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pattern transferの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2432件
The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank 20 storing a liquid resist agent 21 to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加
転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤21を収容した液槽20からノズル22を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁
A printing technique wherein pixel locations that are requested to be marked with only black are identified, black is applied to the identified pixel locations, and non-black color is applied to a subset of the identified pixel locations that correspond to on-pixels of a reference pattern of non-black color pixels having an on-pixel population of at least 20% and a toner transfer efficiency of less than about 20%.例文帳に追加
黒色のみでマークされるように要求されるピクセル位置を識別し、識別されたピクセル位置に黒色を適用し、識別されたピクセル位置のうち、少なくとも20パーセントのオン・ピクセル母集団と少なくとも約20パーセントより少ないトナー転写効率とをもつ非黒色カラーピクセルの基準パターンのオン・ピクセルに対応するサブセットに非黒色カラーを適用する印刷技術である。 - 特許庁
The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank storing a liquid resist agent to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加
転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル22を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁
The image processor is realized by combining respective functions for scan data generation, generates scan data at a high speed by the band memory of small capacity regardless of color/monochrome by transfer using chain DMA (direct memory access) with no interposition of a CPU halfway and can constitute hardware flexible to a specification change, such as a change in the number of nozzles of a print head and in a print pattern.例文帳に追加
この画像処理装置は、スキャンデータ生成の為の各機能を組み合わせて実現し、途中CPUの介在の無いチェーンDMAを用いた転送でカラー・モノクロを問わず小容量のバンドメモリでスキャンデータを高速生成すると共に、印字ヘッドのノズル数や、印字パターンの変更など仕様変更に対して柔軟なハードウェアを構成することができる。 - 特許庁
A center hole buffer area Bi is formed outside a center hole sagging forming area Ai where the sagging DA of the center hole 11G of a master substrate 11 is formed, a recessed/projected pattern P is formed outside the center hole buffer area Bi, and only a stable area is used without using an area where magnetic transfer near the sagging part of the center hole 11G becomes unstable.例文帳に追加
マスター基板11の中心孔11GのダレDAが形成される中心孔ダレ形成領域Aiの外側に中心孔バッファー領域Biを設け、中心孔バッファー領域Biの外側に凹凸パターンPを形成するようにし、中心孔11Gのダレ部近傍の磁気転写が不安定になる領域を使用せず、安定領域のみを使用するようにした。 - 特許庁
To provide a method for producing an embossed endless belt which can be produced simply and promptly at a low cost, can transfer a precise pattern surely, and has a good mold release property during the processing of an embossed sheet, the embossed endless belt produced by using the method, an embossed sheet producing apparatus having the embossed endless belt, and the embossed sheet produced by using the apparatus.例文帳に追加
簡便に、迅速に、かつ低コストで製造できるとともに、精密な模様を確実に転写でき、しかもエンボスシート加工時の離型性がよいエンボスエンドレスベルトの製造方法、この製造方法を用いて製造されたエンボスエンドレスベルト、このエンボスエンドレスベルトを備えたエンボスシート製造装置、およびこの装置を用いて製造されたエンボスシートを提供することにある。 - 特許庁
To provide a liquid droplet discharge apparatus capable of preventing an unnecessary pattern from being formed (plotted) on a work while preventing a work transfer table from being deflected, an electro-optical apparatus manufactured by using the liquid droplet discharge apparatus, a manufacturing method of the electro-optical apparatus using the liquid droplet discharge apparatus, and an electronic apparatus provided with the electro-optical apparatus.例文帳に追加
ワーク搬送テーブルの撓み変形を防止しつつ、ワーク上に不必要なパターンを形成(描画)するのを回避することができる液滴吐出装置、かかる液滴吐出装置を用いて製造される電気光学装置、かかる液滴吐出装置を用いる電気光学装置の製造方法、および、かかる電気光学装置を備える電子機器を提供すること。 - 特許庁
