンパと磁性膜５の間に第１樹脂を介在させて第１スタンパを第１樹脂に押し付ける。 - 特許庁

The matte transfer sheet is characterized by laminating a picture pattern layer comprising at least a thermoplastic resin and a coloring agent, an intermediate layer comprising heat-resistant particles with a mean particle diameter of ≥0.3 μm and ≤20 μm, and an adhesive layer on a substrate.例文帳に追加

支持体上に少なくとも熱可塑性樹脂と着色剤からなる絵柄層、平均粒子径が０．３μｍ以上２０μｍ以下である耐熱性粒子を含有する中間層、接着層を積層してなることを特徴とする艶消し転写シート。 - 特許庁

In the case that the first amount of the color shift exceeds the specified upper limit value, the color shift correction data is updated based on a second amount of color shift by forming a second color shift detection pattern for the highly accurate detection of the color shift on the transfer medium.例文帳に追加

前記第１の色ズレ量が前記所定の上限値を超えた場合には、高精度な色ずれ検出のための第２の色ズレ検出パターンを前記転写媒体上に形成して、第２の色ズレ量に基づいて色ズレ補正データを更新するようにする。 - 特許庁

The substrate transfer mechanism 20 used for an exposing device 1 for exposing a pattern P of a mask M on a substrate W by directing an exposing light EL via the mask M to the substrate W lifts up and supports the substrate W and conveys the same in the X direction.例文帳に追加

基板搬送機構２０は、基板Wに対してマスクMを介して露光用光ＥＬを照射し、基板ＷにマスクＭのパターンＰを露光する露光装置１に適用され、基板Ｗを浮上させて支持すると共に、基板ＷをＸ方向に搬送する。 - 特許庁

To provide a formation method of a display panel member capable of reducing mixing between a dielectric formation material layer and a barrier rib formation material layer, and simplifying a process, and a transfer film capable of forming a member excelling in an aspect ratio and a pattern shape.例文帳に追加

誘電体形成材料層と隔壁形成材料層との間のミキシングを低減させ、かつ、工程を簡略化することができるディスプレイパネル部材の形成方法、並びにアスペクト比及びパターン形状に優れた部材を形成可能な転写フィルムの提供。 - 特許庁

When the pattern printing ink layer 12 is formed on the surface of the ABS resin sheet layer 13 by a transfer method, the ABS resin sheet layer 13 is not attacked by a solvent in printing ink and the decorative sheet 1 excellent in surface properties and sharpness can be easily obtained.例文帳に追加

絵柄印刷インキ層１２は、ＡＢＳ樹脂シート層１３の表面に転写法によって形成すると、印刷インキ中の溶剤によってＡＢＳ樹脂シート層１３が侵されず、表面性や鮮映性に優れた化粧シート１が容易に得られる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element, capable of surely carrying out patterning of a coating of a display function material on a blanket, and surely forming and transferring a pixel pattern formed on the blanket to a transfer substrate, with the use of a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

凸版反転印刷法により、ブランケット上の表示機能性材料の塗膜のパターンニング、ブランケット上に形成された画素パターンを基材への転写基板に画素パターンを確実に形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法提供する。 - 特許庁

To provide a printer which can efficiently remove an ink solvent impregnated and stored into a blanket by repetition of printing treatment, and can suppress the defect in the transfer of ink and deterioration in dimensional precision in a pattern upon continuous printing, and a printing method.例文帳に追加

印刷処理の繰り返しによってブランケットに浸透、蓄積されたインキ溶剤を効率よく除去し、連続印刷時におけるインキの転移不良やパターンの寸法精度の低下を抑制することのできる印刷装置および印刷方法と、を提供すること。 - 特許庁

In the aligner with the variable-pattern forming devices 10a to 10e forming transfer patterns and projection optical systems PL1 to PL5 projecting the images of the transfer patterns formed by the forming devices on a photosensitive substrate, the aligner has a reference-mark display means for displaying reference marks in the forming devices and a measuring means for measuring the positions of the reference marks.例文帳に追加

