「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

When a pattern width control is started, patterns of n-types of sizes are formed on the transfer belt 5; and the image detection sensors irradiate a first batch with a beam (S11), then decides whether the specular reflection component of a detected waveform has reached a threshold (S12).例文帳に追加

パターン幅制御が開始されると、転写ベルト５上にｎ種類のサイズのパターンを形成し、画像検知センサにより１番目のバッチにビームを照射し（Ｓ１１）、検出波形の正反射成分はしきい値に達しているかを判断する（Ｓ１２）。 - 特許庁

In the inner gas atmosphere, after overlapping the donor substrate 40 and transferred substrate 60 with each other, the pressure is reduced, to thereby restrict infiltration of moisture and oxygen between the transfer pattern, which is transferred to the transferred substrate 60 and the transferred substrate 60.例文帳に追加

不活性ガス雰囲気中において、ドナー基板４０と被転写基板６０とを重ね合わせたのちに減圧することにより、被転写基板６０に転写された転写パターンと被転写基板６０との間に水分や酸素が混入しにくくなる。 - 特許庁

To provide a composition for forming a resist lower-layer film, by which a lower-layer film can be formed, wherein the lower-layer film is excellent in etching resistance, is less likely to be bent when subjected to dry-etching process, and can transfer a resist pattern precisely with good reproducibility to a substrate to be processed.例文帳に追加

エッチング耐性に優れ、ドライエッチングプロセスにおいて折れ曲がり難く、レジストパターンを忠実に再現性よく被加工基板に転写することが可能な下層膜を形成することができるレジスト下層膜形成用組成物を提供する。 - 特許庁

To obtain a surface-protective film good in adhesion in the initial stage of its application to an adherend, and after a lapse of time, easily releasable from the adherend, and developing neither stain, adhesive transfer nor tier- like pattern.例文帳に追加

被着体に対する貼付初期段階での密着性が良好で、かつ、経時後、表面保護フィルムを被着体から容易に剥離でき、被着体表面に汚れ、糊残り、または段のような模様が発生しない表面保護フィルムを提供する。 - 特許庁

On the intermediate transfer belt 10, a pattern 91 for color slurring detection which consists of a combination of different colors of toner images 91B and 91Y is formed over the entire circumference and a relative position shift between the toner images in a vertical scanning direction is detected.例文帳に追加

中間転写ベルト１０上に、トナー像９１Ｂ，９１Ｙの異なる色の組合せからなる色ずれ検出用のパターン９１を全周に亘って形成し、その互いのトナー像の副走査方向の相対的な位置ずれを検出する。 - 特許庁

To provide a molding die which ensures the compatibility between the high transfer precision of a fine uneven shape and successful releasability and a molded object with a precisely molded fine uneven pattern obtained with the help of this molding die.例文帳に追加

微細な凹凸形状の高い転写精度と、良好な離型性の両立が可能な成形用金型およびこの成形用金型を用いて、射出成形を行うことで微細な凹凸パターンが精度良く形成される成形品を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank having uniform thickness and high flatness when mounted as a reflective mask on an electrostatic chuck of an exposure apparatus, and capable of achieving high pattern transfer accuracy.例文帳に追加

本発明は、その厚みが均一であり、反射型マスクとされた際に露光装置の静電チャックへ装着した場合の平坦性が高く、高いパターン転写精度を実現することが可能な反射型マスクブランクスを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To manufacture a shaped body for an optical sheet having an embossed layer with a concave-convex pattern formed by a roll forming method continuously at a low cost by avoiding a transfer defect resulting from a joint of a flat mold.例文帳に追加

ロール成形法により凹凸パターンが形成されたエンボス層を有する光学シート用成形体を製造する場合に、平板状金型の継ぎ目部に起因する転写欠陥を回避し、低コストで連続的に光学シート用成形体を製造する。 - 特許庁

The film 6 is easily separated from the master mold 8 by the release layer 4, and an uneven pattern on the surface of the master mold 8 is appropriately transferred on the film 6 to obtain a transfer mold 1 with the release layer 4 having high releasing properties to the electrically conductive paste.例文帳に追加

フィルム６は離型層４によりマスター型８から容易に分離され、マスター型８の表面の凹凸のパターンがフィルム６に適切に転写され、導電性ペーストに対して剥離性の高い離型層４を有する転写型１が得られる。 - 特許庁