In a method for manufacturing the magnetic recording medium, the UV curable resin material for pattern transfer is used, containing: at least one of 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-ethyl-2-adamatyl acrylate and 1, 3-adamantan dimethanol diacrylate; isobonyl acrylate; a multifunctional acrylate; and a polymerization initiator, or containing at least one of the acrylates, a polymerization initiator and a fluorinated alcohol.例文帳に追加
2−メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも1種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも1つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いた磁気記録媒体の製造方法。 - 特許庁
To provide: a reflection type mask such that the reflection type mask having been used and contaminated has its EUV light reflectivity restored to original reflectivity when the EUV light reflectivity decreases as a result of cleaning with respect to a reflection type mask for EUV exposure used to transfer a mask pattern onto a wafer using EUV light; and a method of repairing the same.例文帳に追加
本発明は、EUV光を用いてマスクパターンをウェハ上に転写するためのEUV露光用の反射型マスクに関し、使用により汚染した反射型マスクを、洗浄することにより生じるEUV光反射率の低下に対し、EUV光反射率を元の反射率に復元することが可能な反射型マスクおよびその修復方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁
The semiconductor device is manufactured by using the UV curable resin material for pattern transfer containing at least one of 2-methyl-2-adamantyl acrylate, 2-ethyl-2-adamantyl acrylate and 1,3-adamantane dimethanol diacrylate, and isobornyl acrylate, a multifunctional acrylate and a polymerization initiator, or at least one of the acrylates, a polymerization initiator and a fluorine-based alcohol.例文帳に追加
2−メチルー2ーアダマンチルアクリレート、2-エチルー2-アダマンチルアクリレート、及び1,3−アダマンタンジメタノールジアクリレートのうち少なくとも1種、イソボルニルアクリレート、多官能アクリレート、及び重合開始剤を含有するか、または上記アクリレートの少なくとも1つ、重合開始剤、及びフッ素系アルコールを含有するパターン転写用紫外線硬化性樹脂材料を用いて半導体装置を製造する。 - 特許庁
To provide an imprint mold structure which efficiently and uniformly transfers a pattern by enhancing flow of a composition of an imprint resist layer when the imprint mold structure is pressed against the imprint resist layer, an imprint method which is improved in transfer accuracy by using the imprint mold structure, and a magnetic recording medium which is improved in recording and reproduction properties.例文帳に追加
インプリントレジスト層に押し当てる際に、前記インプリントレジスト層の組成物の流動を促進して、均一な転写を効率よく行うことができるインプリント用モールド構造体、及び該インプリント用モールド構造体を用いることによって転写精度を向上させたインプリント方法、並びに、記録特性、及び再生特性を向上させた磁気記録媒体の提供。 - 特許庁
To output additional information on to a transfer paper by applying an explicit printing operation by a digital signal to the blank exposure means of an analogue electrophotographic copying machine, to save the labor for a maintenance, etc., and also, to enable to print user's optional pattern without causing the drastic increase of a cost.例文帳に追加
アナログ式電子写真複写機のブランク露光手段にデジタル信号による明示的な印字操作を付与することにより、転写紙上に付加的な情報を出力することができ、大幅なコストアップを招来せずに、メンテナンス等の手間を軽減し、且つユーザーの任意のパターンを印字可能とする電子写真複写機及びプロセス制御方法並びに記憶媒体の提供。 - 特許庁
To provide a master information carrier on the surface of a nonmagnetic base of which a shape pattern corresponding to a digital information signal to be magnetically transfer-recorded on magnetic recording media is formed in the form of a ferromagnetic thin film and whose production management required to maintain and manage the signal quality of the magnetic recording media and enhance the yield can be rationally performed.例文帳に追加
磁気記録媒体に磁気転写記録すべきディジタル情報信号に対応した形状パターンが強磁性薄膜の形態で非磁性基体の表面に形成されているマスター情報担体において、磁気記録媒体の信号品質を維持、管理したり歩留まり改善を行う上で必要となるマスター情報担体の製品管理を合理的に行えるようにする。 - 特許庁
In this laser marking device where laser beam emitted from a laser beam source is guided onto a mask through an optical system accommodated in a shielding structure to transfer a pattern provided on the mask to a subject to be transferred, a holder 31 capable of holding a screen 35 for copying a shape of laser beam can be inserted into a correct position in the shielding structure.例文帳に追加