転写パターンを生成する可変パターン生成装置１０ａ〜１０ｅと、前記可変パターン生成装置により生成された転写パターンの像を感光性基板上に投影する投影光学系ＰＬ１〜ＰＬ５とを備える露光装置において、前記可変パターン生成装置において基準マークを表示させる基準マーク表示手段と、前記基準マークの位置を計測する計測手段とを備える。 - 特許庁

To provide a diffraction structure formation body with a patterned metal reflecting layer formed by processing a metal reflecting layer in a fine pattern shape at a high speed and its manufacturing method, diffraction structure transfer foil using the diffraction structure formation body having the patterned metal reflecting layer, a diffraction structure sticker, diffraction structure transfer foil, and an information recording medium with the diffraction structure using the diffraction structure sticker.例文帳に追加

細かいパターン状の金属反射層を高速で加工したパターン状の金属反射層を有する回折構造形成体とその製造方法、パターン状の金属反射層を有する回折構造形成体を用いた回折構造体転写箔、回折構造体ステッカー、及び回折構造体転写箔、回折構造体ステッカーを用いた回折構造体付き情報記録媒体を提供すること。 - 特許庁

The pattern forming material comprises a support and at least a photosensitive layer on the support, wherein the photosensitive layer contains a chain transfer compound having at least two substituents capable of chain transfer per molecule, a binder, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator and a polymerization inhibitor, wherein the polymerizable compound contains a compound having three or more polymerizable groups per molecule.例文帳に追加

支持体と、該支持体上に少なくとも感光層を有してなり、該感光層が、分子中に連鎖移動可能な置換基を少なくとも２つ有する連鎖移動化合物、バインダー、重合性化合物、光重合開始剤、及び重合禁止剤を含み、該重合性化合物が、分子中に重合性基を３つ以上有する化合物を含有することを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

By providing a pattern wiring 3 and a jumper wire 2 for feeding back leakage current from a wiring to a transfer high voltage generating circuit 11, the leakage current will not increase, even if the distance between the terminals 72 is made small, and the device is further miniaturized.例文帳に追加

また、配線からの漏れ電流を転写用高電圧発生回路１１に帰還させるためのパターン配線３及びジャンパ線２を設けたことで、接触端子７２間の距離を近づけても漏れ電流が増加することがなく、装置をさらに小型化することができる。 - 特許庁

To provide a masking material raising the accuracy of a masking pattern by preventing a droop due to heating, increasing the transfer quantity of solder paste, and ensuring excellent detergency after heating curing, and also to provide a printing method of solder paste using the masking material.例文帳に追加

加熱ダレを防止してマスキングパターンの精度を向上させ、また、はんだペーストの転写量を多くすることができ、さらに、加熱硬化後の洗浄性に優れたマスキング材料及び該マスキング材料を用いたはんだペーストの印刷方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

At this time, a printing timing by the thermal head 15 is determined on the basis of a draw-out amount of the laminate tape 3 from the roller 40 which is detected by applying light to a periodic pattern printed to the transfer separator 31 by a draw-out amount detector 16.例文帳に追加

このとき、サーマルヘッド１５での印刷タイミングは、引出量検出器１６によって、搬送用セパレータ３１に印刷された周期的パターンに対して光が照射されることによって検出された積層テープ３のローラ４０からの引き出し量に基づいて決定される。 - 特許庁

An arrangement of a toner sticking pattern in a plurality of colors, which should be transferred and formed on an intermediate transfer belt 18 is switched (among an arrangement A, an arrangement B, or an arrangement C) in accordance with a recognition result of the apparatus state including at least one of a use state and a use history of an apparatus main body.例文帳に追加

装置本体の使用状態及び使用履歴の少なくとも一方を含む装置状態の認識結果に応じて、中間転写ベルト８上に転写して形成する複数色のトナー付着パターンの配列（配列Ａ、配列Ｂ、配列Ｃ）を切り換える。 - 特許庁

A plurality of nozzles are provided to the nozzle headers in the inlet side of the rolling roll and the descaling water is injected so that respective injecting patterns of the descaling water to the steel slab from the nozzle are parallel and the proportion of the overlapping region of the injecting pattern is the same, viewing from the transfer direction of the steel slab.例文帳に追加