To manufacture a mold for imprint processing, which is good in the peelability with a polymeric resin, prevents a release agent from entering the groove part of the recessed part of the mold and can transfer a normal pattern by press processing, in the atmosphere without generating toxious gas.例文帳に追加

高分子樹脂との剥離性が良好であり、離型剤が金型の凹部の溝部分に入り込んでおらず、プレス加工による正常なパターンの転写が可能なインプリント加工用金型を、大気中で、有毒ガスを発生することなく、製造する。 - 特許庁

To provide a sublimation transfer printing method enabling a character, a sign, a figure, a picture or a pattern illustrated with a sublimable dyeing ink to be easily formed on the surface of cloth, nonwoven fabric, coated paper, film, a sheet or a molded product by a handicraft technique.例文帳に追加

手工芸工法により、布、不織布、コート紙、フィルム、シートまたは成形物の表面に、昇華可能な染料インクで描いた文字、記号、図形、絵または模様を容易に形成することができる昇華転写染色方法を提供する。 - 特許庁

In the second step, a second resin 13 is interposed between a second stamper 30 having, in its transfer surface 30a, pattern-shaped recessed parts 32 corresponding to second magnetic parts of user data regions and the magnetic film 5 and the second stamper 30 is pushed to the second resin 13.例文帳に追加

第２工程では、ユーザデータ領域の第２磁性部に対応したパターン形状の凹部３２を転写面３０ａに伴う第２スタンパ３０と磁性膜５の間に第２樹脂１３を介在させて第２スタンパ３０を第２樹脂１３に押し付ける。 - 特許庁

To form a transfer pattern having a uniform color tone by giving a uniform pressing force also to an acutely arising inside surface even under the condition that a matter to be transferred is a tray-like one having accutely arising edges like those of a lunch box.例文帳に追加

被転写物が弁当箱状に端部が鋭角に立ち上がったトレイ状の形状を有するものであっても、鋭角に立ち上がった内側面にも均一な押圧力を付与して均一な色調を有する転写模様を形成する。 - 特許庁

To provide a stencil mask in which the transfer of a defect of the stencil mask to a material to be exposed is reduced and the positional accuracy of a circuit pattern to be transferred to the material to be exposed can be improved, and to provide a method of exposing and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ステンシルマスクの欠陥が被露光体へ転写されるのを低減し、かつ、被露光体へ転写される回路パターンの位置精度を向上させることができるステンシルマスク、露光方法、および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming device forming a full color image by juxtaposition color mixture of developers, which is capable of preventing a shift between an image carrier and a transfer material generated depending on a print image pattern, which causes image defects such as partially enlarged or reduced images, and image streaks.例文帳に追加

現像剤の並置混色によってフルカラー画像を形成する画像形成装置において、プリント画像のパターンによって、像担持体と転写材とのずれが生じ、部分的な画像の伸びや縮み、画像スジなどの画像不良が発生する。 - 特許庁

To provide, as an ArF excimer laser mask, a phase shift mask blank which has minimized wavelength dependency of transmittance so as to make defect inspection possible, and which is processed with a single dry etching gas, and also to provide a phase shift mask and a pattern transfer method using the blank.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ用マスクとして、欠陥検査も可能となるよう透過率の波長依存性が小さく、単一のドライエッチングガスで加工可能な位相シフトマスクブランク、それを用いたいそうシフトマスク、及びパターン転写方法を提供する。 - 特許庁

The information recording medium is obtained by sequentially stacking a hiding layer (14) and a pattern printed layer (15) on an information recording layer (13) disposed in at least part of one surface of a substrate (12) and further transferring the transfer layer (16).例文帳に追加

それを用いた、基材（１２）片面の少なくとも一部に設けられた情報記録層（１３）上に、隠蔽層（１４）、絵柄印刷層（１５）を順次積層し、さらに転写層（１６）を転写してなることを特徴とする情報記録媒体である。 - 特許庁

To achieve faithful and high-throughput transfer of fine pattern under appropriate illumination conditions, through the use of an illumination optical system capable of forming a ring-shaped illumination pupil distribution in a circumferential polarization state while efficiently reducing a light quantity loss.例文帳に追加

