「pattern transfer」に関連した英語例文の一覧と使い方(19ページ目) - Weblio英語例文検索

To improve a pattern in joining accuracy, in an exposure method of division transfer system in which an electron beam is used.例文帳に追加

電子線を用いたいわゆる分割転写方式の露光方法において、パターンのつなぎ合わせ精度を向上させる。 - 特許庁

At the same time, the light from the upper side of the flange part is radiated to transfer the spiral groove pattern onto the upper surface of the dynamic pressure bearing 2.例文帳に追加

同時に、鍔部の上側から光を照射してスパイラル溝パターンを動圧軸受２の上側面に転写する。 - 特許庁

Thus, the need of uselessly prolonging the distance between the transfer transistors is eliminated and the pattern occupancy area of the row decoder is reduced.例文帳に追加

よって、転送トランジスタ間の距離を無駄に広げる必要がなくなり、ロウデコーダのパターン占有面積を小さくできる。 - 特許庁

A mask blank is provided, including a resist film formed on a substrate having a thin film, the thin film to be served as a transfer pattern.例文帳に追加

転写パターンとなる薄膜が形成された薄膜付き基板上にレジスト膜が形成されたマスクブランクスである。 - 特許庁

A tendency of inducing wiring failures in a design layout pattern of a semiconductor device by lithography and processing is quantified as a score; whether the design layout pattern is good or not is discriminated by the score; and if the pattern is discriminated as good, a transfer layout pattern transferred from the design layout pattern is formed on a semiconductor substrate.例文帳に追加

リソグラフィとプロセスによる半導体装置の設計レイアウトパターンでの配線不良の発生しやすさをスコアとして定量化し、このスコアに基づいて設計レイアウトパターンの良否を判定し、この良否の判定が良であれば設計レイアウトパターンを転写した転写レイアウトパターンを半導体基板上に形成する。 - 特許庁

A flaw on an intermediate transfer belt 31 is detected at a driving speed of the intermediate transfer belt 31 greater than a rotational speed of the intermediate transfer belt 31 when an image is normally formed or a correction pattern image 62 formed on the intermediate transfer belt 31 is detected.例文帳に追加

中間転写ベルト31上の傷を該中間転写ベルト31の駆動速度を通常の画像形成動作を行なう時や中間転写ベルト31上に形成された補正パターン画像62を検知する時の中間転写ベルト31の回転速度よりも速くして検知するように構成したことを特徴とする。 - 特許庁

In a image forming apparatus, a sensor 8 makes an S-wave incident as a measuring beam to an intermediate transfer belt 4 (a substrate of the intermediate transfer belt 4 or a toner pattern 41 on the intermediate transfer belt 4), and detects a P-wave component and an S-wave component of reflected light from the intermediate transfer belt 4.例文帳に追加

画像形成装置において、センサ８は、測定光としてＳ波を中間転写ベルト４（中間転写ベルト４の下地、または中間転写ベルト４上のトナーパターン４１）へ入射させ、中間転写ベルト４からの反射光のＰ波成分とＳ波成分とを検出する。 - 特許庁

The recording device records a test pattern to detect a difference in the transfer amount of the sheet material before it gets out from the transfer roller and the pinch roller and after it gets out, and corrects the transfer amount after the sheet material gets out from the transfer roller and the pinch roller on the basis of the result of recording.例文帳に追加

また、シート材が搬送ローラーおよびピンチローラーから外れる前と、外れた後のシート材の搬送量の差を検出するためのテストパターンを記録し、この記録結果に基づいて、シート材が搬送ローラーおよびピンチローラーから外れた後の搬送量を補正する。 - 特許庁

Since a transfer roller is fouled, the secondary transfer and a transfer belt are separated and detached by a contact and separation mechanism while the test pattern written between the papers passes secondary transfer.例文帳に追加

中間転写ベルト上の通常画像は、２次転写部で通紙される媒体に転写されるが、テストパターンは無通紙で２次転写部を通り、転写ローラを汚すので、紙間に書込んだテストパターンが２次転写を通過する間、２次転写部と転写ベルトを接離機構で離脱させる。 - 特許庁