レーザ光源から射出されたレーザ光を所定の遮蔽構造12内に収容された光学系を介してマスク上に導き、そのマスクに設けられたパターンを転写対象物に転写するレーザマーキング装置において、レーザ光のビーム形状を写し取るためのスクリーン35を保持可能なホルダ31を、前記遮蔽構造内の定位置に挿入可能とする。 - 特許庁
A photomask includes a substrate, a film part provided on the principal plane of the substrate and having light transmissivity lower than light transmissivity of the substrate, a pattern provided on the film part and transferred to a transferred body, and a detection mark which is provided on the film part and suppresses the intensity of transmitted light so as to suppress a transfer to the transferred body.例文帳に追加
実施形態に係るフォトマスクは、基板と、前記基板の主面に設けられ、前記基板の光の透過率よりも低い光の透過率を有する膜部と、前記膜部に設けられ、被転写体に転写されるパターンと、前記膜部に設けられ、前記被転写体への転写が抑制されるように透過光の強度が抑制された検出マークと、を備えている。 - 特許庁
To prevent a short circuit and disconnection due to large deformation of bonding wires for connecting electrodes of semiconductor chips and the conductor pattern of a printed wiring board in a semiconductor device manufacturing method, wherein the semiconductor chips are mounted face up on the printed wiring board formed with a protective insulation film by using a film-like resist, and then the plurality of semiconductor chips are collectively sealed by transfer molding.例文帳に追加
フィルム状レジストを用いて保護絶縁膜を形成したプリント配線板に半導体チップをフェースアップ実装し、トランスファモールドで前記複数の半導体チップを一括して封止する半導体装置の製造方法において、前記半導体チップの電極とプリント配線板の導体パターンを接続するボンディングワイヤの大きな変形による短絡、断線を防ぐ。 - 特許庁
To provide an inorganic particle-containing organic resin composition capable of forming a member having an excellent pattern form and a high aspect ratio, excellent in burning property of the organic component in baking process and capable of producing a highly reliable display panel, a transfer film formed by the composition and a method for producing a member for a display panel.例文帳に追加
優れたパターン形状および高アスペクト比の部材を形成することができ、焼成工程における有機成分の燃焼性に優れ、信頼性の高いディスプレイパネルを製造することができる無機粒子含有樹脂組成物、該組成物から形成される樹脂層を有する転写フィルムおよび該転写フィルムを用いたディスプレイパネル用部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁
In a resist film forming unit 23, which forms a resist film by a dry process with a substrate G, there are provided development process unit 24 which exposes the resist film formed on the substrate to a prescribed pattern before development in a drying process, and a transfer mechanism 32 for transferring the substrate G to the resist film forming unit 23 and the development process unit 24, which are configured as one body.例文帳に追加
基板Gに対してドライプロセスによりレジスト膜を形成するレジスト膜形成ユニット23と、基板上に形成されたレジスト膜を所定パターンに露光後、ドライプロセスにより現像する現像処理ユニット24と、これらレジスト膜形成ユニット23および現像処理ユニット24に対する基板Gの搬送を行う搬送機構32とを具備し、これらが一体的に構成されている。 - 特許庁
In a stamper 3 for minute pattern transfer having a minute structure layer 2 on a support base 1, the minute structure layer 2 is a polymer of a resin composition including a silsesquioxane derivative having a plurality of polymerizable functional groups (functional groups selected from among a vinyl group, an epoxy group, an oxetanyl group, a vinyl ether group and a (meta)acrylic group) as a primary component.例文帳に追加
本発明は、支持基材1上に微細構造体層2を有する微細パターン転写用スタンパ3において、前記微細構造体層2は、複数の重合性官能基(ビニル基、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルエーテル基及び(メタ)アクリル基から選ばれる官能基)を有するシルセスキオキサン誘導体を主成分とする樹脂組成物の重合体であることを特徴とする。 - 特許庁
The method for producing the molding includes the process in which a photo-after-curable resin composition is applied on a surface with a transfer pattern formed in at least one mold from among a set of molds, the process in which the resin composition is irradiated with light, and the process in which the molds are engaged with each other before the resin composition is cured after the irradiation.例文帳に追加
1組の成型用金型のうち、少なくとも一方の成型用金型における転写パターンが形成された面に光後硬化性樹脂組成物を塗布する工程と、前記光後硬化性樹脂組成物に光を照射する工程と、光照射後、光後硬化性樹脂組成物の硬化前に成型用金型を嵌合する工程とを有する成型体の製造方法。 - 特許庁