光量損失を良好に抑えつつ周方向偏光状態の輪帯状の照明瞳分布を形成することのできる照明光学装置を用いて、適切な照明条件のもとで微細パターンを忠実に且つ高スループットで転写する。 - 特許庁

The transfer material comprises a first metal layer 101 as a carrier, a second metal layer 103 to be transferred to the board as the wiring pattern, and a release layer 102 for releasably laminating the first and second metal layers of at least three layers.例文帳に追加

キャリアとしての第１の金属層１０１と、配線パターンとして基板へ転写される第２の金属層１０３と、第１および第２の金属層を剥離可能に貼り合わせる剥離層１０２との少なくとも３層を有する転写材である。 - 特許庁

To provide a method and a device for manufacturing a color filter having pattern uniform in size and shape uniformly, stably and highly reproducibly while eliminating fluctuation of the developing time in the manufacture of the color filter by a transfer method.例文帳に追加

転写方式によるカラーフィルタの製造において、現像時間の変動を解消し、カラーフィルタパターンの大きさ及び形状のバラツキの少ない、均一な、安定した再現性のあるカラーフィルタの製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a through-hole structure with a through-hole surely penetrating through with neither a possibility of breaking a transfer pattern of an im-print mold nor a spoiling productivity with a low cost using only the im-print method.例文帳に追加

インプリント金型の転写パターンを破損するおそれがなく、しかもインプリント法のみを用いて低コストで生産性を損なうことなく、確実に貫通する貫通孔を有する貫通孔構造体を製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a stable self alignment type phase shift mask which can prevent deterioration in transfer accuracy caused by multiple reflection on a wafer surface and a light shielding pattern surface, which has excellent phase shift mask characteristics, and which requires a short manufacturing process, and to provide a method for manufacturing the mask.例文帳に追加

ウェハー面と遮光パターン表面で多重反射による転写精度の劣化を防止し、位相シフトマスク特性に優れ、製造工程が短く、安定した自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

After the transfer of the pattern layer, a section whereon the metal film layer 16 is laminated with the transparent ink layer 14 is colored on the transparent ink layer 14 and formed into a color hologram portion demonstrating a brilliant and shining metallic luster on the recesses and projections of the metal film layer 16.例文帳に追加

図柄の転写後、金属薄膜層１６と透明インキ層１４との積層部分は、該透明インキ層１４で着色され、且つ金属薄膜層１６の凹凸で光り輝く金属光沢を呈する着色ホログラム部分となる。 - 特許庁

The operation part 18 extracts a light intensity distribution of the light and dark pattern 21 in the changing direction of the spatial frequency, and determines a contrast transfer function showing a contrast transmissibility in each spatial frequency region based on the light intensity distribution.例文帳に追加

演算部１８は、空間周波数が変化する方向における明暗パターン２１の光強度分布を抽出し、この光強度分布に基づいて、各空間周波数領域におけるコントラスト伝達率を表すコントラスト伝達関数を求める。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a color filter having uniform pattern uniformly, stably and highly reproducibly even by continuous development using a coil-shaped substrate in the manufacture of the color filter by a transfer method.例文帳に追加

転写方式によるカラーフィルタの製造において、コイル状の基板を用いた連続した現像処理であってもカラーフィルタパターンのバラツキの少ない、均一な、安定した再現性のあるカラーフィルタの製造方法、及び製造装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of performing the adjustment of image quality, without causing the productivity of the image forming apparatus to be lowered, by eliminating the cleaning of a reference pattern image formed on the surface of an intermediate transfer body, when adjusting the image quality.例文帳に追加

画質調整の際、中間転写体表面に形成される基準パターン像のクリーニングを省略することにより、画像形成装置の生産性を低下させることなく画質調整を実施することができる画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To correct non-uniformity of exposure illuminance in a non-scanning direction in a scan exposure apparatus which scans an original and a substrate with respect to a projection optical system for transfer and expose a pattern image formed on the original through the projection optical system onto the substrate.例文帳に追加

原版と基板とを投影光学系に対して走査することにより、原版に形成されたパターン像を、投影光学系を介して基板上に転写露光する走査露光装置において、非走査方向の露光照度ムラを修整する。 - 特許庁

To provide a technique that improves productivity on a semiconductor integrated-circuit device by preventing size degradation of transferred patterns to perform highly precise pattern transfer, even if a low-cost mask with an organic photosensitive resin for the light-shielding film is used.例文帳に追加