圧延ロール入側のノズルヘッダーにノズルを複数個配設し、ノズルから鋼スラブに噴射されるデスケーリング水のそれぞれの噴射パターンが平行で、かつ鋼スラブの搬送方向から見て噴射パターンの重複する領域の割合が同一となるようにデスケーリング水を噴射する。 - 特許庁

Processing in S9-S10 is performed, and the dot pattern data for each of the external character data of the sizes 1-7 and data on the registration numbers are converted into a predetermined format for communication data, so as to be transmitted into the tape printing equipment 3 via a USB cable S1 by interrupt transfer etc.例文帳に追加

また、Ｓ９〜Ｓ１０の処理を実行して、このサイズ１〜サイズ７の各外字データのドットパターンデータと登録番号のデータとを通信データ用の所定フォーマットに変換して、ＵＳＢケーブルＳ１を介してテープ印字装置３にインターラプト転送等により送信する。 - 特許庁

Thereby white/black ratio of the image is regarded as being higher than white/black ratio, based on the input image signal, and when an image of a pattern having much white paper part adjacent to a dot-like toner image is formed, transfer current value can be made to have a low value, corresponding to the white/black ratio.例文帳に追加

これにより、画像の白黒比が入力画像信号に基づく白黒比よりも高いとみなされ、網点のようなトナー像に隣接している白紙部が多いパターンの画像を形成する際に、転写電流の値をこの白黒比に対応した低い値とすることができる。 - 特許庁

To provide a photomask that can decrease changes in a polarization state of exposure light induced by the mask itself and transfer a preferable fine image onto a wafer in photolithography with a 45 nm half pitch node or further advanced techniques, and to provide a method for easily manufacturing the mask and a pattern forming method using the photomask.例文帳に追加

ハーフピッチ４５ｎｍノード以降のフォトリソグラフィにおいて、マスク自身により誘引される露光光の偏光状態の変化を緩和し、良好な微細画像をウェハ上に形成するためのフォトマスク、および簡易なその製造方法、さらに、そのフォトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a tape paste which enables indication of a letter, a symbol, a pattern and the like on the tape paste body to be released while sufficiently securing tack performance, improves the designing of the tape paste body, and enables effective utilization of the tape paste body as an advertisement page or the like and tape paste transfer implements.例文帳に追加

粘着性能を十分に確保しつつ、剥離するテープ糊本体に文字や記号や絵柄などを表示可能となして、テープ糊本体の意匠性を向上できるとともに、テープ糊本体を広告面などとして有効利用可能となしたテープ糊及びテープ糊転写具を提供する。 - 特許庁

A release sheet, an adhesive layer, and a barrier layer are stacked, and a connection layer 20 comprising adhesives or the like, a deposit layer 31, and an under coat layer 32 are successively stacked on the barrier layer to form a metal layer m in a desired pattern, and an application layer is stacked on the metal layer through an adhesive layer to obtain a transfer sheet.例文帳に追加

離けいシート、粘着層、及びバリア層を積層し、その上に、粘着剤等による接続層２０、蒸着層３１、及びアンダーコート層３２を順に積層した金属層ｍを所望のパターンで形成し、その上に粘着層７０を介してアプリケーションシートを積層して転写シート。 - 特許庁

To provide a press device for transfer printing or adhesion capable of elevating/lowering a hot plate and pressing an object by jointly using an elevating/lowering air cylinder and a pressure-adjusting air cylinder, uniformly and tightly sticking a sheet even to an object of a large area, and providing a clear transferred pattern and sticking homogeneous face materials, mounting papers or the like.例文帳に追加

ホットプレートの昇降及び対象物に対する押圧を昇降用エアシリンダと圧力調整用エアシリンダの併用で行い、大面積の対象物に対しても均一にシートを密着させ、鮮明な転写模様の付与や均質な面材，表装紙等の貼合せを可能にする。 - 特許庁

To solve the problems of, on a conductor layer, the dependence of glare on a viewing angle and contrast in appearance, and the problem of insufficient adhesion between resin or the like and a cover film when the cover film is stacked on the conductor layer with the resin or the like, on a substrate having a conductor layer pattern obtained by a transfer method.例文帳に追加