A color sensor 29 for reading a patch pattern formed on a transfer material 2 in order to control the density or the color is used also as a sensor for detecting the presence or absence of the transfer material 2, and transfer-jamming is detected based on whether or not the transfer material is detected by this sensor at a prescribed timing.例文帳に追加

濃度または色度制御のために、転写材２上に形成されたパッチパターンを読み取るカラーセンサ２９を、転写材２の有無を検知するセンサに兼用し、このセンサにより所定のタイミングで転写材が検知できるかどうかにより、搬送ジャムを検知する。 - 特許庁

To provide a transfer method which allows any person to easily make out an copied or printed transfer sheet bearing a transfer pattern or the like to his liking or the like with the help of a color copying machine or a color printer using a resin toner and readily transfers an image to a medium of whatever material, and a transfer sheet.例文帳に追加

誰でもが気軽に樹脂トナーを用いたカラーコピー機やカラープリンター等を用いて、自分の好みの転写模様等がコピーやプリントされた転写シートを作成し、どんな材質のものにでも容易に転写することができる転写方法および転写シートを提供する。 - 特許庁

To provide a process cartridge capable of attaining stable transfer by preventing the appearance of a discharge pattern on a thin transfer medium and the appearance of a ghost on a thick transfer medium at a transfer process with a simple apparatus configuration and at low cost, and to provide an image forming apparatus equipped with the process cartridge.例文帳に追加

簡易な装置構成により低コストで、転写時において、薄い転写媒体の放電模様の発生および厚い転写媒体のゴーストの発生を防止して、安定した転写を達成することのできる、プロセスカートリッジ、および、そのプロセスカートリッジを備える画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a stamper for micropattern transfer which is a soft stamper having a microstructure layer in which release processing is not needed and pattern transfer accuracy in repetitive transfer is not deteriorated.例文帳に追加

本発明の課題は、本発明の課題は、離型処理が不要で、かつ繰り返し転写におけるパターンの転写精度が劣化しない微細構造体層を有するソフトスタンパである微細パターン転写用スタンパを提供することにある。 - 特許庁

To avoid transfer failure by preventing members constituting a vacuum molding chamber from being deformed, in a transfer apparatus that transfers a micro transfer pattern formed in a die to an article to be molded in the vacuum molding chamber.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを真空成型室内で被成型品に転写する転写装置において、真空成型室を構成している部材の変形を防止することにより転写不良の発生を回避する。 - 特許庁

To provide a mold which is capable of performing accurate transfer with no residual film in a product, in a mold which is used in a transfer method for transferring a fine transfer pattern formed in the mold to the product to be molded.例文帳に追加

転写用の型に形成されている微細な転写パターンを被成形品に転写する転写方法に使用される型において、被成形品に形成される残膜を無くし正確な転写を行うことができる型を提供する。 - 特許庁

To realize a practical IC test system and a data transfer method in the IC test system in which a suitable system corresponding to pattern data is selected in the conventional transfer system and the transfer speed is improved.例文帳に追加

本発明の課題は、従来の転送方式をパタンデータに応じた適切な方式を選択し、かつ転送速度の向上を図った実用的なＩＣテストシステム及びＩＣテストシステムにおけるデータ転送方法を提供することである。 - 特許庁

To obtain a photosensitive transfer film for a plasma display panel capable of forming a pattern through at least transfer, exposure, development and baking steps, capable of easily forming a pattern having high dimensional accuracy and excellent in adhesion to a substrate.例文帳に追加

少なくとも転写、露光、現像、焼成の各工程を経て、パターンを形成することができ、簡便に寸法精度の高いパターンを形成することができ、基板への密着性に優れたプラズマディスプレイパネル用感光性転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

This image forming device is, let transfer the patch pattern on the image carrier 1 in front of a position that a cleaning member 6 is brought into contact with an parted therefrom, with regard to an intermediate transfer body 2, and the patch pattern on the image carrier is suppressed to be transferred on the said position of the image carrier 1.例文帳に追加