有機感光性樹脂を遮光膜とする低コストマスクを用いた場合にも、転写パターンの寸法劣化を防止し、高精度なパターン転写を行ない、半導体集積回路装置の生産性を向上させる技術を提供することである。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a piezoelectric device that reduces the contact between a wiring pattern for electroplating, which is exposed while protruding from a side surface of an element mounting member, and a transfer jig and improves the productivity of the piezoelectric device.例文帳に追加

素子搭載部材の側面からはみ出るように露出されている電解めっき用配線パターンが搬送治具に接触することを低減し、圧電デバイスの生産性を向上させることができる圧電デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁

A lower cooling body 29 and an upper cooling body 42 are then pressed to the lower heating plate 25 and the upper heating plate 38 to transfer a pattern onto the material 46, and the heating operation is stopped to allow the material 46 to cool.例文帳に追加

その後、図１（ｃ）に示すように下部冷却体２９及び上部冷却体４２を下部加熱板２５及び上部加熱板３８に押圧して素材４６にパターンを転写するとともに、加熱動作を停止して、素材４６を冷却する。 - 特許庁

This electron beam transfer equipment is provided with an illumination optical system which illuminates a reticle 12 having a pattern to be transferred on a wafer 16 with electron beam, and a projection optical system which projects an electron beam which passes the reticle 12 and is patterned and forms an image on the wafer 16.例文帳に追加

本装置は、ウエハ１６に転写するパターンを有するレチクル１２を電子ビームで照明する照明光学系と、レチクル１２を通過してパターン化された電子ビームをウエハ１６上に投影結像させる投影光学系を備える。 - 特許庁

To the surface 100A on the minute uneven shape transfer side of a molten resin sheet 100 immediately before being contacted with a second roll 12 of a pattern roll, infrared rays are axially radiated in the roll locally in a long strip by an infrared heater 21.例文帳に追加

パターンロールである第２のロール１２と接触する直前の溶融樹脂シート１００の微細凹凸形状転写側の表面１００Ａに、赤外線ヒータ２１によって赤外線をロール軸線方向に長い帯状に局部的に放射する。 - 特許庁

In the solid-state image pickup device 100, a plurality of photoelectric converters 101, 101, and so on are disposed into a matrix form, and a plurality of charge transfer electrodes 111, 112, 113 and 114 are formed into a repeating pattern in the vertical direction on its upper surface.例文帳に追加

固体撮像装置１００では、複数の光電変換部１０１、１０１…がマトリックス状に配置され、その上面に複数の電荷転送用電極１１１，１１２，１１３，１１４が垂直方向に繰り返しパターンで形成されている。 - 特許庁

A reflection-type pattern transfer apparatus, having a beam source for radiating charged particle beams, a first stage for mounting a mask 103 and a second stage for mounting a wafer provides a accurate alignment method for reflecting to the control of a wafer stage 105 and a mask stage 104.例文帳に追加

荷電粒子ビームを照射する線源と、マスクを載置する第１のステージと、ウェハを載置する第２のステージをもつ反射型のパターン転写装置で、ウェハステージ、マスクステージの制御に反映するための高精度なアライメント方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a multilayer wiring substrate, in which failures of adhesion between a wiring circuit layer and an insulating layer are not generated and high planarity of the wiring substrate is kept after the pattern transfer, by preventing oozing of conductive paste for a via-hole conductor to the circumference of the via-hole conductor.例文帳に追加

ビアホール導体における導体ペーストのビアホール導体周辺への浸み出しを防止し、また配線回路層の絶縁層への密着不良が発生せず、さらには転写後の配線基板の平坦度が高い多層配線基板を得る。 - 特許庁

Accordingly, heat from the heater is transmitted through conduction via the substrate for satisfactory heat transfer efficiency, and the substrate having a predetermined thickness is interposed so that a pattern of the heating element of the heater does not appear on the back of the article to permit the article to be uniformly heated.例文帳に追加

ヒータの熱は基材を介して伝導で伝わるので熱伝達効率がよく、しかも所定の厚みを有する基材が介在しているので、ヒータの発熱体のパターンが被処理体の裏面に発現されず、被処理体は均一に加熱される。 - 特許庁