転写法により得られる導体層パターン付き基材は、導体層にギラツキ感の視野角依存性やコントラストなどの外観上の課題、導体層に樹脂などを介してカバーフィルムを積層した場合、この樹脂やカバーフィルムとの密着性が不十分であるという課題を解決する。 - 特許庁

To provide a halftone-type EUV mask produced by selecting the material of a halftone film that has no only wide selectivity (flexibility) of reflectivity and high cleaning liquid-resistance, but also high processing accuracy of etching, a halftone-type EUV mask blank, a production method of the halftone-type EUV mask and a pattern transfer method.例文帳に追加

反射率の選択性の広さ（自由度）と洗浄液耐性の高さを持つと同時に、エッチングの加工精度が高くなるハーフトーン膜の材料を選定したハーフトーン型ＥＵＶマスク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクブランク、ハーフトーン型ＥＵＶマスクの製造方法及びパターン転写方法を提供すること。 - 特許庁

A method for evaluating a thin film for a transfer mask having a thin film in which a pattern is formed on a transparent substrate by irradiating with ArF excimer laser exposure light includes a step of evaluating light resistance of the thin film by intermittently irradiating the thin film with pulsed laser light.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザー露光光が適用され、透光性基板上にパターンが形成された薄膜を備えた転写用マスクのための薄膜の評価方法であって、パルスレーザ光を前記薄膜に間欠的に照射することによって薄膜の耐光性を評価する工程を備える。 - 特許庁

An image forming device 100 successively forms image adjustment patterns over portions between the plurality of toner images on an intermediate transfer belt when adjusting images during continuous printing in an image forming part 60 under control of a control part 10, and adjusts the images by detecting the pattern with a sensor.例文帳に追加

画像形成装置１００は、制御部１０の制御の下、画像形成部６０での連続印刷中に画像調整を行う際に、中間転写ベルト上のトナー像間の複数に亘って、画像調整パターンを順次形成し、センサでそのパターンを検出して画像の調整を行う。 - 特許庁

To provide a high-quality printing method of monochromatic or multicolor letter, pattern, photograph or the like on a silicon rubber molded form without generating any printing blur or any troublesome work, the products thereof and the original sheet of releasing paper for transfer employed for the method.例文帳に追加

シリコーンゴム成型品に単色ないし多色の文字、絵柄、写真などを印刷ブレすることなく、また、煩雑な作業もなく、高品質の画質に印刷せしめる方法およびその製品並びにその方法に使用する転写用離型紙原板を提供することである。 - 特許庁

After removing the ion implantation mask pattern, a transfer gate electrode, an NMOS gate electrode, and a PMOS gate electrode are formed on a semiconductor substrate in a pixel region, on that of the NMOS region, and on that of the PMOS region, respectively, by patterning the polysilicon film.例文帳に追加

イオン注入マスクパターンを除去した後にポリシリコン膜をパターニングして画素領域の半導体基板上に転送ゲート電極、ＮＭＯＳ領域の半導体基板上にＮＭＯＳゲート電極及びＰＭＯＳ領域の半導体基板上にＰＭＯＳゲート電極を形成する。 - 特許庁

To provide a nanoimprint pattern forming method capable of controlling the leak of a surplus resin without requiring a complicated control mechanism in a transfer device and forming a dummy groove in a mold which causes a molding defect by a residual resin, and also to provide a base material used in the method.例文帳に追加

転写装置に複雑な制御機構を必要とせず、また、樹脂残留によりモールド欠陥を引き起こす原因となるダミー溝をモールドに形成せずに、余剰樹脂の漏出を制御することができるナノインプリントパターン形成方法およびそれに用いられる基材を提供する。 - 特許庁

The pattern forming material has on a support a cushion layer, a barrier layer capable of suppressing transfer of a substance, and a photosensitive layer in this order, wherein the interlayer adhesive power of the photosensitive layer and the barrier layer is smallest among all the interlayer adhesive powers of layers.例文帳に追加

支持体上に、クッション層と、物質の移動を抑制可能なバリア層と、感光層とをこの順に有し、各層の層間接着力の中で前記感光層と前記バリア層との層間接着力が最も小さいことを特徴とするパターン形成材料である。 - 特許庁