この発明は、中間転写体２に対して、クリーニング部材６が接触してから離反する位置よりも前に像担持体１上のパッチパターンを転写し、かつ前記位置には像担持体１上のパッチパターンを転写しないものである。 - 特許庁

The pattern image is detected by the detecting means 60 and 61 between the most downstream transfer area Ta and the contact start position C1, so that the pattern image is accurately detected before it is deteriorated because the intermediate transfer belt 31 is laid over the roller 32.例文帳に追加

検知手段６０、６１は、最下流転写領域Ｔａと、接触開始位置Ｃ_1 との間において、パターン画像を検知するので、中間転写ベルト３１がローラ３２にかかることでパターン画像が劣化する前に正確に検知できる。 - 特許庁

The transfer sheet 10 is composed by forming a peeling layer 12, a black dye pattern layer 13 being the pattern layer containing a black dye, a black pigment pattern layer 14 containing a carbon pigment, and an adhering layer 15 in series on the base body sheet 11.例文帳に追加

基体シート１１上に、剥離層１２、黒色染料を含む絵柄層である黒色染料絵柄層１３、カーボン顔料を含む黒色顔料絵柄層１４と接着層１５を順に形成した転写シート１０である。 - 特許庁

In this case, linkage pattern data or linkage sound data Cn are reproduced and inserted or added during a period (linkage period Tc) from an independent reproduction end (ts) of the pattern data Pf until transfer (tr) to the reproduction of the pattern data Pm.例文帳に追加

その際、パターンデータＰｆの単独再生打ち切り（ｔｓ）からパターンデータＰｍの再生への移行（ｔｒ）までの間（つなぎ期間Ｔｃ内）に、つなぎパターンデータ又はつなぎ音データＣｎが再生され挿入或いは付加される。 - 特許庁

Namely, the edge position of the device pattern 1 is changed so as to eliminate the step 1a, and the line width of the assist pattern 2 is changed so as to adjust a change in transfer shape resulting from the elimination of the step 1a from the device pattern 1.例文帳に追加

デバイスパターン１は、段差１ａを消失させるように、そのエッジ位置を移動させ、アシストパターン２は、デバイスパターン１から段差１ａを消失させたことによるその転写形状の変化を調整するように、線幅を変化させる。 - 特許庁

The manufacturing method comprises steps of forming a photoresist pattern of irregular thickness through a mask equipped with a dual slit pattern, and finishing the transfer of a two-layered conductor layer pattern used for forming a source, a drain, and channels by the use of only one mask.例文帳に追加

この製造方法は、デュアルスリットパターンを具えたマスクにより厚さが不均一なホトレジストパターンを形成し、一つのマスクを使用して、ソース、ドレインとチャネルの形成に用いられる二層の導体層のパターン転移を完成する。 - 特許庁

In this tandem-type image forming apparatus, the image forming condition is decided on the basis of each result of detecting the density pattern of respective reference patterns of pattern blocks PB1 and PB2, obtained by repeating the pattern block formation twice on a transfer transport belt 60.例文帳に追加

転写搬送ベルト６０上にパターンブロックを２回繰り返して形成して得たパターンブロックＰＢ１、ＰＢ２における各基準パターン像の濃度パターンを検知した結果に基づいて、作像条件を決定させるようにした。 - 特許庁

The transfer selectivity of the first complex reference light is made larger than that of the second complex reference light to sequentially decide the position where the first interference pattern is stored by using the second interference pattern as a servo pattern.例文帳に追加

第２干渉縞をサーボパターンとして用いて、第１干渉縞が格納されている位置を順次決定するように、第１複素参照光の移動選択度が第２複素参照参照光の移動選択度より大きくなっている。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist underlay film having a function as an antireflection film as well as excellent pattern transfer performance and etching resistance, and causing no bend in a pattern during transferring a fine pattern, and to provide a composition for a resist underlay film used for the above method, and a pattern forming method.例文帳に追加