Further, a predetermined display object different from the identification pattern is properly displayed, and the state of the predetermined display object is varied based on the establishment of specified conditions, and then the object is displayed, whereby a predictive display is made to suggest transfer to a predetermined game state.例文帳に追加

そして、識別図柄とは異なる所定表示対象を適宜表示し、所定条件の成立に基づき、その所定表示対象の態様を変化させて表示することにより、所定遊技状態への移行を示唆する予兆表示を行う。 - 特許庁

The surface of a silicon substrate having an oxide film is HF-treated to make it a hydrogen end surface, and after the silicon surface has been activated through cyanuric chloride treatment, a stamp with ink including a nucleophilic group is pressed against this surface to transfer the pattern.例文帳に追加

シリコン基板上の酸化膜を有する表面をＨＦ処理により水素終端表面とし、塩化シアヌル処理により活性化シリコン表面を得た後、求核其を含むインクをつけたスタンプをこの表面に押しつけパターン転写をする。 - 特許庁

To provide a reliable stamper for preventing even thin plate-like bodies hardly causing deformation of irregular patterns of a transfer area easily from being mutually stuck easily, and to provide an irregular pattern formation method using such a stamper and a manufacturing method of an information recording medium.例文帳に追加

転写領域の凹凸パターンが変形しにくく薄い板状体であっても相互に貼り付きにくい信頼性が高いスタンパ、このようなスタンパを用いた凹凸パターン形成方法及び情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a magnetic recording medium having high reliability and capable of reliably removing a resin material used for performing rugged pattern machining of a recording layer, to provide a stamper used for the same, to provide a transfer device and to provide a resin mask forming method.例文帳に追加

記録層を凹凸パターン加工するために用いられた樹脂材料を確実に除去できる信頼性が高い磁気記録媒体の製造方法、これに用いられるスタンパ、転写装置及び樹脂マスク形成方法を提供する。 - 特許庁

This macromolecular optical waveguide is manufactured through a stamper making process for manufacturing a stamper, a transfer process for concavely installing the core pattern 12 by a heat embossing method using the stamper, and a waveguide forming process for providing the core 13 and the clad cover 14.例文帳に追加

この高分子光導波路は、スタンパを製造するスタンパ製造工程、スタンパを使用した加熱エンボス加工法によってコアパターン１２を凹設する転写工程、コア１３及びクラッド蓋部１４を設ける導波路形成工程を経て製造される。 - 特許庁

To provide an information recording medium in which an irregular pattern is formed on the surface of the transparent member of the information recording medium used as a transfer material, an image is formed on the surface opposite to the surface, and a non-transparent medium is added to a toner image side by a post-processing device.例文帳に追加

転写紙として使用する情報記録媒体の透明部材の表面に凹凸パターンを形成し、その反対面に画像を形成し、後処理装置で非透明媒体をトナー画像側に付加する情報記録媒体を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method of semiconductor device comprises a process of forming the transfer pattern including a line in which width or angle varies by performing multiplex exposure using a plurality of masks including patterns 1A, 1B on a different mask substrate.例文帳に追加

半導体装置の製造方法を、異なるマスク基板上に異なるパターン１Ａ，１Ｂを有する複数のマスクを用いて多重露光を行なって、幅又は角度が変化するラインを含む転写パターンを形成する工程を含むものとする。 - 特許庁

To provide a method for scanning exposure by which multiple exposure can be performed even by means of a step-and-scan projection aligner and the coherence factor and exposure of a lighting system can be adjusted at every focal point needed for optimizing the multiple exposure and, in addition, the accuracy of pattern transfer can be improved.例文帳に追加

ステップアンドスキャン方式においても多重露光を行うことができ、且つ多重露光の最適化に必要な焦点位置毎の照明系のコヒーレンシーファクタや露光量の調整を行うことができ、パターン転写精度の向上をはかる。 - 特許庁

A substrate Ba is peeled off from the foil body Bb stuck to the ultraviolet-curing adhesive C1 of the substrate A1, and the minimum quantity of the foil body Bb is transferred to the transfer surface of a substrate A2 in a desired printing pattern.例文帳に追加

被転写基材Ａ１の紫外線硬化型粘着剤Ｃ１に粘着された箔体Ｂｂから基材Ｂａを剥離して、箔転写基材Ａ２の転写面に対して必要最小限の箔体Ｂｂを所望する印刷パターンに転写する。 - 特許庁