This particulate-adsorbed pattern-formed material is formed by the method comprising a step to imagewisely form the region having polymerization initiating ability on the surface of the substrate , a step to produce a graft polymer having a nonionic polar group in the region by atom transfer radical polymerization and a step to make particulate adsorbed on the produced graft polymer.例文帳に追加
基板表面に重合開始能を有する領域を画像様に形成する工程と、該領域に原子移動ラジカル重合を用いて非イオン性極性基を有するグラフトポリマーを生成させる工程と、該グラフトポリマーに微粒子を吸着させる工程と、を含むことを特徴とする微粒子吸着パターン形成方法、及びそれを用いて作製された微粒子吸着パターン材料。 - 特許庁
In the manufacturing method of an electroluminescent element in which a hole transport layer 4 and an electron transport luminous layer 5 are provided as a layer having a light-emitting region between a transparent picture element electrode 2 and a negative electrode 10, at least the electron transport luminous layer 5 is formed in a prescribed pattern by the transfer of its constituting material by the letterpress reverse-offset method.例文帳に追加
透明画素電極2と陰極10との間に、発光領域を有する層としてホール輸送層4及び電子輸送性発光層5が設けられた電界発光素子の製造方法において、少なくとも電子輸送性発光層5を、その構成材料の凸版反転オフセット法による転写で所定パターンに形成することを特徴とする、電界発光素子の製造方法。 - 特許庁
The transfer sheet 1 includes: a base sheet 2 having smoothness; a metal thin film layer 3 formed on the partial or entire base sheet so as to reflect the smoothness of the base sheet; the transparent conductive film layer 4 formed on the metal thin film layer and containing the graphene as the main component; and a routing circuit pattern layer 5 formed on a part of the transparent conductive film layer.例文帳に追加
平滑性を備える基体シート2と、前記基体シートの平滑性を反映するように基体シートの上に部分的又は全面に形成される金属薄膜層3と、前記金属薄膜層の上に形成されグラフェンを主成分とする透明導電膜層4と、前記透明導電膜層の一部上に形成される引き回し回路パターン層5と、を備える転写シート1。 - 特許庁
To provide an endless belt and its manufacturing method for restraining the occurrence of an attraction failure of a transfer material and an image failure in cardboard of a small size, which is caused when electric resistance is low, while preventing pollution by the paper powder of an endless belt surface and the generation of a polka-dot pattern when forming a sample toner image, and caused when the electric resistance is high.例文帳に追加
電気抵抗が高いことに起因する、エンドレスベルト表面の紙粉による汚染およびサンプルトナー画像形成時の水玉模様の発生を防止すると同時に、電気抵抗が低いことに起因する、転写材の吸着不良および小サイズの厚紙での画像不良の発生を抑制するエンドレスベルト、およびその製造方法の提供することにある。 - 特許庁
The stepping motor control circuit is provided with a comparing circuit composed of a period setting register and a counter whose count value is compared with a set value stored in the period setting register, and a data transfer register 30 provided with addresses to and from which exciting patterns are transferred, and addresses to and from which pulse period data is transferred, and performs both through up and through down with one exciting pattern table.例文帳に追加
ステッピングモータ制御回路において、周期設定レジスタと該周期設定レジスタに記憶された設定値とを比較するカウンタとからなる比較回路と、励磁パターンを転送する転送元アドレスと転送先アドレスと、パルス周期データを転送する転送元アドレスと転送先アドレスを備えるデータ転送レジスタ30とを備え、一つの励磁パターンテーブルでスルーアップとスルーダウンの両方を行う。 - 特許庁
To provide an inorganic powder-containing resin composition which achieves high solvent resistance of a pattern after development and can form a black matrix suitable for batch formation of a plurality of members; a transfer film having an inorganic powder-containing resin layer comprising the inorganic powder-containing resin composition; and a method for manufacturing a flat panel display in which a plurality of members including a black matrix are batch-formed.例文帳に追加
本発明は、現像後のパターンの耐溶剤性が高く、複数部材の一括形成に適したブラックマトリクスを好適に形成することができる無機粉体含有樹脂組成物、当該無機粉体含有樹脂組成物からなる無機粉体含有樹脂層を有する転写フィルム、および、ブラックマトリクスを含む複数部材を一括形成するフラットパネルディスプレイの製造方法を提供すること。 - 特許庁