反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a nanoimprint mold manufacturing method and a resist pattern formation method capable of preventing a resist pattern shape from deteriorating even in an atmosphere in which oxygen exists and forming a fine transfer pattern in means for improving dry etching resistance of a resist pattern via electron beam irradiation.例文帳に追加

電子線照射によるレジストパターンのドライエッチング耐性を向上させる手段において、酸素が存在する雰囲気中でも、レジストパターンの形状劣化を防止し、微細な転写パターンを形成することを可能とするナノインプリント用モールドの製造方法およびレジストパターンの形成方法を提供する - 特許庁

It is possible thereby that printing from a thermal transfer ribbon is not fixed on the pattern layer containing the silicone component within the definite range, and the ribbon printing is fixed on the protective layer with no pattern layer, and as a result, the ribbon printing is fixed with a shape of a negative pattern of the pattern layer.例文帳に追加

これにより、上記の一定範囲でシリコーン系成分を含有するパターン層の上には、熱転写リボンからの印字が定着せず、パターン層のない保護層上に、リボン印字が定着し、結果として、パターン層のネガパターンの形状でリボン印字部が定着される。 - 特許庁

The mask 130 is provided for laser thermal transfer including a first pattern part 20 and a second pattern part 30 formed in a part including a top within at least one side of the first pattern part, and characterized in that the second pattern part has an area of 8 to 8,500 μm^2.例文帳に追加

第１パターン部２０と、第１パターン部の少なくとも１辺の中で頂点を含む一部分に形成される第２パターン部３０とを含み、第２パターン部は８〜８５００μｍ^２の面積を有することを特徴とするレーザ熱転写用マスク１３０が提供される。 - 特許庁

To distinguish a normal pattern and a noise pattern from each other, to accurately correct color slippage and to obtain an image of high printing quality without forming and detecting a registration pattern detected with dust and dirt and scratches again at forming the registration pattern on an intermediate transfer belt.例文帳に追加

中間転写ベルト上のレジストレーションパターン形成時にゴミ、埃また傷等を含んで検出されたパターンを、再度形成、再度検出することなく、正規のパターンとノイズパターンを判別し、正確な色ずれ補正を行うことができ、印字品質の高い画像を得る事ができる。 - 特許庁

To provide a plate allowing a pattern-like separation layer and a pattern layer to be simply formed without using etching, having a beautiful transfer shape and capable of responding to a minute pattern because the separation layer and the pattern layer has an identical shape; to provide a manufacturing method of the plate; and to provide a board and a manufacturing method of the board.例文帳に追加

パターン状の剥離層およびパターン層をエッチングによらずに簡単に形成でき、しかも、剥離層とパターン層が同一形状であるので、転写形状が綺麗で微細パターンに対応できる版、版の製造方法、基板および基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a transfer apparatus which can improve transfer efficiency and, at the same time, can realize high-accuracy pattern formation and can suppress the thermal deformation of a transferred product.例文帳に追加

転写能率を向上することができるとともにパターンの形成を精度よく行うことができ、製品の熱による変形を抑制することができる転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a light shielding pattern using a light shielding transfer film which enables low-temperature film formation and easily and inexpensively obtaining light shielding property by simple film transfer.例文帳に追加

低温成膜が可能で簡便なフィルムの転写により遮光性を容易に安価に得ることのできる遮光性転写フィルムを用いた遮光性パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

To measure the shift amount of the whole transfer belt without degrading productivity during continuous printing in a technology for forming a toner pattern image for correcting color shift on the transfer belt.例文帳に追加

転写ベルト上に色ずれ補正用のトナーパターンを画像形成する技術において、連続印刷中に生産性を落とすことなく転写ベルト全体のずれ量を適切に測定する。 - 特許庁

By using the intermediate transfer body having a pattern consisting of lyophilic and lyophobic sections on the surface thereof, the reactive liquid is uniformly applied to the intermediate transfer body to form a layer having a suitable thickness.例文帳に追加