To detect misregistration any time even in the case of a test patch pattern formed by any type of toner, and when correcting the misregistration, to reliably detect and correct the misregistration even when detection errors occur due to flapping, an indentation, and scarring in an intermediate transfer body.例文帳に追加

どのような種類のトナーで形成されたテストパッチパターンにおいても、随時位置ずれを検出し、これを補正する場合は、中間転写体のばたつきや、打痕、傷による誤検出が発生しても、確実に位置ずれを検出し、位置ずれの補正をすることが可能になる。 - 特許庁

To provide a decorative sheet and a transfer sheet both of which are used in a decoration method utilizing membrane press molding and can efficiently prevent the generation of pattern elongation, whitening or gloss irregularity caused by local elongation and the decoration method using both sheets.例文帳に追加

メンブレンプレス成形を利用した化粧方法に使用するための化粧シート及び転写シートにおいて、局所的な伸びによる柄伸び、白化、艶ムラ等の発生を効果的に防止することのできる化粧シート及び転写シート、及びそれらを使用した化粧方法を提供する。 - 特許庁

The thermosensitive transfer medium is formed with a thermal transferable ink layer without absorption of light in an infrared region, and a thermal transferable ink layer of the same color as the ink layer in visual observation and with absorption of light in the infrared region, and these thermal transferable ink layers are formed in pattern shape on one face of a strip-like support body.例文帳に追加

帯状の支持体の一方の面に、赤外領域で光の吸収が無い熱転写性インキ層と、前記インキ層と目視において同じ色であり赤外領域で光の吸収が有る熱転写性インキ層とがパターン状に形成されている感熱転写媒体。 - 特許庁

In the expression, W is wandering performance index calculated in an image analyzing process by the transfer of a tread pattern image and a rain groove image, p is pixel size (mm) used for image processing in calculating the wandering performance index, L is ground contacting length of the tire (mm) and "a" is a coefficient of 0.6 to 0.7.例文帳に追加

（式中、Ｗはトレッドパターン画像とレイングルーブ画像との転写による画像解析処理から算出されるワンダリング性能指数、ｐはワンダリング性能指数を算出する際の画像処理で用いた画素の大きさ（ｍｍ）、Ｌはタイヤの接地長（ｍｍ）、ａは係数で０．６〜０．７である。） - 特許庁

Surface shape precision is also enhanced in macroscopic view of the lens OL, by bringing the injection rate into 30 cm^3/sec or less, while filling an inside of the cavity CV moderately to prevent a transfer rate of the diffraction pattern FP from getting low ununiformly.例文帳に追加

また、射出率を３０ｃｍ^３／ｓｅｃ以下とすることで、キャビティＣＶ内を緩やかに充填して回折パターンＦＰの転写率が不均一に低下することを防止しつつ、レンズＯＬを巨視的に見た場合の表面形状精度を向上させることができる。 - 特許庁

The electrophotographic color copier 100 carries out the idle rotation of agitators for the developing apparatuses 14a to 14d so as to increase the toner electrification quantity, or skips the idle rotation in accordance with the detection result of the toner density of the toner pattern 70 formed on the intermediate transfer belt 31.例文帳に追加

電子写真カラー複写機１００は、中間転写ベルト３１上に形成されたトナーパターン７０のトナー濃度の検出結果に応じて、トナー帯電量を上昇させるための現像装置１４ａ〜１４ｄのアジテータの空回転を実行するか、又はその実行をスキップする。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass which can eliminate defects due to the fluorescence emission of an optical material used for a stepper exposure device used for the exposure and the transfer of a fine pattern of an exposure device, a laser processing device, an optical cleaning device, an integrated circuit or the like to reduce intensity of fluorescence emission, and which has excellent transmission performance.例文帳に追加

露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。 - 特許庁

To provide a reflective mask for EUV exposure, which has a light shielding band superior in cleaning resistance, by improving light shielding performance at an overlapping portion of fields of a transfer pattern in EUV exposure to suppress leakage of exposure light, resulting in reduced effect of shadowing of exposure light, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

ＥＵＶ露光における転写パターンのフィールドの重なり部分の遮光性を高めて露光光の漏れを抑制し、露光光のシャドーイングの影響を低減し、かつ耐洗浄性に優れた遮光帯を有するＥＵＶ露光用の反射型マスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