The OVD transfer foil is characterized in that an OVD layer is made by forming a fine uneven pattern by the cured material of a photocurable resin with an epoxy acrylate resin synthesized by reacting methacrylate compound having a carboxyl group in the molecule or a methacrylate compound having a hydroxyl group in the molecule with a glycidyl type epoxy compound having at least one or more hydroxyl groups in the molecule as the main component.例文帳に追加
OVD層が、分子中にカルボキシル基を有するメタクリル酸化合物もしくは分子中に水酸基を有するメタクリレート化合物と、分子中に少なくとも水酸基を1つ以上有するグリシジル型エポキシ化合物とを反応させて合成したエポキシアクリレート樹脂を主成分とした光硬化性樹脂の硬化物により微細凹凸パターンを形成してなることを特徴とするOVD転写箔である。 - 特許庁
To provide a method and device for manufacturing an absorption body, capable of preventing accumulations (molding of raw material) obtained by sucking and accumulating the raw material in recesses of a rotary drum from falling on a transfer roll and the arrangement of the accumulations on the roll from being disturbed, and efficiently manufacturing the absorption body wherein the plurality of accumulations (molding of raw material) are arrayed in a predetermined pattern.例文帳に追加
回転ドラムの凹部に原料を吸引堆積させて得られる堆積物(原料の成形物)がトランスファーロール上で倒れたり、該ロール上で堆積物の配置に乱れが生じたりすることを防止することができ、複数の堆積物(原料の成形物)が、所定のパターンに配列した吸収体を効率良く製造することのできる吸収体の製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁
The color filter comprises a transparent substrate, a characteristics change layer for changing the characteristics by the action of photocatalyst formed on the transparent substrate accompanied by energy irradiation, the light-shielding part formed on the characteristic change layer by a heat transfer method and pixel parts formed along a pattern, in which the characteristics of the characteristics change layer is changed.例文帳に追加
上記目的を達成するために、透明基材と、前記透明基材上に形成されたエネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する特性変化層と、前記特性変化層上に熱転写法により形成された遮光部と、前記特性変化層の特性が変化したパターンに沿って形成された画素部とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供することにより上記課題を解決する。 - 特許庁
In the optical element transfer foil, at least the film-like base material, a release layer formed by curing a first radiation cured resin, and a relief pattern layer formed by curing a second radiation cured resin are laminated in this order, and wavelength of radiation which hardens the first radiation cured resin is shorter than wavelength of radiation which hardens the second radiation cured layer.例文帳に追加
少なくとも、フィルム状の基材と、第一の放射線硬化型樹脂を硬化させた離型層と、第二の放射線硬化型樹脂を硬化させたレリーフパターン層がこの順に積層された光学素子転写箔であって、前記第一の放射線硬化型樹脂を硬化させた放射線の波長が、前記第二の放射線硬化型樹脂を硬化させた放射線の波長より短いことを特徴とする光学素子転写箔。 - 特許庁
The radiation sensitive composition contains (A) a colorant, (B) an alkali-soluble resin, (C) a polyfunctional monomer and (D) a photopolymerization initiator, and the erosion rate of the section shape of a pattern formed from the radiation sensitive composition is ≤ 30% or the radiation sensitive composition contains the components (A)-(D) and (E) a chain transfer agent.例文帳に追加
カラー液晶表示装置用感放射線性組成物は、(A)着色剤、(B)アルカリ可溶性樹脂、(C)多官能性単量体および(D)光重合開始剤を含有する感放射線性組成物であって、該感放射線性組成物から形成されたパターンの断面形状の浸食率が30%以下であることを特徴とするか、または前記(A)〜(D)および(E)連鎖移動剤を含有することを特徴とする。 - 特許庁
After performing a variation pattern adjustment control and a phase adjustment control, optical write timing control is performed, wherein predetermined toner images are formed on respective photoreceptors and transferred to an intermediate transfer belt 41, thereby obtaining an image for detecting positional displacement comprising the toner images, and then optical write timing for each photoreceptor is adjusted on the basis of the detection timing of each toner image in the image for detecting positional displacement.例文帳に追加
変動パターン調整制御と、位相調整制御とを実施した後に、予め定められたトナーをそれぞれの感光体に形成して中間転写ベルト41に転写することでそれらトナー像からなる位置ズレ検知用画像を得た後、位置ズレ検知用画像内の各トナー像の検知タイミング基づいてそれぞれの感光体に対する光書込タイミングを調整する光書込タイミング調整制御を実施するようにした。 - 特許庁
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