親液部と撥液部とからなるパターンを表面に有する中間転写体を用いることで、反応液が適切な膜厚かつ均一に中間転写体に付与されるようにする。 - 特許庁

The controlling means discriminates the using conditions of the development means and the transfer-receiving means, and controls the toner image pattern formed on the transfer-receiving means on the basis of the discriminated using conditions.例文帳に追加

制御手段は、現像手段及び被転写手段の使用状態を判別し、判別された使用状態に基づいて被転写手段に形成されるトナー画像パターンを制御する。 - 特許庁

The articles 12 are supplied by a supply conveyer 22, the articles 12 on the supply conveyer 22 are lifted and transferred onto a transfer part A2 corresponding to the array of the stacking pattern by a transfer means 14.例文帳に追加

供給コンベヤ22により物品12を供給し、移載手段14により、供給コンベヤ22上の物品12を持ち上げるとともに、積付パターンの配列に対応して移載部A2に移載する。 - 特許庁

In addition, the pattern of the second impurity area 62 ends in an area governed by the final electrode 64 of a plurality of vertical transfer electrodes which is the nearest to the horizontal transfer channel 30.例文帳に追加

また、第２不純物領域６２のパターンが、複数の垂直転送電極のうち最も水平転送チャネル３０寄りの最終電極６４が支配する領域で終端している。 - 特許庁

To suppress the occurrence of a transfer defect when transferring a fine transfer pattern formed on a planar portion of a mold to one surface in a thickness direction of a planar molded product.例文帳に追加

型の平面状の部位に形成されている微細な転写パターンを、平板状の被成型品の厚さ方向の一方の面に転写するときに、転写不良の発生を抑制する。 - 特許庁

A surface inspection/magnetic transfer device 10 equipped with a magnetic transfer part 14 for magnetically transferring a servo pattern on a magnetic recording medium is disposed in a clean room 300 using a downflow system.例文帳に追加

磁気記録媒体にサーボ・パターンを磁気転写する磁気転写部１４を備えた表面検査・磁気転写装置１０を、ダウンフロー方式を採用したクリーンルーム３００内に配置する。 - 特許庁

An occupation area rate of the flat part 16a is 50% or more and 70% or less to suppress the occurrence of face transfer in which a recessed and projecting pattern is left as a transfer trace on a web side.例文帳に追加

平坦部１６ａの占有面積率を５０％以上７０％以下にすることにより、凹凸パターンがウェブ側に写り跡として残る面写りの発生が抑制される。 - 特許庁

In the transfer process, the cylindrical plate 43 is made to turn around a cylindrical axis center to transfer the paste material on a work W and form a printing pattern P1.例文帳に追加

転写工程では、ペースト材料を担持させた円筒版４３を円筒軸中心に回転させて、当該ペースト材料をワークＷ上に転写し、印刷パターンＰ１を形成する。 - 特許庁

A code corresponding to the mask pattern is allocated to the block, and respective blocks are transferred from a second data transfer part 25 to a software processing part 3 by predetermined order and timing following transfer rule information.例文帳に追加

そして、このマスクパターンに応じた符号を割り当て、第２データ転送部２５から転送ルール情報に則った所定の順序とタイミングでソフトウェア処理部３に転送する。 - 特許庁

To provide a photosensitive transfer material exhibiting an excellent residual ratio of a pattern structure formed by transfer and development and capable of easily and efficiently forming a member for a liquid crystal display element.例文帳に追加

転写・現像により形成したパターン構造物の残存率に優れ、液晶表示素子用部材を容易にかつ効率良く形成可能な感光性転写材料を提供する。 - 特許庁

A transfer electrode 6 formed on a vertical transfer 4 is embedded by a tungsten film 9, and then a resist pattern is formed on the tungsten film using general-purpose photolithography technology.例文帳に追加

垂直転送部４上に形成された転送電極６をタングステン膜９で埋め込みを行い、汎用のフォトリソグラフィー技術を用いてタングステン膜上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